如图甲所示，质量为M的“”形金属框架MNPQ放在倾角为的绝缘斜面上，框架MN、PQ部分的电...

如图甲所示，质量为M的“”形金属框架MNPQ放在倾角为的绝缘斜面上，框架MN、PQ部分的电阻不计，相距为L，上端NP部分的电阻为R。一根光滑金属棒ab在平行于斜面的力(图中未画出)的作用下，静止在距离框架上端NP为L的位置。整个装置处于垂直斜面向下的匀强磁场中，磁感应强度B随时间t变化的规律如图乙所示，其中B0、t0均为已知量。已知ab棒的质量为m，电阻为R，长为L，与框架接触良好并始终相对斜面静止，t0时刻框架也静止，框架与斜面间的动摩擦因数为，最大静摩擦力等于滑动摩擦力，重力加速度为g。求：

⑴t0时刻，流过ab棒的电流大小和方向；

⑵0～t0时间内，通过ab棒的电荷量及ab棒产生的热量；

⑶框架MNPQ什么时候开始运动？

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如图所示，电阻不计且足够长的U型金属框架放置在倾角的绝缘斜

面上，该装置处于垂直斜面向下的匀强磁场中，磁感应强度大小，质量、电阻的导体ab垂直放在框架上，从静止开始沿框架无擦下滑，与框架接触良好，框架的质量、宽度，框架与斜面间的动摩擦因数，与斜面间最大静摩擦力等于滑动摩擦力,g取。

（1）若框架固定，求导体棒的最大速度；

（2）若框架固定，导体棒从静止下滑至某一置时速度为，此过程程中共有3C的电量通过导体棒，求此过程回路产生的热量Q；

（3）若框架不固定，求当框架刚开始运动时棒的速度。

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如图所示，电阻不计且足够长的U型金属框架放置在倾角的绝缘斜面上，该装置处于垂直斜面向下的匀强磁场中，磁感应强度大小质量、电阻的导体棒ab垂直放在框架上，与框架接触良好，从静止开始沿框架无摩擦地下滑。框架的质量、宽度，框架与斜面间的动摩擦因数，与斜面间的最大静摩擦力等于滑动摩擦力。取，，

若框架固定，求导体棒的最大速度；

若框架固定，导体棒从静止开始下滑6m时速度，求此过程回路中产生的热量Q及流过导体棒的电量q；

若框架不固定，求当框架刚开始运动时导体棒的速度大小。

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如图所示，电阻不计且足够长的U型金属框架放置在倾角的绝缘斜面上，该装置处于垂直斜面向下的匀强磁场中，磁感应强度大小质量、电阻的导体棒ab垂直放在框架上，与框架接触良好，从静止开始沿框架无摩擦地下滑。框架的质量、宽度，框架与斜面间的动摩擦因数，与斜面间的最大静摩擦力等于滑动摩擦力。取，，

若框架固定，求导体棒的最大速度；

若框架固定，导体棒从静止开始下滑6m时速度，求此过程回路中产生的热量Q及流过导体棒的电量q；

若框架不固定，求当框架刚开始运动时导体棒的速度大小。

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如图所示，电阻不计且足够长的U型金属框架放置在倾角的绝缘斜面上，该装置处于垂直斜面向下的匀强磁场中，磁感应强度大小.质量、电阻R=的导体棒ab垂直放在框架上，与框架接触良好，从静止开始沿框架无摩擦地下滑.框架的质量、宽度，框架与斜面间的动摩擦因数，与斜面间的最大静摩擦力等于滑动摩擦力.(，sin37°，cos37°)

（1）若框架固定，导体棒从静止开始下滑6m时速度，求此过程回路中产生的热量Q；

（2）若框架固定，当导体棒从静止释放到稳定状态的过程中流过导体棒的电量q=3.0C,求此过程导体棒的运动时间t；

（3）若框架不固定，求当框架刚开始运动时导体棒的速度大小.

