硅(Si)是一种重要的半导体材料,广泛应用于电子工业的各个领域。三氯甲硅烷(SiHCl3)还原法是当前制备高纯硅的主要方法,生产流程示意图如下:
(1)硅原子的原子结构示意图为__。
(2)由石英石(SiO2)制备粗硅的化学方程式为__。
(3)“精馏”是蒸馏的一种形式,精馏过程属于__变化(填“物理”或“化学”)。
(4)由三氯甲硅烷(SiHCl3)转变为纯硅时,反应要在无氧环境中进行的原因是__。
(5)该生产工艺中可以循环使用的物质是__。
九年级化学流程题中等难度题
硅(Si)是一种重要的半导体材料,广泛应用于电子工业的各个领域。三氯甲硅烷(SiHCl3)还原法是当前制备高纯硅的主要方法,生产流程示意图如下:
(1)硅原子的原子结构示意图为__。
(2)由石英石(SiO2)制备粗硅的化学方程式为__。
(3)“精馏”是蒸馏的一种形式,精馏过程属于__变化(填“物理”或“化学”)。
(4)由三氯甲硅烷(SiHCl3)转变为纯硅时,反应要在无氧环境中进行的原因是__。
(5)该生产工艺中可以循环使用的物质是__。
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硅是一种重要的半导体材料,应用范围广。三氯硅烷(SiHCl3)还原法是当前制备高纯硅的主要方法,生产过程如图所示:
(1)硅属于__________(选填“金属”或“非金属”)元素;
(2)写出上述流程中一种氧化物的化学式:______________________;
(3)上述流程中最后一步反应的化学方程式为______________________________,该反应属于________(填基本反应类型)反应;
(4)如果还原SiHCl3过程中混入O2,可能引起的后果是________________________;
(5)该流程中可以循环利用的物质的化学式是____________________。
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硅是一种重要的半导体材料,应用范围广。三氯硅烷(SiHCl3)还原法是当前制备高纯硅的主要方法,生产过程如图所示:
(1)硅属于__________(选填“金属”或“非金属”)元素;
(2)写出上述流程中一种氧化物的化学式:______________________;
(3)上述流程中最后一步反应的化学方程式为______________________________,该反应属于________(填基本反应类型)反应;
(4)如果还原SiHCl3过程中混入O2,可能引起的后果是________________________;
(5)该流程中可以循环利用的物质的化学式是____________________。
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硅是一种重要的半导体材料,应用范围广。三氯硅烷(SiHCl3)还原法是当前制备高纯硅的主要方法,生产过程如图所示:
(1)写出上述流程中一种氧化物的化学式:______________;
(2)上述流程中最后一步反应的化学方程式为____________________________,该反应属于________(填基本反应类型)反应;
(3)如果还原SiHCl3过程中混入O2,可能引起的后果是________;
(4)该流程中可以循环利用的物质的化学式是__________。
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硅是一种重要的半导体材料,应用范围广。三氯硅烷(SiHCl3)还原法是当前制备高纯硅的主要方法,生产过程如图所示:
(1)写出上述流程中一种氧化物的化学式:______________;
(2)上述流程中最后一步反应的化学方程式为____________________________,该反应属于________(填基本反应类型)反应;
(3)如果还原SiHCl3过程中混入O2,可能引起的后果是________;
(4)该流程中可以循环利用的物质的化学式是__________。
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(6分)作为推行“低碳经济”的重要科技进步,太阳能 光伏发电成为2010年上海世博会的“亮点”。太阳能光伏发电最关键的材料是高纯硅。三氯甲硅烷(SiHCl3)还原法是当前制备高纯硅的主要方法。生产流程示意图如下:
(1)三氯甲硅烷(SiHCl3)是由________种元素组成的化合物。
(2)“精馏”也是蒸馏的一种形式。通过蒸馏可把液体混合物分离开,原理是利用混合物各成分的________(填“熔点”或“沸点”)不同。
(3)写出从粗硅到SiHCl3(粗)的化学方程式________。
(4)为了达到绿色化学和资源综合利用的目的,上述生产流程中某些物质可循环使用,这些物质是_________(填化学式)。
(5)石英砂的主要成分是SiO2,含有少量Al2O3。若要除去石英砂中少量的杂质,可选用的试剂是__________(填化学式)。
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