工业上粗硅的生产原理为2C+SiO2Si+2CO↑,下列说法正确的是( )
A. C表现出氧化性 B. SiO2发生氧化反应
C. SiO2是氧化剂 D. C被还原
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工业上粗硅的生产原理为2C+SiO2Si+2CO↑,下列说法正确的是
A.SiO2是氧化剂 B.SiO2发生氧化反应
C.C表现出氧化性 D.C被还原
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工业上粗硅的生产原理为2C+SiO2Si+2CO↑,下列说法正确的是( )
A. C表现出氧化性 B. SiO2发生氧化反应
C. SiO2是氧化剂 D. C被还原
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工业上粗硅的生产原理为2C+SiO2Si+2CO↑,其中SiO2是
A.氧化剂 B.还原剂
C.既是氧化剂又是还原剂 D.既不是氧化剂又不是还原剂
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关于硅及其化合物的叙述中,不正确的是
A. 硅是良好的半导体材料
B. 制备普通水泥的原料是纯碱、石灰石、石英
C. 可以用焦炭还原二氧化硅生产硅:SiO2+2CSi+2CO↑
D. HF刻蚀玻璃的反应原理是:SiO2+4HF=SiF4↑+2H2O
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有关化工生产原理说法正确的是( )
A.工业上制粗硅:SiO2 + CSi + CO2↑
B.海水提镁的主要步骤为
C.海水提溴原理
D.硫酸工业的接触室、合成氨工业的合成塔和氯碱工业的电解槽都有热交换器
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下列工业生产过程中,不涉及氧化还原反应的是
A.用S制备H2SO4
B.用CaCO3、Na2CO3、SiO2生产玻璃
C.将海水中的MgSO4转变为金属Mg
D.用NO2生产HNO3
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(原创)工业上以沙子为原料制取粗硅,主要反应的化学方程式为2C(s) + SiO2(s) =Si (s) + 2CO(g) △H > 0,对该反应的说法中不正确的是
A.△S>0
B.产物CO 为酸性氧化物
C.高温条件下才能自发进行
D.采用碎沙而非石块的原因可能是加快反应速率
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高纯氧化铁是现代电子工业的重要材料。以下是用硫酸厂产生的烧渣(主要成分为Fe2O3、Fe3O4、FeO、SiO2)为原料制备高纯氧化铁(软磁a-Fe2O3)的生产流程示意图。下列说法不正确的是
A. 酸溶时,常需将烧渣粉碎、并加入过量H2SO4,其目的是提高铁元素的浸出率,同时抑制铁离子的水解
B. 反应②的离子方程式为:FeS2+14Fe3++8H2O=15Fe2++2S042-+16H+
C. 加入NH4HCO3生成FeCO3,检验FeCO3是否洗涤干净的方法是取最后一次洗涤液少量放入试管,滴如盐酸酸化的氯化钡溶液,若无沉淀生成说明洗涤干净
D. 锻烧时空气中的氧气作氧化剂,所以用氯气代替空气也可得到高纯氧化铁
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