半圆柱体P放在粗糙的水平面上,有一挡板MN与半圆柱不接触,在P和MN之间放有一个光滑均匀的小圆柱体Q,如图是这个装置的截面图,整个装置处于静止状态。若用外力缓慢地移动挡板MN,并保持挡板MN始终与两圆心的连线平行,在MN到达水平位置前,发现P始终保持静止,在此过程中,下列说法中正确的是 ( )
A.MN对Q的弹力逐渐增大
B.地面对P的弹力逐渐增大
C.P.Q间的弹力先减小后增大
D.地面给P的摩擦力方向左
高三物理选择题简单题
半圆柱体P放在粗糙的水平面上,有一挡板MN,其延长线总是过半圆柱体的轴心O,但挡板与半圆柱体不接触,在P和MN之间放有一个光滑均匀的小圆柱体Q,整个装置处于静止状态,如图是这个装置的截面图,若用外力使MN绕O点从水平位置缓慢地逆时针转动,在Q到达最高位置前,发现P始终保持静止,在此过程中,下列说法正确的是( )
A.MN对Q的弹力大小保持不变 B.P、Q间的弹力先增大后减小
C.桌面对P的摩擦力先增大后减小 D.P所受桌面的支持力一直减小
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半圆柱体P放在粗糙的水平面上,有一挡板MN,其延长线总是过半圆柱体的轴心O,但挡板与半圆柱体不接触,在P和MN之间放有一个光滑均匀的小圆柱体Q,整个装置处于静止状态,如图是这个装置的截面图,若用外力使MN绕O点缓慢地逆时针转动,在Q到达最高位置前,发现P始终保持静止,在此过程中,下列说法中正确的是( )
A.MN对Q的弹力大小保持不变
B.MN对Q的弹力先增大后减小
C.P、Q间的弹力先增大后减小
D.P所受桌面的作用力一直增大
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半圆柱体P放在粗糙的水平面上,有一挡板MN,延长线总是过半圆柱体的轴心O,但挡板与半圆柱不接触,在P和MN之间放有一个光滑均匀的小圆柱体Q,整个装置处于静止状态,如图是这个装置的截面图,若用外力使MN绕O点缓慢地顺时针转动,在MN到达水平位置前,发现P始终保持静止,在此过程中,下列说法中正确的是
A.MN对Q的弹力逐渐增大
B.MN对Q的弹力先增大后减小
C.P、Q间的弹力先减小后增大
D.Q所受的合力逐渐增大
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半圆柱体P放在粗糙的水平面上,有一挡板MN,延长线总是过半圆柱体的轴心O,但挡板与半圆柱不接触,在P和MN之间放有一个光滑均匀的小圆柱体Q,整个装置处于静止状态,如图是这个装置的截面图,若用外力使MN绕O点缓慢地顺时针转动,在MN到达水平位置前,发现P始终保持静止,在此过程中,下列说法中正确的是( )
A.MN对Q的弹力逐渐增大
B.P、Q间的弹力先减小后增大
C.P对Q的弹力逐渐减小
D.Q所受的合力逐渐增大
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半圆柱体P放在粗糙的水平面上,有一挡板MN,延长线总是过半圆柱体的轴心O,但挡板与半圆柱不接触,在P和MN之间放有一个光滑均匀的小圆柱体Q,整个装置处于静止状态,如图是这个装置的截面图,若用外力使MN绕O点缓慢地顺时针转动,在MN到达水平位置前,发现P始终保持静止,在此过程中,下列说法中正确的是( )
A.MN对Q的弹力逐渐增大 B.MN对Q的弹力先增大后减小
C.P、Q间的弹力先减小后增大 D.Q所受的合力逐渐增大
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半圆柱体P放在粗糙的水平面上,有一挡板MN,延长线总是过半圆柱体的轴心O,但挡板与半圆柱不接触,在P和MN之间放有一个光滑均匀的小圆柱体Q,整个装置处于静止状态,如图是这个装置的截面图,若用外力使MN绕O点缓慢地顺时针转动,在MN到达水平位置前,发现P始终保持静止,在此过程中,下列说法中正确的是
A.MN对Q的弹力逐渐增大
B.P、Q间的弹力先减小后增大
C.地面对P的弹力逐渐增大
D.Q所受的合力逐渐增大
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半圆柱体P放在粗糙的水平面上,有一挡板MN,延长线总是过半圆柱体的轴心O,但挡板与半圆柱不接触,在P和MN之间放有一个光滑均匀的小圆柱体Q,整个装置处于静止状态,如图是这个装置的截面图,若用外力使MN绕O点缓慢地逆时针转动,在Q到达最高位置前,发现P始终保持静止,在此过程中,下列说法中正确的是
A.MN对Q的弹力大小保持不变
B.MN对Q的弹力一直减小至零
C.P、Q间的弹力一直增大
D.Q所受的合力逐渐增大
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