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如图所示，电阻不计的两金属导轨相距为l，固定在水平绝缘桌面上，斜面MNPQ与水平直轨道在最低点相切，水平直导轨部分处在磁感应强度大小为B、方向竖直向下的匀强磁场中，末端与桌面边缘平齐，一质量为m、电阻为R的导体棒ab从距水平桌面的高度为h处无初速度释放，进入水平直导轨后向右运动，最后离开导轨落到水平地面上，落地点到桌面边缘的水平距离为x。已知斜面与水平面间的夹角为θ，PM处所接电阻的阻值也为R，且导体棒ab通过磁场的过程中通过它的电荷量为q，导体棒与导轨之间的动摩擦因数均为μ，桌面离地面的高度为H，重力加速度为g。求：

(1)导体棒进入磁场和离开磁场时的速度大小；

(2)导体棒在磁场中运动的过程中，回路产生的焦耳热。

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如图所示，电阻不计且足够长的U型金属框架放置在倾角θ=37°的绝缘斜面上，该装置处于垂直斜面向下的匀强磁场中，磁感应强度大小B=0.4T。质量m=0.2kg、电阻R=0.3Ω的导体棒ab垂直放在框架上，与框架接触良好，从静止开始沿框架无摩擦地下滑。框架的质量M=0.4kg、宽度l=0.5m，框架与斜面间的动摩擦因数μ=0.7，与斜面间的最大静摩擦力等于滑动摩擦力。(g取10m/s2，sin37°=0.6，cos37°=0.8)

(1)若框架固定，求导体棒的最大速度vm；

(2)若框架固定，导体棒从静止开始下滑6m时速度v1=4m/s，求此过程回路中产生的热量Q及流过导体棒的电量q；

(3)若框架不固定，求当框架刚开始运动时导体棒的速度大小v2。

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如图所示，电阻不计且足够长的U型金属框架放置在倾角θ=37°的绝缘斜面上，该装置处于垂直斜面向下的匀强磁场中，磁感应强度大小B=0.4T。质量m=0.2kg、电阻R=0.3Ω的导体棒ab垂直放在框架上，与框架接触良好，从静止开始沿框架无摩擦地下滑。框架的质量M=0.4kg、宽度l=0.5m，框架与斜面间的动摩擦因数μ=0.7，与斜面间的最大静摩擦力等于滑动摩擦力。(g取10m/s2，sin37°=0.6，cos37°=0.8)

(1)若框架固定，求导体棒的最大速度vm；

(2)若框架固定，导体棒从静止开始下滑6m时速度v1=4m/s，求此过程回路中产生的热量Q及流过导体棒的电量q；

(3)若框架不固定，求当框架刚开始运动时导体棒的速度大小v2。

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如图所示，电阻不计且足够长的U型金属框架放置在倾角θ=37°的绝缘斜面上，该装置处于垂直斜面向下的匀强磁场中，磁感应强度大小B=0.4T。质量m=0.2kg、电阻R=0.3Ω的导体棒ab垂直放在框架上，与框架接触良好，从静止开始沿框架无摩擦地下滑。框架的质量M=0.4kg、宽度l=0.5m，框架与斜面间的动摩擦因数μ=0.7，与斜面间的最大静摩擦力等于滑动摩擦力。(g取10m/s2，sin37°=0.6，cos37°=0.8)

(1)若框架固定，求导体棒的最大速度vm；

(2)若框架固定，导体棒从静止开始下滑6m时速度v1=4m/s，求此过程回路中产生的热量Q及流过导体棒的电量q；

(3)若框架不固定，求当框架刚开始运动时导体棒的速度大小v2。

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如图所示，电阻不计且足够长的U型金属框架放置在倾角θ=37°的绝缘斜面上，该装置处于垂直斜面向下的匀强磁场中，磁感应强度大小B=0.4T。质量m=0.2kg、电阻R=0.3Ω的导体棒ab垂直放在框架上，与框架接触良好，从静止开始沿框架无摩擦地下滑。框架的质量M=0.4kg、宽度l=0.5m，框架与斜面间的动摩擦因数μ=0.7，与斜面间的最大静摩擦力等于滑动摩擦力。(g取10m/s2，sin37°=0.6，cos37°=0.8)

(1)若框架固定，求导体棒的最大速度vm；

(2)若框架固定，导体棒从静止开始下滑6m时速度v1=4m/s，求此过程回路中产生的热量Q及流过导体棒的电量q；

(3)若框架不固定，求当框架刚开始运动时导体棒的速度大小v2。

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