液晶高分子材料应用广泛．新型液晶基元﹣化合物Ⅳ的合成线路如下：
（1）化合物Ⅰ的分子式为 ，含有的官能团 ，1mol化合物Ⅰ完全燃烧消耗标准状况下 O2 L。
（2）CH2=CH﹣CH2Br与NaOH水溶液反应的化学方程式为 （注明条件）。
（3）下列关于化合物Ⅱ的说法正确的是 （填字母）。
A．能与FeCl3溶液反应呈紫色 B．属于烯烃
C．最多能与4mol H2发生加成反应 D．一定条件下能发生加聚反应
（4）反应③的反应类型是 。在一定条件下，化合物
也可与Ⅲ发生类似反应③的反应生成有机物Ⅴ，Ⅴ的结构简式是 。
高二化学推断题困难题
液晶高分子材料应用广泛．新型液晶基元﹣化合物Ⅳ的合成线路如下：
（1）化合物Ⅰ的分子式为 ，含有的官能团 ，1mol化合物Ⅰ完全燃烧消耗标准状况下 O2 L。
（2）CH2=CH﹣CH2Br与NaOH水溶液反应的化学方程式为 （注明条件）。
（3）下列关于化合物Ⅱ的说法正确的是 （填字母）。
A．能与FeCl3溶液反应呈紫色 B．属于烯烃
C．最多能与4mol H2发生加成反应 D．一定条件下能发生加聚反应
（4）反应③的反应类型是 。在一定条件下，化合物也可与Ⅲ发生类似反应③的反应生成有机物Ⅴ，Ⅴ的结构简式是 。
高二化学推断题困难题查看答案及解析
液晶高分子材料应用广泛．新型液晶基元﹣化合物Ⅳ的合成线路如下：
（1）化合物Ⅰ的分子式为 ，含有的官能团 ，1mol化合物Ⅰ完全燃烧消耗标准状况下 O2 L。
（2）CH2=CH﹣CH2Br与NaOH水溶液反应的化学方程式为 （注明条件）。
（3）下列关于化合物Ⅱ的说法正确的是 （填字母）。
A．能与FeCl3溶液反应呈紫色 B．属于烯烃
C．最多能与4mol H2发生加成反应 D．一定条件下能发生加聚反应
（4）反应③的反应类型是 。在一定条件下，化合物
也可与Ⅲ发生类似反应③的反应生成有机物Ⅴ，Ⅴ的结构简式是 。
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液晶高分子材料应用广泛。新型液晶基元——化合物Ⅳ的合成线路如下：
请回答下列问题：
（1）化合物Ⅰ的分子式为 ，2mol化合物Ⅰ最多可与________mol NaOH反应。
（2）CH2===CH—CH2Br与NaOH水溶液反应的化学方程式为(注明条件)。
________________________________________________________________________。
（3）化合物Ⅰ的同分异构体中，苯环上一溴代物只有2种且能发生银镜反应的化合物有多种，写出满足该条件的同分异体的结构简式_______________________________。
（4）反应③的反应类型是_____________。在一定条件下，化合物
也可与化合物Ⅲ发生类似反应③的反应，生成有机物Ⅴ。Ⅴ的结构简式是_______________________________。
（5）下列关于化合物Ⅳ的说法正确的是________(填字母)。
A．属于烯烃 B．能与FeCl3溶液反应显紫色
C．一定条件下能发生加聚反应 D．能使溴的四氯化碳溶液褪色
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液晶高分子材料应用广泛。新型液晶基元－－化合物Ⅳ的合成线路如下：
（1）化合物Ⅰ的分子式为________，1mol化合物Ⅰ最多可与________molNaOH反应。
（2）CH2=CH－CH2Br与NaOH水溶液反应的化学方程式为______________(注明条件)。
（3）化合物Ⅰ的同分异构体中，苯环上一溴代物只有2种且能发生银镜反应的化合物有多种，写出其中1种同分异构体的结构简式：____________________________________。
（4）下列关于化合物Ⅱ的说法正确的是________。
A．属于烯烃
B．能与FeCl3溶液反应显紫色
C．一定条件下能发生加聚反应
D．能使溴的四氯化碳溶液褪色
（5）反应③的反应类型是________。在一定条件下，化合物
也可与Ⅲ发生类似反应③的反应生成有机物V。V的结构简式是_____________________________。
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【化学—选修5：有机化学基础】
光刻胶是一种应用广泛的光敏材料，其合成路线如下（部分试剂和产物略去）：
已知Ⅰ．
（R，R′为烃基或氢）
Ⅱ．
（R，R′为烃基）
（1）写出A的结构简式
（2）B分子中所含官能团名称为 。
（3）乙炔和羧酸X加成生成E，E的核磁共振氢谱为三组峰，且峰面积比为3:2:1，E能发生水解反应，则E→F的化学方程式为 。
（4）由B到C的反应类型为 。由F到G的反应类型为
（5）D和G反应生成光刻胶的化学方程式为 。
（6）C的一种同分异构体满足下列条件：
①能发生银镜反应，其水解产物之一能与FeCl3溶液发生显色反应；
