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试题详情

芯片制作工艺非常复杂,光刻机是制作芯片的关键设备,其曝光系统最核心的部件之一是紫外光源。常见光源分为:可见光:436nm;紫外光(UV):365nm;深紫外光(DUV):KrF准分子激光:248 nm, ArF准分子激光:193 nm;极紫外光(EUV):10 ~ 15 nm。下列说法正确的是(   )

A. 波长越短,可曝光的特征尺寸就越小,就表示光刻的刀锋越锋利,刻蚀对于精度控制要求越高。

B. 光源波长越长,能量越大,曝光时间就越短。

C. 如果紫外光不能让某金属发生光电效应,极紫外光也一定不能。

D. 由康普顿效应可知深紫外光通过实物物质发生散射时会出现波长更短的成分。

高三物理单选题中等难度题

少年,再来一题如何?
试题答案
试题解析
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