高三化学填空题中等难度题
高三化学填空题中等难度题查看答案及解析
紫外线吸收剂广泛用作有机高分子材料的抗老化剂及化妆品中的防晒剂,其系列产品有许多种类,其中第Ⅰ类产品为二苯甲酮( )及其衍生物,第Ⅱ类为苯甲酸苯酯()的衍生物,某紫外线吸收剂UV-0(属于第Ⅰ类产品)的合成路线如下:
已知:
请回答:
(1)A 的结构简式为________,③的反应类型为 ________;
(2)反应②的化学方程式为________;
(3)产物UV-0的同分异构体中,符合第Ⅱ类产品结构的有机化合物共有种;
(4)BAD也是一种紫外线吸收剂,属于第Ⅱ类产品,它的结构简式如下:
BAD中的含氧官能团为________(填名称),
1mol BAD最多能和含________mol NaOH的溶液进行反应;
(5)BAD2+ M
M的核磁共振氢谱表明共含有________种不同环境的氢;写出含有同样种类的氢且比例关系相同的其中一种同分异构体的结构简式________。
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“对氨基苯甲酸丁酯”是防晒霜中能吸收紫外线的防晒剂。下列关于“对氨基苯甲酸丁酯”的说法正确的是( )
A.从有机物分类看,它可属于“氨基酸类”“酯类”“芳香烃类”
B.它能与盐酸反应,但不能与苛性钠溶液反应
C.甲酸丁酯基(—COOC4H9)有3种不同结构
D.它的分子式为C11H15NO2
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日常生活中用的防晒霜,如氨基苯甲酸、羟基丙酮等。它们之所以能“防晒”是( )
A.因它们为有机物,涂用后形成了一层“保护层”
B.因它们挥发时吸热,降低皮肤温度
C.因它们含有π键,能够有效吸收紫外线
D.因它们能与皮肤形成一层“隔热层”,阻碍照射
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选做(12分)【化学——有机化学基础】对羟基苯甲酸甲酯主要用作食品、化妆品、医药的杀菌防腐剂,以有机物M(分子式C9H10O2)为原料合成路线如下,其中E与有图中所示转化关系(无机产物略):
已知:当羟基与双键碳原子相连时,易发生转化RCH=CHOHRCH2CHO。
请回答下列问题:
(1)B与F中具有相同的官能团,检验该官能团的试剂是 。上述变化中属于取代反应的是 (填反应编号)。
(2)写出结构简式M ,A 。
(3)写出下列反应的化学方程式:
反应⑤ ;D与碳酸氢钠溶液反应 。
(4)写出同时符合下列要求的M的同分异构体的结构简式 。
Ⅰ.含有苯环,且苯环上的一氯取代产物有3种
Ⅱ.能发生银镜反应和水解反应
Ⅲ.在稀氢氧化钠溶液中,1mol该同分异构体能与1molNaOH反应
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课题组以甲苯为主要原料,采用以下路线合成化妆品防霉剂:对—羟基苯甲酸乙酯。
请回答:
(1)有机物C7H7Br的名称为 。
(2)产品的摩尔质量为 。
(3)在①~⑥的反应中属于取代反应的有 。
(4)在一定条件下发生聚合反应生成高分子化合物,写出该反应的化学方程式(有机物写结构简式) 。
(5)的同分异构体很多,其中符合下列条件有 种。
①遇到FeCl3溶液出现显色现象;②能发生水解反应;③能发生银境反应;④无-CH3结构。上述同分异构体中核磁共振氢谱显示其有5种峰的结构简式为 。
(6)高分子化合物是一种建筑材料,根据题中合成路线信息,以甲苯为原料合成该高分子化合物,请设计合成路线(无机试剂及溶剂任选)。注:合成路线的书写格式参照如下示例流程图:
。
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[化学——有机化学基础](13分)
某课题组以甲苯为主要原料,采用以下路线合成化妆品防霉剂:对—羟基苯甲酸乙酯。
请回答:
(1)产品的摩尔质量为_____________________。
(2)在①~⑥的反应中属于取代反应的有_______________________。
(3)在一定条件下发生聚合反应生成高分子化合物,写出该反应的化学方程式(有机物写结构简式) 。
(4)的同分异构体很多,其中符合下列条件有______种。
①遇到FeCl3溶液出现显色现象;②能发生水解反应;③能发生银境反应;④无-CH3结构。上述同分异构体中核磁共振氢谱显示其有5种峰的结构简式为 。
(5)高分子化合物是一种建筑材料,根据题中合成路线信息,以甲苯为原料合成该高分子化合物,请设计合成路线(无机试剂及溶剂任选)。注:合成路线的书写格式参照如下示例流程图:
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