如图，柱体的横截面是圆心角为的扇形面，其弧形表面光滑，而与地面接触的下表面粗糙；在光滑竖直...

如图所示柱体A的横截面是圆心角为/2的扇形面，其弧形表面光滑，而与地面接触的下表面粗糙。在光滑竖直墙壁与柱体之间放置一质量为m的球体，系统处于平衡状态。若使柱体向右移动少许，系统仍处于平衡状态，则

A．球对墙的压力增大                      B．柱体与球之间的作用力减小

C．柱体所受的摩擦力减小                  D．柱体对地面的压力增大

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如图，柱体的横截面是圆心角为的扇形面，其弧形表面光滑，而与地面接触的下表面粗糙；在光滑竖直墙壁与柱体之间放置一质量为的球体，系统处于平衡状态．若使柱体向左移动稍许，系统仍处于平衡状态，则：

A.球对墙的压力增大

B.柱体与球之间的作用力增大

C.柱体所受的摩擦力减小

D.柱体对地面的压力减小

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半圆柱体P放在粗糙的水平地面上，其左、右端各有固定放置的竖直挡板M、N。在P和挡板之间放有光滑、质量分布均匀的小圆柱体a、b，两者质量相等，a的位置比b高，整个装置处于静止，如图所示是这个装置的纵截面图。下列判断正确的是

A. P对a的弹力比P对b的弹力大

B. P对a的弹力比P对b的弹力小

C. 挡板对a的弹力比挡板对b的弹力大

D. 挡板对a的弹力与挡板对b的弹力大小相等

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如图所示，质量为M的四分之一圆柱体放在粗糙水平地面上，质量为m的正方体放在圆柱体和光滑墙壁之间，且不计圆柱体与正方体之间的摩擦，正方体与圆柱体的接触点的切线与右侧墙壁成θ角，圆柱体处于静止状态。则(　　)

A. 地面对圆柱体的支持力为(M＋m)g

B. 地面对圆柱体的摩擦力为mgtan θ

C. 墙壁对正方体的弹力为

D. 正方体对圆柱体的压力为

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半圆柱体P放在粗糙的水平地面上，其右端有一竖直放置的光滑档板MN．在半圆柱体P和MN之间放有一个光滑均匀的小圆柱体Q，整个装置处于静止，如图所示是这个装置的截面图．现使MN保持竖直并且缓慢地向右平移，在Q滑落到地面之前，发现P始终保持静止．则在此过程中，下列说法正确的是（　 ）

A．MN对Q的弹力逐渐减小　　 B．地面对P的支持力逐渐增大

C．Q所受的合力逐渐增大　　 　 D．地面对P的摩擦力逐渐增大

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半圆柱体P放在粗糙的水平地面上，其右端有一固定放置的竖直挡板MN．在半圆柱体P和MN之间放有一个光滑均匀的小圆柱体Q，整个装置处于平衡状态，如图所示是这个装置的截面图．现使MN保持竖直并且缓慢地向右平移，在Q滑落到地面之前，发现P始终保持静止．则在此过程中，下列说法中正确的是（　 ）

A．MN对Q的弹力逐渐减小

B．P对Q的弹力逐渐增大

C．地面对P的摩擦力逐渐增大

D．Q所受的合力逐渐增大

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半圆柱体P放在粗糙的水平地面上，其右端有一固定放置的竖直挡板MN．在半圆柱体P和MN之间放有一个光滑均匀的小圆柱体Q，整个装置处于平衡状态，如图所示是这个装置的截面图．现使MN保持竖直并且缓慢地向右平移，在Q滑落到地面之前，发现P始终保持静止．则在此过程中，下列说法中正确的是（　 ）

A．MN对Q的弹力逐渐减小

B．P对Q的弹力逐渐增大

C．地面对P的摩擦力逐渐增大

D．Q所受的合力逐渐增大

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半圆柱体P放在粗糙的水平地面上,其右端有一固定放置的竖直挡板MN。在半圆柱体P和MN之间放有一个光滑均匀的小圆柱体Q,整个装置处于平衡状态,如图所示是这个装置的截面图。现使MN保持竖直并且缓慢地向右平移,在Q滑落到地面之前,发现P始终保持静止。则在此过程中,下列说法中正确的是（　 ）

A.MN对Q的弹力逐渐减小　　　　　　　　 B.P对Q的弹力逐渐增大

C.地面对P的摩擦力逐渐增大　　　　 D.Q所受的合力逐渐增大

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半圆柱体P放在粗糙的水平地面上，其右端有一固定放置的竖直挡板MN。在半圆柱体P和MN之间放有一个光滑均匀的小圆柱体Q，整个装置处于静止，如图所示是这个装置的截面图。现使MN保持竖直并且缓慢地向右平移，在Q滑落到地面之前，发现P始终保持静止。则在此过程中，下列说法正确的是（    ）

A．MN对Q的弹力逐渐减小

B．P对Q的弹力逐渐增大

C．地面对P的摩擦力逐渐增大

D．Q所受的合力逐渐增大

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