如图所示,图甲中abcd为导体框架,其平面与水平面成θ角,质量为m的导体棒PQ与ab、cd接触良好,回路的电阻为R,整个装置放于垂直框架平面的变化磁场中,磁感强度B随时间的变化规律如图乙,PQ始终静止,在时间0~t内,下列说法中正确的是 ( )
A. 在0~t1、t1~t时间内导体框中产生的感应电流大小不等,方向相同
B. PQ受到的摩擦力一定一直增大
C. PQ受到的摩擦力一定一直减小
D. PQ受到的摩擦力可能先减小后增大
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如图所示,图甲中abcd为导体框架,其平面与水平面成θ角,质量为m的导体棒PQ与ab、cd接触良好,回路的电阻为R,整个装置放于垂直框架平面的变化磁场中,磁感强度B随时间的变化规律如图乙,PQ始终静止,在时间0~t内,下列说法中正确的是 ( )
A. 在0~t1、t1~t时间内导体框中产生的感应电流大小不等,方向相同
B. PQ受到的摩擦力一定一直增大
C. PQ受到的摩擦力一定一直减小
D. PQ受到的摩擦力可能先减小后增大
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如图甲中abcd为导体做成的框架,其平面与水平面成θ角。质量为m的导体棒PQ与ab、cd接触良好,回路的电阻为R,整个装置放于垂直框架平面的变化的磁场中,磁感强度B随时间变化规律如图乙,PQ始终保持静止。在0~t时间内,PQ受到的摩擦力f的大小变化情况是
A.f保持不变
B.f一直增大
C.f一直减小
D.f先增大后减小
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如图3中的甲所示,abcd为导体做成的框架,其平面与水平面成角,质量为m的导体棒PQ与ad、bc接触良好,回路的总电阻为R,整个装置放在垂直于框架平面的变化磁场中,磁场的磁感应强度B随时间t的变化情况如图3中的乙所示(设图甲中B的方向为正方向)。若PQ始终静止,关于PQ与框架间的摩擦力在0-时间内的变化情况,以下对摩擦力变化情况的判断可能的是( )
A.一直增大 B.一直减小 C.先减小后增大 D.先增大后减小
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如图甲中abcd为导体作成的框架,其平面与水平面成θ角,质量为m的导体棒PQ与ab、cd接触良好且PQ与 bc平行,回路的电阻为R,整个装置放于垂直于框架平面的变化的磁场中,磁感应强度随时间变化的图像如图乙,PQ始终静止,在0—t0s内,PQ受到的摩擦力的变化情况可能是( )
A.f一直增大 B.f一直减小 C.f先减小后增大 D.f先增大后减小
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