有机物M是有机合成的重要中间体，制备M的一种合成路线如下（部分反应条件和试剂略去）。
已知：①A的密度是相同条件下H2密度的38倍，其分子的核磁共振氢谱中有3组峰；
②
请回答下列问题：
（1）A的结构简式为___________________，M的分子式为_____________________。
（2）G+D→H的化学方程式为___________________________。
（3）H不可能发生的反应为_______________（填编号）。
A.加成反应 B.氧化反应 C.取代反应 D.消去反应
（4）同时满足下列条件的E的同分异构体有_________________种。
①能与FeCl3溶液发生显色反应
②能与NaHCO3反应
③含有—NH2
④苯环上有处于对位的取代基
（5）参照上述合成路线，以
为原料（无机试剂任选），设计制备
的合成路线：________________________。
高三化学简答题中等难度题
有机物M是有机合成的重要中间体，制备M的一种合成路线如下（部分反应条件和试剂已略去）
已知： ①A的密度是相同条件下H2密度的38倍；其分子的核磁共振氢谱中有3组峰；
②
③
请回答下列问题：
（1）B的化学名称为______________。A中官能团的电子式为________________。
（2）C中共面的原子最多有________个。I的结构简式为_____________________。
（3）F→G的化学方程式为________________________________________________。
（4）M不可能发生的反应为_______________（填选项字母）
A.加成反应 B.氧化反应 C.取代反应 D.消去反应
（5）同时满足下列条件的E的同分异构体有_________种。
①能与FeCl3溶液发生显色反应 ②能与NaHCO3反应 ③含有—个—NH2
（6）参照上述合成路线，以 
为原料（无机试剂任选），设计制备
的合成路线：_______________________________________________。
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有机物M是有机合成的重要中间体，制备M的一种合成路线如下（部分反应条件和试剂已略去）
已知： ①A的密度是相同条件下H2密度的38倍；其分子的核磁共振氢谱中有3组峰；
②
③
请回答下列问题：
（1）B的化学名称为______________。A中官能团的电子式为________________。
（2）C中共面的原子最多有________个。I的结构简式为_____________________。
（3）F→G的化学方程式为________________________________________________。
（4）M不可能发生的反应为_______________（填选项字母）
A.加成反应 B.氧化反应 C.取代反应 D.消去反应
（5）同时满足下列条件的E的同分异构体有_________种。
①能与FeCl3溶液发生显色反应 ②能与NaHCO3反应 ③含有—个—NH2
（6）参照上述合成路线，以 
为原料（无机试剂任选），设计制备
的合成路线：_______________________________________________。
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有机物M是有机合成的重要中间体，制备M的一种合成路线如下（部分反应条件和试剂已略去）
已知： ①A的密度是相同条件下H2密度的38倍；其分子的核磁共振氢谱中有3组峰；
②
③
请回答下列问题：
（1）B的化学名称为______________。A中官能团的电子式为________________。
（2）C中共面的原子最多有________个。I的结构简式为_____________________。
（3）F→G的化学方程式为________________________________________________。
（4）M不可能发生的反应为_______________（填选项字母）
A.加成反应 B.氧化反应 C.取代反应 D.消去反应
（5）同时满足下列条件的E的同分异构体有_________种。
①能与FeCl3溶液发生显色反应 ②能与NaHCO3反应 ③含有—个—NH2
（6）参照上述合成路线，以 
为原料（无机试剂任选），设计制备
的合成路线：_______________________________________________。
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有机物M是有机合成的重要中间体，制备M的一种合成路线如下（部分反应条件和试剂已略去）
已知： ①A的密度是相同条件下H2密度的38倍；其分子的核磁共振氢谱中有3组峰；
②
③
请回答下列问题：
（1）B的化学名称为______________。A中官能团的电子式为________________。
（2）C中共面的原子最多有________个。I的结构简式为_____________________。
（3）F→G的化学方程式为________________________________________________。
（4）M不可能发生的反应为_______________（填选项字母）
A.加成反应 B.氧化反应 C.取代反应 D.消去反应
（5）同时满足下列条件的E的同分异构体有_________种。
①能与FeCl3溶液发生显色反应 ②能与NaHCO3反应 ③含有—个—NH2
（6）参照上述合成路线，以 
为原料（无机试剂任选），设计制备
的合成路线：_______________________________________________。
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有机物M是有机合成的重要中间体，制备M的一种合成路线如下（部分反应条件和试剂略去）。
