如图所示,光滑圆柱体B放在水平地面上,在它左侧有半径相同的固定的半圆柱体A,右侧有一挡板,挡板竖直面光滑。已知B和挡板的质量均为m,与地面间的动摩擦因数均为μ=,重力加速度为g。现用水平向左的推力推挡板,使其缓慢移动,直到圆柱体B恰好运动到半圆柱体A的顶端,则在B移动的整个过程中,水平推力的最大值为( )
A. B. C. D.
高三物理单选题中等难度题
如图所示,光滑圆柱体B放在水平地面上,在它左侧有半径相同的固定的半圆柱体A,右侧有一挡板,挡板竖直面光滑。已知B和挡板的质量均为m,与地面间的动摩擦因数均为μ=,重力加速度为g。现用水平向左的推力推挡板,使其缓慢移动,直到圆柱体B恰好运动到半圆柱体A的顶端,则在B移动的整个过程中,水平推力的最大值为( )
A. B. C. D.
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如图所示,质量为m、半径为R的光滑圆柱体B放在水平地面上,其左侧有半径为R、质量为m的半圆柱体A,右侧有质量为m的长方体木块C,现用水平向左的推力推木块C,使其缓慢移动,直到圆柱体B恰好运动到半圆柱体A的顶端,在此过程中A始终保持静止.已知C与地面间动摩擦因数μ=,重力加速度为g.求:
(1) 圆柱体B下端离地高为 时,地面对木块A的支持力;
(2) 木块C移动的整个过程中水平推力的最大值;
(3) 木块C移动的整个过程中水平推力所做的功.
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半圆柱体P放在粗糙的水平地面上,其右端有固定放置的竖直挡板MN,在半圆柱体P和 MN之间放有一个光滑均匀的小圆柱体Q,整个装置处于静止状态。如图所示,是这个装置的纵截面图。若用外力使MN保持竖直并且缓慢地向右移动,在Q落到地面以前,发现P始终保持静止。在此过程中,下列说法中正确的是( )
A. M N对Q的弹力逐渐增大
B. 地面对P的摩擦力逐渐增大
C. P、Q之间的弹力先减小后增大
D. Q所受的合力逐渐增大
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半圆柱体P放在粗糙的水平地面上,其右端有一固定放置的竖直挡板MN.在半圆柱体P和MN之间放有一个光滑均匀的小圆柱体Q,整个装置处于平衡状态,如图所示是这个装置的截面图.现使MN保持竖直并且缓慢地向右平移,在Q滑落到地面之前,发现P始终保持静止.则在此过程中,下列说法中正确的是( )
A.MN对Q的弹力逐渐减小
B.P对Q的弹力逐渐增大
C.地面对P的摩擦力逐渐增大
D.Q所受的合力逐渐增大
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如图所示,半圆柱体P放在粗糙的水平地面上,其右端有一固定放置的竖 直挡板MN,在半圆柱体P和MN之间放有一个光滑均匀的小圆柱体Q,整个装置处于静止状态,若使MN保持竖直并且缓慢地向右平移,在Q滑落到地面之前,P始终保持静止,在此过程中
A.Q对P的压力逐渐增大
B.Q对P的压力逐渐减小
C.地面对P的摩擦力逐渐增大
D.地面对P的支持力逐渐减小
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