在水平放置的平行金属框架上，有根金属棒放在ab位置上。若回路中只有电阻R，金属棒与框架的电...

在水平放置的平行金属框架上，有根金属棒放在ab位置上。若回路中只有电阻R，金属棒与框架的电阻及摩擦阻力不计，金属棒先后两次在水平向右外力的作用下，以不同的速度匀速由图中ab位置平移到a'b'位置。则以下说法中正确的是（　　 ）

A. 两次水平外力做功一样多

B. 两次水平外力的冲量相同

C. 两次水平外力做功的功率相同

D. 两次通过金属棒横截面的电量相同

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（18分）如图所示，质量，电阻，长度的导体棒横放在U型金属框架上。框架质量，放在绝缘水平面上，与水平面间的动摩擦因数，相距0.4m的、相互平行，电阻不计且足够长。电阻的垂直于。整个装置处于竖直向上的匀强磁场中，磁感应强度。垂直于施加的水平恒力，从静止开始无摩擦地运动，始终与、保持良好接触。当运动到某处时，框架开始运动。设框架与水平面间最大静摩擦力等于滑动摩擦力，g取10m/s2。

（1）求框架开始运动时速度v的大小；

（2）从开始运动到框架开始运动的过程中，上产生的热量，求该过程位移x的大小。

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（18分）如图所示，质量，电阻，长度的导体棒横放在U型金属框架上。框架质量，放在绝缘水平面上，与水平面间的动摩擦因数，相距0.4m的、相互平行，电阻不计且足够长。电阻的垂直于。整个装置处于竖直向上的匀强磁场中，磁感应强度。垂直于施加的水平恒力，从静止开始无摩擦地运动，始终与、保持良好接触。当运动到某处时，框架开始运动。设框架与水平面间最大静摩擦力等于滑动摩擦力，g取10m/s2。

（1）求框架开始运动时速度v的大小；

（2）从开始运动到框架开始运动的过程中，上产生的热量，求该过程位移x的大小。

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（18分）如图所示，质量，电阻，长度的导体棒横放在U型金属框架上。框架质量，放在绝缘水平面上，与水平面间的动摩擦因数，相距0.4m的、相互平行，电阻不计且足够长。电阻的垂直于。整个装置处于竖直向上的匀强磁场中，磁感应强度。垂直于施加的水平恒力，从静止开始无摩擦地运动，始终与、保持良好接触。当运动到某处时，框架开始运动。设框架与水平面间最大静摩擦力等于滑动摩擦力，g取10m/s2。

（1）求框架开始运动时速度v的大小；

（2）从开始运动到框架开始运动的过程中，上产生的热量，求该过程位移x的大小。

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如图所示，质量，电阻，长度的导体棒横放在U型金属框架上．框架质量，放在绝缘水平面上，与水平面间的动摩擦因数，相距的相互平行，电阻不计且足够长．电阻的垂直于．整个装置处于竖直向上的匀强磁场中，磁感应强度．垂直于施加的水平恒力，从静止开始无摩擦地运动，始终与保持良好接触．当运动到某处时，框架开始运动．设框架与水平面间最大静摩擦力等于滑动摩擦力，取．

（1）求框架开始运动时速度的大小；

（2）从开始运动到框架开始运动的过程中，上产生的热量，求该过程位移的大小。

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如图，放置在水平面内的平行金属框架宽为L＝0.4m，金属棒置于框架上，并与两框架垂直.整个框架位于竖直向下、磁感强度B＝0.5T的匀强磁场中，电阻R＝0.09Ω，金属棒电阻为0.01Ω，阻力忽略不计，当在水平向右的恒力F作用下以2.5m/s的速度向右匀速运动时，求：

(1)判断哪点电势高.

(2)求回路中的感应电流.

(3)电阻R上消耗的电功率

(4)恒力F做功的功率.

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如图，放置在水平面内的平行金属框架宽为L＝0.2m，金属棒ab置于框架上，并与两框架垂直．整个框架位于竖直向下、磁感强度B＝0.5T的匀强磁场中，电阻R＝0.9Ω，ab电阻为r＝0.1Ω，阻力忽略不计，当ab在水平向右的恒力F作用下以v=5m/s的速度向右匀速运动时，

（1）a、b哪点电势高并求回路中的感应电流；

（2）求电阻R上的电压是多少？

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如图（甲）所示，两平行导轨与水平面成角倾斜放置，电源、电阻、金属杆及导轨组成闭合回路，金属杆与导轨间的摩擦不计，整个装置分别处在如图（乙）所示的匀强磁场中，其中可能使金属杆处于静止状态的是（　　　 ）

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如图（甲）所示，两平行导轨与水平面成角倾斜放置，电源、电阻、金属细杆及导轨组成闭合回路，细杆与导轨间的摩擦不计，整个装置分别处在如图（乙）所致的匀强磁场中，其中可能使金属细杆处于静止状态的是

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