高纯度晶体硅是典型的无机非金属材料，又称“半导体”材料，它的发现和使用曾引起计算机的一场“革命”。它的制备方法如 下图所示，下列说法正确的是
A.步骤①的化学方程式为：SiO2+C
Si+CO2↑
B.步骤①、②、③中每生成或反应1molSi，转移2mol电子
C.二氧化硅能与氢氟酸反应，而硅不能与氢氟酸反应
D.单晶硅是电子工业中重要的半导体材料，也能用于制作太阳能电池
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高纯度晶体硅是典型的无机非金属材料，又称“半导体”材料，它的发现和使用曾引起计算机的一场“革命”。它的制备方法如 下图所示，下列说法正确的是
A.步骤①的化学方程式为：SiO2+C Si+CO2↑
B.步骤①、②、③中每生成或反应1molSi，转移2mol电子
C.二氧化硅能与氢氟酸反应，而硅不能与氢氟酸反应
D.单晶硅是电子工业中重要的半导体材料，也能用于制作太阳能电池
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高纯度晶体硅是典型的无机非金属材料，又称“半导体”材料，它的发现和使用曾引起计算机的一场“革命”。它的制备方法如 下图所示，下列说法正确的是
A.步骤①的化学方程式为：SiO2+C Si+CO2↑
B.步骤①、②、③中每生成或反应1molSi，转移2mol电子
C.二氧化硅能与氢氟酸反应，而硅不能与氢氟酸反应
D.单晶硅是电子工业中重要的半导体材料，也能用于制作太阳能电池
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高纯度单晶硅是典型的无机非金属材料，又称“半导体”材料．它的发现和使用曾引起计算机的一场“革命”。它可以按下列方法制备：
SiO2
Si(粗)
SiHCl3
Si(纯)
下列说法正确的是（）
A.步骤①的化学方程式为：SiO2+C
Si+CO2↑
B.SiO2既能与HF反应，又能与NaOH反应，所以SiO2属于两性氧化物
C.高纯硅是制造太阳能电池的常用材料，二氧化硅是制造光导纤维的基本原料
D.含硅化合物硅酸钠属于盐类，不属于碱，可以保存在磨口玻璃塞试剂瓶中
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高纯度晶硅是典型的无机非金属材料，又称“半导体”材料．它的发现和使用曾引起计算机的一场“革命”。它可以按下列方法制备：
下列说法不正确的是
A. 步骤①的化学方程式为：SiO2+C
Si+CO2↑
B. 步骤①中每生成1mol Si，转移4mol电子
C. 高纯硅是制造太阳能电池的常用材料，二氧化硅是制造光导纤维的基本原料
D. SiHCl3（沸点33.0℃）中含有少量的SiCl4（沸点67.6℃），通过蒸馏（或分馏）可提纯SiHCl3
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高纯度晶硅是典型的无机非金属材料，又称“半导体”材料．它的发现和使用曾引起计算机的一场“革命”。它可以按下列方法制备：
下列说法不正确的是
A. 步骤①的化学方程式为：SiO2+CSi+CO2↑
B. 步骤①中每生成1mol Si，转移4mol电子
C. 高纯硅是制造太阳能电池的常用材料，二氧化硅是制造光导纤维的基本原料
D. SiHCl3（沸点33.0℃）中含有少量的SiCl4（沸点67.6℃），通过蒸馏（或分馏）可提纯SiHCl3
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高纯度单晶硅是典型的无机非金属材料，又称“半导体”材料，它的发现和使用曾引起计算机的一场“革命”。这种材料可以按下列方法制备：
SiO2
Si(粗)
SiHCl3
Si(纯)，下列说法正确的是( )
A.步骤①的化学方程式为SiO2＋C
Si＋CO2↑
B.步骤①、②、③中每生成或反应1 mol Si，转移4 mol电子
C.二氧化硅能与氢氟酸反应，而硅不能与氢氟酸反应
D.SiHCl3(沸点33.0 ℃)中含有少量的SiCl4(沸点67.6 ℃)，通过蒸馏(或分馏)可提纯SiHCl3
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高纯度单晶硅是典型的无机非金属材料，又称“半导体”材料，它的发现和使用曾引起计算机的一场“革命”。这种材料可以按下列方法制备：
SiO2Si(粗)SiHCl3Si(纯)，下列说法正确的是( )
A.步骤①的化学方程式为SiO2＋CSi＋CO2↑
B.步骤①、②、③中每生成或反应1 mol Si，转移4 mol电子
C.二氧化硅能与氢氟酸反应，而硅不能与氢氟酸反应
D.SiHCl3(沸点33.0 ℃)中含有少量的SiCl4(沸点67.6 ℃)，通过蒸馏(或分馏)可提纯SiHCl3
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高纯度单晶硅是典型的无机非金属材料，又称“半导体”材料，它的发现和使用曾引起计算机的一场“革命”。它可以按下列方法进行制备：SiO2Si(粗) SiHCl3
Si(纯)。下列说法正确的是( )
A.反应①的化学方程式为SiO2＋C
Si＋CO2↑
B.反应①②③中每生成或消耗1 mol Si，转移4 mol电子
C.二氧化硅与氢氟酸反应，而硅不能与氢氟酸反应
D.SiHCl3(沸点31.8 ℃)中含有少量的SiCl4(沸点57.6 ℃)，通过蒸馏(或分馏)可提纯SiHCl3
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高纯度单晶硅是典型的无机非金属材料，又称半导体材料，它的发现和使用曾引起计算机的一场革命，这种材料可以按下列方法制备，下列说法正确的是
A.二氧化硅的分子式是SiO2
B.步骤①的化学方程式是SiO2 + C 
Si + CO2↑
C.步骤③中，每生成1mol Si，转移4mol电子
D.二氧化硅能与氢氟酸发生反应，而硅单质不能与氢氟酸发生反应
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高纯度晶体硅是良好的半导体材料，它的发现和使用引起了计算机的一场“革命”。它可以按下列方法制备：
SiO2
Si(粗)
SiHCl3
Si(纯)
下列说法不正确的是（ ）
A.步骤③中氢气作还原剂
B.硅和二氧化硅都能用作计算机“芯片”
C.步骤①的化学方程式为：SiO2+2C
Si+2CO↑
D.步骤①②③中发生的反应都属于氧化还原反应
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高纯度晶体硅是良好的半导体材料，它的发现和使用引起了计算机的一场“革命”。它可以按下列方法制备：
SiO2Si(粗)SiHCl3Si(纯)
下列说法不正确的是（ ）
A.步骤③中氢气作还原剂
B.硅和二氧化硅都能用作计算机“芯片”
C.步骤①的化学方程式为：SiO2+2CSi+2CO↑
D.步骤①②③中发生的反应都属于氧化还原反应
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