↑ 收起筛选 ↑
试题详情

2017年5月26日,Alpha Go人机配对赛开战,Alpha Go的芯片主要以高纯度的单质硅(Si)为原料制成。在半导体硅元件生产中,常用氢氟酸(HF)来清除硅表面的氧化膜,反应原理可表示为SiO2+6HF=H2SiF6+2X。已知硅元素显+4价。下列说法错误的是(  )

A.生成物X的化学式是H2O B.该反应是复分解反应

C.H2SiF6中氟元素显-1价 D.地壳中硅元素含量仅次于氧元素

九年级化学单选题中等难度题

少年,再来一题如何?
试题答案
试题解析
相关试题