下列反应中可判断为可逆反应的是( )
A.氢气和氯气点燃生成氯化氢,氯化氢受热分解为氢气和氯气
B.氮气和氢气在高温、高压、催化剂作用下可以生成氨气,同时氨气又分解为氮气和氢气
C.单质溴可以置换出碘,氯气又可以置换出溴
D.氯气和水反应生成盐酸和次氯酸,次氯酸光照条件下可分解为盐酸和氧气
高一化学选择题中等难度题
下列反应中可判断为可逆反应的是( )
A.氢气和氯气点燃生成氯化氢,氯化氢受热分解为氢气和氯气
B.氮气和氢气在高温、高压、催化剂作用下可以生成氨气,同时氨气又分解为氮气和氢气
C.单质溴可以置换出碘,氯气又可以置换出溴
D.氯气和水反应生成盐酸和次氯酸,次氯酸光照条件下可分解为盐酸和氧气
高一化学选择题中等难度题查看答案及解析
下列变化属于氮的固定的是
A. 工业上用氨气和硝酸合成硝酸铵
B. 氯化铵受热分解生成氨气和氯化氢
C. 氨气与氯气反应生成氮气
D. 氮气和氧气在放电条件下生成NO
高一化学单选题中等难度题查看答案及解析
下列反应既属于氧化还原又属于离子反应的是
A. 盐酸与氢氧化钠溶液的反应 B. 氯化铵固体受热分解
C. 氯气与水反应 D. 高温下铁与水蒸气反应
高一化学单选题中等难度题查看答案及解析
下列有关化学反应的叙述正确酌是
A.常温下铜在浓硝酸中发生钝化 B.氯气和烧碱反应可制取漂白粉
C.碳酸氢钠固体受热分解可得到纯碱 D.铁和高温水蒸气反应生成铁红
高一化学单选题中等难度题查看答案及解析
按要求完成下列反应的方程式
(1)工业上用氮气和氢气直接合成氨的化学方程式______________
(2)氨被氧化生成一氧化氮的化学反应方程式______________
(3)碳酸氢铵受热分解______________
(4)过量的铁和稀硝酸反应的离子方程式______________
高一化学综合题中等难度题查看答案及解析
(NH4)2PtCl6晶体受热分解,生成氮气、氯化氢、氯化铵和金属铂,在此分解反应中,氧化产物与还原产物的物质的量之比是
A.2:3 B.3:2 C.4:3 D.1:3
【解析】根据反应前后的元素的化合价变化可判断,N元素由-3价升高到0,即氮气是氧化产物,每生成1mol氮气转移6mol电子。Pt的化合价由+4价降低到0价,所以Pt是还原产物。根据得失电子守恒可知生成铂的物质的量是,所以氧化产物和还原产物的物质的量之比是2:3,选项A正确。答案选A。
高一化学选择题简单题查看答案及解析
下列能量转化过程中没有化学能变化的是
A.氯化铵热分解反应
B.氮气和氢气化合生成氨的反应
C.碘升华
D.绿色植物的光合作用生成淀粉
高一化学选择题简单题查看答案及解析
单晶硅是信息产业中重要的基础材料。通常用炭在高温下还原二氧化硅制得粗硅(含铁、铝、硼、磷等杂质),粗硅与氯气反应生成四氯化硅(反应温度450~500℃ ),四氯化硅经提纯后用氢气还原可得高纯硅。以下是实验室制备四氯化硅的装置示意图。
相关信息:① 四氯化硅遇水极易水解;② SIC14沸点为57.7℃ ,熔点为-70.0℃ 。请回答:
(1)写出装置A 中发生反应的离子方程式_______________。
(2)装置C 中的试剂是___________;装置F的作用是_______________;
装置E 中的h 瓶需要冷却的理由是_______________。
(3)装置E 中h 瓶收集到的粗产物可通过精馏(类似多次蒸馏)得到高纯度四氯化硅,精馏后的残留物中含有铁元素,为了分析残留物中铁元素的含量,先将残留物预处理,使铁元素还原成Fe2+,再用KMnO4标准溶液在酸性条件下进行氧化还原滴定。
① 反应的离子方程式:_______________。② 滴定前是否要滴加指示剂?_______________。(填“是”或“否”) ,请说明理由_______________。
③ 滴定前检验Fe3+ 是否完全还原的实验操作是_______________。
高一化学实验题极难题查看答案及解析
通常用碳在高温下还原二氧化硅制得粗硅,粗硅(合铁、铝、硼、磷等杂质) 与氯气反应生成四氯化硅(反应温度450-500℃),四氧化硅经提纯后用氢气还原可得高纯硅。以下是实验室制备四氯化硅的装置示意图。(D的硬质玻璃管中盛装粗硅)
相关信息如下: a.四氧化硅遇水极易反应生成硅酸和氯化氢;
b.硼、铝、铁、磷在高温下均能与氯气直接反应生成相应的氯化物;
c.有关物质的物理常数见下表:
物质 | SiCl4 | BCl3 | AlCl3 | FeCl3 | PCl5 |
沸点/℃ | 57.7 | 12.8 | — | 315 | — |
熔点/℃ | -70.0 | -107.2 | — | — | — |
升华温度/℃ | — | — | 180 | 300 | 162 |
请回答下列问题:
(1)写出用碳在高温下还原二氧化硅制得粗硅的化学方程式_________________________。
(2)写出装置A中发生反应的离子方程式__________________________________。
(3)装置A中g管的作用是_________________;装置C中的试剂是____________;
(4)装置E中h瓶收集到的粗产物可通过多次蒸馏得到高纯度四氯化硅,蒸馏后的残留物中,除铁元素外可能还含有的杂质元素是________(填写元素符号)。
(5)写出尾气处理装置中发生反应的离子方程式___________________________。
(6)本题实验装置中有一明显的不足之处,请简述你的改进方案及理由: ___________。
高一化学实验题困难题查看答案及解析
单晶硅是信息产业中重要的基础材料。通常用碳在高温下还原二氧化硅制得粗硅(含铁、铝、硼、磷等杂质),粗硅与氯气反应生成四氯化硅(反应温度450-500℃),四氯化硅经提纯后用氢气还原可得高纯硅。以下是实验室制备四氯化硅的装置示意图。
相关信息如下:
a.四氯化硅接触水会发生化学反应;
b.硼、铝、铁、磷在高温下均能与氯气直接反应生成相应的氯化物;
c.有关物质的物理常数见下表:
物质 | SiCl4 | BC13 | A1C13 | FeCl3 | PCl5 |
沸点/℃ | 57.7 | 12.8 | - | 315 | - |
熔点/℃ | -70.0 | -107.2 | - | - | - |
升华温度/℃ | - | - | 180 | 300 | 162 |
请回答下列问题:
(1)写出装置A中发生反应的离子方程式:___________,D中发生反应的化学方程式___________。
(2)A中g管的作用是__________________,装置C中的试剂是___________,作用是___________。
(3)装置E中的h瓶需要冷却的理由是______________________。
(4)装置E中h瓶收集到的粗产物可通过精馏(类似多次蒸馏)得到高纯度四氯化硅,精馏后的残留物中,除铁元素外可能还含有的杂质元素是___________(填写元素符号)。
(5)过量的氯气可以用石灰乳来处理,请写出该反应的化学方程式_____________________。
高一化学实验题中等难度题查看答案及解析