已知：①A的密度是相同条件下H2密度的38倍，其分子的核磁共振氢谱中有3组峰；
②
请回答下列问题：
（1）A的结构简式为___________________，M的分子式为_____________________。
（2）G+D→H的化学方程式为___________________________。
（3）H不可能发生的反应为_______________（填编号）。
A.加成反应 B.氧化反应 C.取代反应 D.消去反应
（4）同时满足下列条件的E的同分异构体有_________________种。
①能与FeCl3溶液发生显色反应
②能与NaHCO3反应
③含有—NH2
④苯环上有处于对位的取代基
（5）参照上述合成路线，以为原料（无机试剂任选），设计制备的合成路线：________________________。
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有机物M是有机合成的重要中间体，制备M的一种合成路线如下(部分反应条件和试剂略去)：
已知：①A的密度是相同条件下H2密度的38倍；其分子的核磁共振氢谱中有3组峰；
②
(-NH2容易被氧化)；
③
R-CH2COOH
请回答下列问题：
(1)B的化学名称为______。A中官能团的电子式为______。
(2)C
D的反应类型是______，I的结构简式为______。
(3)FG的化学方程式为______。
(4)M不可能发生的反应为______(填选项字母)。
a.加成反应 b.氧化反应 c.取代反应 d.消去反应
(5)请写出任意两种满足下列条件的E的同分异构体有______。
①能与FeCl3溶液发生显色反应 ②能与NaHCO3反应 ③含有-NH2
(6)参照上述合成路线，以
为原料(无机试剂任选)，设计制备
的合成路线：______。
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有机物M是有机合成的重要中间体，制备M的一种合成路线如下(部分反应条件和试剂略去)：
已知：①A的密度是相同条件下H2密度的38倍；其分子的核磁共振氢谱中有3组峰；
②
(-NH2容易被氧化)；
③
R-CH2COOH
请回答下列问题：
(1)B的化学名称为______。A中官能团的电子式为______。
(2)CD的反应类型是______，I的结构简式为______。
(3)FG的化学方程式为______。
(4)M不可能发生的反应为______(填选项字母)。
a.加成反应 b.氧化反应 c.取代反应 d.消去反应
(5)请写出任意两种满足下列条件的E的同分异构体有______。
①能与FeCl3溶液发生显色反应 ②能与NaHCO3反应 ③含有-NH2
(6)参照上述合成路线，以
为原料(无机试剂任选)，设计制备
的合成路线：______。
高三化学综合题中等难度题查看答案及解析
有机物M是有机合成的重要中间体，制备M的一种合成路线如下(部分反应条件和试剂略去)：
已知：①A的密度是相同条件下H2密度的38倍；其分子的核磁共振氢谱中有3组峰；
②
(-NH2容易被氧化)；
③
R-CH2COOH
请回答下列问题：
(1)B的化学名称为______。A中官能团的电子式为______。
(2)CD的反应类型是______，I的结构简式为______。
(3)FG的化学方程式为______。
(4)M不可能发生的反应为______(填选项字母)。
a.加成反应 b.氧化反应 c.取代反应 d.消去反应
(5)请写出任意两种满足下列条件的E的同分异构体有______。
①能与FeCl3溶液发生显色反应 ②能与NaHCO3反应 ③含有-NH2
(6)参照上述合成路线，以
为原料(无机试剂任选)，设计制备
的合成路线：______。
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有机物M是有机合成的重要中间体，制备M的一种合成路线如图(部分反应条件和试剂略去)：
已知：①A的密度是相同条件下H2密度的38倍；其分子的核磁共振氢谱中有3组峰；
②
(-NH2容易被氧化)；
③
R-CH2COOH
请回答下列问题：
(1)B的化学名称为___；D中官能团的名称为___。
(2)C→D的反应类型是___，I的结构简式为___。
(3)F→G的化学方程式为___。
(4)M不可能发生的反应为___(填选项字母)。
a.加成反应 b.氧化反应 c.取代反应 d.消去反应
(5)请写出任意两种满足下列条件的E的同分异构体有___。
①能与FeCl3溶液发生显色反应②能与NaHCO3反应③含有—NH2
(6)参照上述合成路线，以
为原料(无机试剂任选)，设计制备
的合成路线：___。
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有机物M是有机合成的重要中间体，制备M的一种合成路线如下（部分反应条件和试剂略去）：
已知：①A分子的核磁共振氢谱中有3组峰；
②
（NH2容易被氧化）；
③已知（CH3CO)2O的结构为：
④
RCH2COOH
请回答下列问题：
（1）B的化学名称为__________________________。
（2）C→D的反应类型是_____________，I的结构简式为_________________________。
（3）F→G的化学方程式为__________________________________________。
（4）M不可能发生的反应为_____________（填选项字母）。
a．加成反应 b．氧化反应 c．取代反应 d．消去反应
（5）请写出任意两种满足下列条件的E的同分异构体有________________、________________。
①能与FeCl3溶液发生显色反应 ②能与NaHCO3反应 ③含有-NH2
（6）参照上述合成路线，以
为原料（无机试剂任选），设计制备
的合成路线：_______________________________________。
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