有机物W用作调香剂、高分子材料合成的中间体等,制备W的一种合成路线如下。
已知:
请回答下列问题:
(1)F的化学名称是___________,⑤的反应类型是___________。
(2)E中含氧官能团是___________(写名称),D聚合生成高分子化合物的结构简式为___________。
(3)反应⑥的化学方程式是__________________________。
(4)反应③的化学方程式是__________________________。
(5)芳香化合物N是A的同分异构体,其中核磁共振氢谱为三组峰的结构简式为__________。
(6)参照有机物W的上述合成路线,设计以M为起始原料制备F的合成路线(无机试剂任选)。[示例:CH3CH2OH CH2=CH2 BrCH2CH2Br]___________________。
高三化学推断题中等难度题
有机物W用作调香剂、高分子材料合成的中间体等,制备W的一种合成路线如下。
已知:+CH3Cl+HCl
请回答下列问题:
(1)F的化学名称是__,②的反应类型是___。
(2)D中含有的官能团是__(写名称),D聚合生成高分子化合物的结构简式为___。
(3)反应③的化学方程式是___。
(4)反应⑥的化学方程式是___。
(5)芳香化合物N是A的同分异构体,其中核磁共振氢谱为三组峰的结构简式为___。
(6)参照有机物W的上述合成路线,设计以M为起始原料制备F的合成路线(无机试剂任选)___。
[示例:CH3CH2OHCH2=CH2BrCH2CH2Br]
高三化学计算题困难题查看答案及解析
有机物W用作调香剂、高分子材料合成的中间体等,制备W的一种合成路线如下。
已知:
请回答下列问题:
(1)F的化学名称是_________,②的反应类型是_________。
(2)D中含有的官能团是________________(写名称),D聚合生成高分子化合物的结构简式为_____________。
(3)反应③的化学方程式是______________________。
(4)反应⑥的化学方程式是______________________。
(5)芳香化合物N是A的同分异构体,其中核磁共振氢谱为三组峰的结构简式为
_______________。
(6)参照有机物W的上述合成路线,设计以M为起始原料制备F的合成路线(无机试剂任选)。[示例:]
____________________
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有机物W用作调香剂、高分子材料合成的中间体等,制备W的一种合成路线如下。
请回答下列问题:
(1)F的化学名称是________,⑤的反应类型是________。
(2)E中含有的官能团是________(写名称),D聚合生成高分子化合物的结构简式为________。
(3)将反应③得到的产物与O2在催化剂、加热的条件下反应可得D,写出反应④的化学方程式________。
(4)④、⑤两步能否颠倒?________(填“能”或“否”)理由是________。
(5)与A具有含有相同官能团的芳香化合物的同分异构体还有________种(不含立体异构),其中核磁共振氢谱为六组峰,且峰面积之比为1:1:2:2:2:2的结构简式为________。
(6)参照有机物W的上述合成路线,以M和CH3Cl为原料制备F的合成路线(无机试剂任选)________。
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有机物W用作调香剂、高分子材料合成的中间体等,制备W的一种合成路线如下。
已知:
请回答下列问题:
(1)F的化学名称是___________,⑤的反应类型是___________。
(2)E中含氧官能团是___________(写名称),D聚合生成高分子化合物的结构简式为___________。
(3)反应⑥的化学方程式是__________________________。
(4)反应③的化学方程式是__________________________。
(5)芳香化合物N是A的同分异构体,其中核磁共振氢谱为三组峰的结构简式为__________。
(6)参照有机物W的上述合成路线,设计以M为起始原料制备F的合成路线(无机试剂任选)。[示例:CH3CH2OH CH2=CH2 BrCH2CH2Br]___________________。
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有机物W(C16H14O2)用作调香剂、高分子材料合成的中间体等,制备W的一种合成路线如下:
已知:
请回答下列问题:
(1)F的化学名称是_______,⑤的反应类型是_______。
(2)E中含有的官能团是_______(写名称),E在一定条件下聚合生成高分子化合物,该高分子化合物的结构简式为_______。
(3)E + F→W反应的化学方程式为_______。
(4)与A含有相同官能团且含有苯环的同分异构体还有_______种(不含立体异构),其中核磁共振氢谱为六组峰,且峰面积之比为1∶1∶2∶2∶2∶2的结构简式为____。
