半圆柱体P放在粗糙的水平面上，挡板MN的延长线总是过半圆柱体的轴心O，但挡板与半圆柱不接触...

半圆柱体P放在粗糙的水平面上，有一挡板MN，其延长线总是过半圆柱体的轴心O，但挡板与半圆柱体不接触，在P和MN之间放有一个光滑均匀的小圆柱体Q（P的截面半径远大于Q的截面半径），整个装置处于静止状态，如图是这个装置的截面图，若用外力使MN绕O点缓慢地逆时针转动，在Q到达最高位置前，发现P始终保持静止，在此过程中，下列说法正确的是

A. MN对Q的弹力大小逐渐减小

B. P、Q间的弹力先增大后减小

C. 桌面对P的摩擦力先增大后减小

D. P所受桌面的支持力保持不变

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半圆柱体P放在粗糙的水平面上，挡板MN的延长线总是过半圆柱体的轴心O，但挡板与半圆柱不接触，在P和MN之间放有一个光滑均匀的小圆柱体Q，整个装置处于静止状态，图示为这个装置的截面图。若用外力使MN绕O点缓慢地顺时针转动，在MN到达水平位置前，P始终保持静止。在此过程中，下列说法正确的是（     ）

A、MN对Q的弹力逐渐增大

B、地面对P的弹力逐渐增大

C、P、Q间的弹力先减小后增大

D、Q所受的合力逐渐增大

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半圆柱体放在粗糙的水平地面上，其右端有固定放置的竖直档板在半圆柱体和挡板之间放有一个光滑均匀的小圆柱体，整个装置处于静止，如图所示为这个装置的截面图．现使保持竖直并且缓慢地向右平移，在滑落到地面之前， 始终保持静止．在此过程中，下列说法中正确的是（　　 ）

A. 对的弹力逐渐减小

B. 地面对的摩擦力逐渐增大

C. 、的弹力先减小后增大

D. 所受的合力逐渐增大

高二物理单选题中等难度题查看答案及解析

半圆柱体P放在粗糙的水平地面上，其右端有一固定放置的竖直挡板MN。在半圆柱体P和MN之间放有一个光滑均匀的小圆柱体Q，整个装置处于静止，这个装置的截面图如图所示。现使MN保持竖直并且缓慢地向右平移，在Q滑落到地面之前，发现P始终保持静止。则在此过程中（　　）

A. MN对Q的弹力逐渐减小

B. P对Q的弹力逐渐增大

C. Q所受的合力逐渐增大

D. 地面对P的摩擦力逐渐增大

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半圆柱体P放在粗糙的水平地面上，其右端有一固定放置的竖直挡板MN。在半圆柱体P和MN之间放有一个光滑均匀的小圆柱体Q，整个装置处于静止，如图所示是这个装置的截面图。现使MN保持竖直并且缓慢地向右平移，在Q滑落到地面之前，发现P始终保持静止。则在此过程中，下列说法正确的是（  ）

A．MN对Q的弹力逐渐减小                B．P对Q的弹力逐渐增大

C．地面对P的摩擦力逐渐增大              D．Q所受的合力逐渐增大

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半圆柱体P放在粗糙的水平地面上，其右端有一固定放置的竖直挡板MN．在半圆柱体P和MN之间放有一个光滑均匀的小圆柱体Q，整个装置处于平衡状态，如图所示是这个装置的截面图．现使MN保持竖直并且缓慢地向右平移，在Q滑落到地面之前，发现P始终保持静止．则在此过程中，下列说法中正确的是（   ）

A．MN对Q的弹力逐渐减小      B．P对Q的弹力逐渐增大

C．地面对P的摩擦力逐渐增大    D．Q所受的合力逐渐增大

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如图所示，半圆柱体P放在粗糙的水平地面上，其左端有固定放置的竖直挡板MN，在P和MN之间放有一个光滑均匀的小圆柱体Q，整个装置处于静止状态，若用外力使MN保持竖直且缓慢向左移动，在Q落到地面以前，发现P始终保持静止，在此过程中（　　）

A．MN对Q的弹力逐渐增大

B．Q所受的合力逐渐减小

C．地面对P的摩擦力逐渐增大

D．地面对P的支持力逐渐减小

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如图所示，半圆柱体P放在粗糙的水平地面上，其左端有固定放置的竖直挡板MN，在P和MN之间放有一个光滑均匀的小圆柱体Q，整个装置处于静止状态，若用外力使MN保持竖直且缓慢向左移动，在Q落到地面以前，发现P始终保持静止，在此过程中（　　）

A．MN对Q的弹力逐渐增大

B．Q所受的合力逐渐减小

C．地面对P的摩擦力逐渐增大

D．地面对P的支持力逐渐减小

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