下列离子方程式中，不正确的是A．用FeCl3溶液腐蚀铜线路板：Cu+2Fe3+═Cu2++...

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下列离子方程式的书写正确的是（　　　　 ）

A.用FeCl3溶液腐蚀印刷电路板：Fe3++Cu=Fe2++Cu2+

B.氯气通入NaOH溶液中：2OH-+Cl2=Cl-+ClO-+H2O

C.铁和稀硫酸反应：2Fe+6H+=2Fe3++3H2↑

D.AlC13溶液中加入足量的氨水：Al3++3OH-=Al（OH）3↓

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下列离子方程式书写正确的是

A. 用FeCl3溶液腐蚀铜线路板：Cu + 2Fe3+=Cu2+ + 2Fe2+

B. 钠和冷水反应：Na +2H2O = Na+ + OH— + H2↑

C. 将氯气溶于水制备次氯酸：Cl2+H2O=2H++Cl—+ClO—

D. 氢氧化钡溶液与稀硫酸反应：SO42—+Ba2+=BaSO4↓

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下列应用或现象对应的离子方程式不正确的是

A.用FeCl3溶液腐蚀电路板上的铜：2Fe3＋+Cu=2Fe2＋+Cu2＋

B.将FeCl3溶液加入滴有淀粉的KI溶液中，溶液变为蓝色：2Fe3＋+2I－=2Fe2＋+I2

C.往FeCl3溶液中通入H2S，产生淡黄色沉淀：H2S+ FeCl3=FeS↓+2H＋

D.将KOH溶液加入FeCl3溶液中，产生红褐色沉淀：Fe3＋+3OH－=Fe(OH)3↓

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下列实验设计及其对应的离子方程式均正确的是

A．用FeCl₃溶液腐蚀铜线路板：Cu＋2Fe^3＋===Cu^2＋＋2Fe^2＋

B．金属铁与稀硝酸反应制备氢气： Fe + 2H^＋ = Fe^2＋ + H₂↑

C．在硅酸钠溶液中滴加稀硫酸制备硅酸胶体； SiO₃^2― + 2H^＋ = H₂SO₃↓

D．铜粉与98．3%的硫酸加热下反应 Cu  + 4H^＋ + SO₄^2― = Cu^2＋ + SO₂↑ + 2H₂O

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下列反应的离子方程式中，正确的是

A. 用FeCl3溶液腐蚀铜线路板：Cu + 2Fe3+＝Cu2+ + 2Fe2+

B. 氯气溶于水:Cl2+H2O=2H++Cl-+ClO-

C. 氢氧化钡溶液与稀H2SO4反应：Ba2++SO42-=BaSO4↓

D. 碳酸钠溶液中逐滴加入少量的盐酸：2H+ + CO32－＝CO2↑+ H2O

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下列反应的离子方程式中，正确的是

A. 用FeCl3溶液腐蚀铜线路板：Cu + 2Fe3+＝Cu2+ + 2Fe2+

B. 氯气溶于水:Cl2+H2O=2H++Cl-+ClO-

C. 氢氧化钡溶液与稀H2SO4反应：Ba2++SO42-=BaSO4↓

D. 碳酸钠溶液中逐滴加入少量的盐酸：2H+ + CO32－＝CO2↑+ H2O

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下列表示化学反应的离子方程式正确的是

A.溶液中滴入稀盐酸：SO32-+2H+=H2O+SO2↑

B.用FeCl3溶液腐蚀铜线路板：Cu+2Fe3+=Cu2++2Fe2+

C.碳酸钙溶于稀醋酸：CaCO3+2H+=Ca2++H2O+CO2↑

D.钠与硫酸铜水溶液反应：2Na+Cu2+=Cu+2Na+

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下列实验设计及其对应的离子方程式均正确的是

A.将氯气溶于水获得新制氯水：Cl2+H2O=2H＋+Cl-+ClO-

B.用FeCl3溶液腐蚀铜线路板：Cu+2Fe3＋=Cu2＋+2Fe2＋

C.过量CO2通入NaAlO2溶液中制备氢氧化铝：AlO2-＋CO2＋2H2O=Al(OH)3↓＋CO32-

D.向KAl(SO4)2溶液中逐滴加入Ba(OH)2溶液，使原溶液中的SO42-恰好完全沉淀：2Al3++3SO42-+3Ba2++6OH-=3BaSO4↓+2Al(OH)3↓

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