半圆柱体P放在粗糙的水平面上,有一挡板MN,延长线总是过半圆柱体的轴心O,但挡板与半圆柱不接触,在P和MN之间放有一个光滑均匀的小圆柱体Q,整个装置处于静止状态,如图是这个装置的截面图,若用外力使MN绕O点缓慢地顺时针转动,在MN到达水平位置前,发现P始终保持静止,在此过程中,下列说法中正确的是( )
A.MN对Q的弹力逐渐增大
B.地面对P的弹力逐渐增大
C.P、Q间的弹力先减小后增大
D.Q所受的合力逐渐增大
高一物理选择题中等难度题
半圆柱体P放在粗糙的水平面上,有一挡板MN,其延长线总是过半圆柱体的轴心O,但挡板与半圆柱体不接触,在P和MN之间放有一个光滑均匀的小圆柱体Q,整个装置处于静止状态,如图是这个装置的截面图,若用外力使MN绕O点缓慢地逆时针转动,在Q到达最高位置前,发现P始终保持静止,在此过程中,下列说法正确的是
A.MN对Q的弹力大小保持不变
B.P、Q间的弹力先增大后减小
C.桌面对P的摩擦力先增大后减小
D.P所受桌面的支持力一直增大
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半圆柱体P放在粗糙的水平面上,有一挡板MN,其延长线总是过半圆柱体的轴心O,但挡板与半圆柱体不接触,在P和MN之间放有一个光滑均匀的小圆柱体Q(P的截面半径远大于Q的截面半径),整个装置处于静止状态,如图是这个装置的截面图,若用外力使MN绕O点缓慢地逆时针转动,在Q到达最高位置前,发现P始终保持静止,在此过程中,下列说法正确的是
A.MN对Q的弹力大小逐渐减小
B.P、Q间的弹力先增大后减小
C.桌面对P的摩擦力先增大后减小
D.P所受桌面的支持力保持不变
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半圆柱体P放在粗糙的水平面上,有一挡板MN,延长线总是过半圆柱体的轴心O,但挡板与半圆柱不接触,在P和MN之间放有一个光滑均匀的小圆柱体Q,整个装置处于静止状态,如图是这个装置的截面图,若用外力使MN绕O点缓慢地顺时针转动,在MN到达水平位置前,发现P始终保持静止,在此过程中,下列说法中正确的是( )
A.MN对Q的弹力逐渐增大
B.地面对P的弹力逐渐增大
C.P、Q间的弹力先减小后增大
D.Q所受的合力逐渐增大
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(1)一倾斜轻杆AB上一光滑小球位于A端,现处于静止状态,试画出小球受力的示意图.
(2)如图(横截面图)一半圆柱体P放在粗糙的水平面上,其右端有一竖直挡板MN,在半圆柱体P和挡板MN之间有一个光滑小圆柱体Q,整个装置处在静止状态,画出小圆柱体Q受力的示意图。
(3)质量均为m的三木块A、B、C,其中除A的左侧面光滑外,其余各侧面均粗糙.当受到水平外力F时,三木块均处于静止状态.画出木块C的受力示意图.
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半圆柱体P放在粗糙的水平地面上,其右端有一固定放置的竖直挡板MN.在半圆柱体P和MN之间放有一个光滑均匀的小圆柱体Q,整个装置处于平衡状态,如图所示是这个装置的截面图.现使MN保持竖直并且缓慢地向右平移,在Q滑落到地面之前,发现P始终保持静止.则在此过程中,下列说法中正确的是( )
A.MN对Q的弹力逐渐减小
B.P对Q的弹力逐渐增大
C.地面对P的摩擦力逐渐增大
D.Q所受的合力逐渐增大
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半圆柱体P放在粗糙的水平地面上,其右端有一固定放置的竖直挡板MN.在半圆柱体P和MN之间放有一个光滑均匀的小圆柱体Q,整个装置处于平衡状态,如图所示是这个装置的截面图.现使MN保持竖直并且缓慢地向右平移,在Q滑落到地面之前,发现P始终保持静止.则在此过程中,下列说法中正确的是( )
A.MN对Q的弹力逐渐减小
B.P对Q的弹力逐渐增大
C.地面对P的摩擦力逐渐增大
D.Q所受的合力逐渐增大
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如图所示,半圆柱体P放在粗糙水平地面上,其右端有一竖直挡板MN.在半圆柱体P和MN之间放有一个光滑均匀的小圆柱体Q,整个装置处于平衡状态.现使MN保持竖直并且缓慢地向右平移,在Q滑落到地面之前的此过程中,P始终静止不动,对于此过程下列说法中正确的是 ( )
A.MN对Q的弹力保持不变
B.P对Q的作用力先增大后减小
C.P对Q的作用力逐渐增大
D.地面对P的摩擦力逐渐增大
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半圆柱体P放在粗糙的水平地面上,其右端有一固定放置的竖直挡板MN。在半圆柱体P和MN之间放有一个光滑均匀的小圆柱体Q,整个装置处于平衡状态,如图所示是这个装置的截面图。现使MN保持竖直并且缓慢地向右平移,在Q滑落到地面之前,发现P始终保持静止。则在此过程中,下列说法中正确的是( )
A.MN对Q的弹力逐渐减小 B.P对Q的弹力逐渐增大
C.地面对P的摩擦力逐渐增大 D.Q所受的合力逐渐增大
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