光刻胶是制造芯片、集成电路的关键材料。一种新型的光刻胶(高聚物)可由芳香化合物a、化合物b...

光刻胶是制造芯片、集成电路的关键材料。一种新型的光刻胶(高聚物)可由芳香化合物a、化合物b(b中氢的化学环境均相同)为原料制备，其合成路线如图：

已知：a、c均能与NaHCO3反应放出CO2。

下列说法错误的是(　 )

A.b的结构简式为CH3COCH3

B.c发生消去反应时的产物只有1种

C.d、e均能发生水解反应

D.反应③为加成聚合反应

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光刻胶是制造芯片、集成电路的关键材料。一种新型的光刻胶(高聚物)可由芳香化合物a、化合物b(b中氢的化学环境均相同)为原料制备，其合成路线如图：

已知：a、c均能与NaHCO3反应放出CO2。

下列说法错误的是(　 )

A.b的结构简式为CH3COCH3

B.c发生消去反应时的产物只有1种

C.d、e均能发生水解反应

D.反应③为加成聚合反应

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光刻胶是大规模集成电路印刷电路板技术中的关键材料，某一光刻胶的主要成分如图所示，下列有关说法正确的是(　　)

A. 该物质可经过缩聚反应制得

B. 1 mol该物质可消耗4 mol H2

C. 该物质可稳定存在于碱性溶液中

D. 合成此高聚物的单体的化学式为C11H10O2

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环境毒品“二恶英”是目前人类制造的剧毒的化学物质，其结构简式如图所示，它属于

A．高分子化合物 　　 B．芳香烃 　　 C．烃 　　 D．有机物

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下列说法中不正确的是　　 (　　)。

A．探求某种新型高分子材料，需要研究分子结构与功能之间的关系

B．新科技革命的三大支柱产业为能源、信息和材料

C．带有强亲水性原子团的化合物共聚可以得到强亲水性高聚物

D．具有网状结构的高聚物具有强吸水性

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（10分）乳酸（CH₃—CHOH—COOH­）是人体生理活动的一种代谢产物，其聚合物（聚乳酸）是一种新型可生物降解的高分子材料，主要用于制造可降解纤维、可降解塑料和医用材料。下图是工业上用化学方法对乳酸进行加工处理的过程，其中A、H、G为链状高分子化合物。

物质H的结构简式为，回答下列问题：

（1）写出下列物质的结构简式：C________，F________。

（2）上述反应①~⑦中，②是________反应，⑥是________反应。（填反应类型）

（3）写出下列反应的化学方程式：

①________。

⑦________。

（4）隐形眼镜的制作材料，应具有良好的光学性能、良好的透气性能和亲水性。一般采用G来制作隐形眼镜而不用H，其主要理由是________ 。

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为了避免或减少污染环境，科学家研制出多种新型杀虫剂，以代替DDT，右图的化合物就是其中的一种。下列关于该化合物说法不正确的是 (　　)。

A．该化合物不属于芳香烃

B．在一定条件下，可以发生加成反应

C．在一定条件下，可以发生酯化反应

D．该化合物能溶于水

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化合物Ⅰ（C11H12O3）是制备液晶材料的中间体之一。Ⅰ可以用E和H在一定条件下合成：

已知以下信息：

A的核磁共振氢谱表明其只有两种化学环境的氢；

RCH=CH2RCH2CH2OH

F是芳香族化合物，它的苯环上有四种氢，且取代基位置不相邻；

通常在同一个碳原子上连有两个羟基不稳定，易脱水形成羰基()。

回答下列问题：

（1）A →B的反应条件_________。

（2）D与银氨溶液反应的方程式 _________　　　　　　　　　　 。

（3）F的结构简式为___________，H中含氧官能团的名称 　　　　　　

（4）E与H生成I的化学方程式为　　　　　　　　　　　　　　 ,该反应类型为__________。

（5）I的同系物J比I的相对分子质量小28，J的同分异构体中能同时满足如下条件：

①苯环上只有两个取代基；

②既能发生银镜反应，又能和饱和NaHCO3溶液反应放出CO2，共有　　　　　 种（不考虑立体异构）。

（6）分子式为C5H10O2的化合物K可做香料，分类时可以与I看作一类物质。该化合物在一定条件下可以水解成两种相对分子质量相等的有机物，其中一种可以发生催化氧化生成醛，写出符合条件的K的结构简式　　　　　　　　 。

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