(5)参照有机物W的上述合成路线,写出以M和CH3Cl为原料制备F的合成路线(无机试剂任选)_______。
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有机物W用作调香剂、高分子材料合成的中间体等,制备W的一种合成路线如下。
请回答下列问题:
(1)F的化学名称是________,⑤的反应类型是________。
(2)E中含有的官能团是________(写名称),D聚合生成高分子化合物的结构简式为________。
(3)将反应③得到的产物与O2在催化剂、加热的条件下反应可得D,写出反应④的化学方程式________。
(4)④、⑤两步能否颠倒?________(填“能”或“否”)理由是________。
(5)与A具有含有相同官能团的芳香化合物的同分异构体还有________种(不含立体异构),其中核磁共振氢谱为六组峰,且峰面积之比为1:1:2:2:2:2的结构简式为________。
(6)参照有机物W的上述合成路线,以M和CH3Cl为原料制备F的合成路线(无机试剂任选)________。
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有机物W用作调香剂、高分子材料合成的中间体等,制备W的一种合成路线如下。
请回答下列问题:
(1)F的化学名称是________,⑤的反应类型是________。
(2)E中含有的官能团是________(写名称),D聚合生成高分子化合物的结构简式为________。
(3)将反应③得到的产物与O2在催化剂、加热的条件下反应可得D,写出反应④的化学方程式________。
(4)④、⑤两步能否颠倒?________(填“能”或“否”)理由是________。
(5)与A具有含有相同官能团的芳香化合物的同分异构体还有________种(不含立体异构),其中核磁共振氢谱为六组峰,且峰面积之比为1:1:2:2:2:2的结构简式为________。
(6)参照有机物W的上述合成路线,以M和CH3Cl为原料制备F的合成路线(无机试剂任选)________。
高三化学推断题困难题查看答案及解析
有机物W用作调香剂、高分子材料合成的中间体等,制备W的一种合成路线如下。
请回答下列问题:
(1)F的化学名称是________,⑤的反应类型是________。
(2)E中含有的官能团是________(写名称),D聚合生成高分子化合物的结构简式为________。
(3)将反应③得到的产物与O2在催化剂、加热的条件下反应可得D,写出反应④的化学方程式________。
(4)④、⑤两步能否颠倒?________(填“能”或“否”)理由是________。
(5)与A具有含有相同官能团的芳香化合物的同分异构体还有________种(不含立体异构),其中核磁共振氢谱为六组峰,且峰面积之比为1:1:2:2:2:2的结构简式为________。
(6)参照有机物W的上述合成路线,以N(分子式为C8H8且属于A的同系物)为原料制备 的合成路线(无机试剂任选)_________。
高三化学综合题困难题查看答案及解析
有机物W用作调香剂、高分子材料合成的中间体等,制备W的一种合成路线如下。
请回答下列问题:
(1)F的化学名称是________,⑤的反应类型是________。
(2)E中含有的官能团是________(写名称),D聚合生成高分子化合物的结构简式为________。
(3)将反应③得到的产物与O2在催化剂、加热的条件下反应可得D,写出反应④的化学方程式________。
(4)④、⑤两步能否颠倒?________(填“能”或“否”)理由是________。
(5)与A具有含有相同官能团的芳香化合物的同分异构体还有________种(不含立体异构),其中核磁共振氢谱为六组峰,且峰面积之比为1:1:2:2:2:2的结构简式为________。
(6)参照有机物W的上述合成路线,以N(分子式为C8H8且属于A的同系物)为原料制备 的合成路线(无机试剂任选)_________。
高三化学综合题困难题查看答案及解析
有机物W用作调香剂、高分子材料合成的中间体等,制备W的一种合成路线如下。
请回答下列问题:
(1)F的化学名称是_______________,①的反应类型是_______________。
(2)B中含有的官能团是_______________(写名称),
(3)D聚合生成高分子化合物的化学方程式为________________。
(4)反应③的化学方程式是___________________。
(5)芳香化合物N是A的同分异构体,其中核磁共振氢谱为三组峰的结构简式为_________________。
(6)分子式C9H10O2的有机物,其结构中含有苯环且可以与饱和NaHCO3溶液反应放出气体的同分异构体有__________________种(不考虑立体异构)。
(7)参照有机物W的上述合成路线,设计以M为起始原料制备F的合成路线(无机试剂任选)。____________
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