②苯环上的一氯取代产物只有两种。写出该同分异构体的结构简式： 。
（7）根据已有知识并结合相关信息，写出以CH3CHO为原料制备CH3COCOCOOH的合成路线流程图（无机试剂任用）。合成路线流程图示例如下：
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（15分）光刻胶是一种应用广泛的光敏材料，其合成路线如下（部分试剂和产物略去）：
已知：A是苯甲醛
Ⅰ．
（R，R′为烃基或氢）
Ⅱ．
（R，R′为烃基）
（1）C分子中所含官能团名称为 。
（2）乙炔和羧酸X加成生成E，E的核磁共振氢谱为三组峰，且峰面积比为3:2:1，E能发生水解反应，则E的结构简式为 。
（3）由C到D的反应类型为 。
（4）D和G反应生成光刻胶的化学方程式为 。
（5）C的一种同分异构体满足下列条件：
①能发生银镜反应，其水解产物之一能与FeCl3溶液发生显色反应；
②苯环上的一氯取代产物只有两种。
写出该同分异构体的结构简式： 。
（6）根据已有知识并结合相关信息，写出以CH3CHO为原料制备CH3COCOCOOH的合成路线流程图（无机试剂任用）。合成路线流程图示例如下：
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酚醛树脂是应用广泛的高分子材料，可用酚类与醛类在酸或碱的催化下相互缩合而成，类似的合成过程如下：
反应①
反应②
+（n-1）H2O
⑴化合物Ⅰ的分子式____________。
⑵苯酚与浓溴水反应的化学方程式为_____________。
⑶化合物Ⅱ
也能与CH3CHO发生类似反应①的反应，生成有机物Ⅲ，该反应化学方程式为________________；写出有机物Ⅱ与足量NaHCO3反应的化学方程式_________。
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席夫碱类化合物G在催化、药物、新材料等方面有广泛应用。合成G的一种路线如下：
已知以下信息：
①
②1molB经上述反应可生成2molC，且C不能发生银镜反应。
③D属于单取代芳香烃，其相对分子质量为106。
④核磁共振氢谱显示F苯环上有两种化学环境的氢。
⑤
回答下列问题：
（1）由A生成B的化学方程式为 ，反应类型为 。
（2）D的化学名称是 ，由D生成E的化学方程式为： 。
（3）G的结构简式为 。
（4）F的同分异构体中含有苯环的有多种（不考虑立体异构）。其中核磁共振氢谱中有4组峰，且面积比为6：2：2：1的是_____ __。（写出其中的一种的结构简式）。
（5）由苯和化合物C经如下步骤可合成N-异丙基苯胺。
反应条件1所选择的试剂为____ ________；反应条件2所选择的试剂为___ _____；I的结构简式为____ _________。
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席夫碱类化合物G在催化、药物、新材料等方面有广泛应用。合成G的一种路线如下：
已知以下信息：
①
②1molB经上述反应可生成2molC，且C不能发生银镜反应。
③D属于单取代芳香烃，其相对分子质量为106。
④核磁共振氢谱显示F苯环上有两种化学环境的氢。
⑤
回答下列问题：
（1）由A生成B的化学方程式为_______________________。
（2）D的化学名称是______________________。
（3）G的结构简式为_______________________。
（4）F的同分异构体中含有苯环的还有____种（不考虑立体异构）。
（5）由苯和化合物C经如下步骤可合成N-异丙基苯胺。
反应条件2所选用的试剂是_____________________， I的结构简式为___________________。
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席夫碱类化合物G在催化、药物、新材料等方面有广泛应用。合成G的一种路线如下：
已知以下信息：
①
②1 mol B经上述反应可生2 mol C，且C不能发生银镜反应
③D属于单取代芳烃，其相对分子质量为106
④核磁共振氢谱显示F苯环上有两种化学环境的氢
⑤
回答下列问题：
(1)由A生成B的反应类型为____________
(2)D的化学名称是____________，由D生成E的化学方程式为： ______
(3)G的结构简式为____________
(4)F的同分异构体中含有苯环的还有____种（不考虑立体异构）。其中核磁共振氢谱中有4组峰，且面积比为6：2：2：1的是_______。（写出其中的一种的结构简式）。
(5)由苯和化合物C经如下步骤可合成N-异丙基苯胺。
反应条件1所选择的试剂为__________；反应条件2所选择的试剂为________。
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