工业上电解饱和食盐水能制取多种化工原料，其中部分原料可用于制备多晶硅．下图1是离子交换膜法...

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工业上电解饱和食盐水能制取多种化工原料，其中部分原料可用于制备多晶硅．下图1是离子交换膜法（允许钠离子通过，不允许氢氧根与氯离子通过）电解饱和食盐水，电解槽阳极产生的气体是______，NaOH溶液的出口为______（填字母），精制饱和食盐水的进口为______（填字母），干燥塔中应使用的液体是______．

（1）多晶硅主要采用SiHC1₃还原工艺生产，其副产物SiC1₄的综合利用受到广泛关注．SiC1₄可制气相白炭黑（与光导纤维主要原料相同），方法为高温下SiC1₄、H₂、O₂反应，产物有两种，化学方程式为______ SiO₂+4HCl
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工业上电解饱和食盐水能制取多种化工原料，其中部分原料可用于制备多晶硅。
(1) 右图是离子交换膜法电解饱和食盐水示意图，电解槽阳极产生的气体是； NaOH溶液的出口为______ (填字母）；精制饱和食盐水的进口为_____ (填字母）；干燥塔中使用的液体干燥剂是____（每空2分）。
(2) 原料粗盐中常含有泥沙和Ca²⁺、Mg²⁺、Fe³⁺、SO₄^2-等杂质，必须精制后才能供电解使用。精制时，粗盐溶于水过滤后，还要加人的试剂分别为①Na₂CO₃、②HCl(盐酸）、③BaCl₂,这3种试剂添加的合理顺序是（2分)(填序号)。
(3) 多晶硅主要采用SiHCl₃还原工艺生产,其副产物SiCl₄的综合利用受到广泛关注SiCl₄可制气相白炭黑(与光导纤维主要原料相同），方法为高温下SiCl₄与H₂和O₂反应，产物有两种，化学方程式为 ________(2分)。也可转化为而循环使用。一定条件下，在20⁰C恒容密闭容器中发生反应_: ，达平衡后，H2与SiHCL₃物质的量浓度分别为0. 140mol/L和0. 020mol/L，若H₂全部来源于离子交换膜法的电解产物，理论上需消耗纯NaCl的物质的量为_______ (2分)mol。
(4)已知1 g阴极产生的气体在阳极产生的气体中完全燃烧时放出92. 3 kj的热量，则该反应的热化学方程式为: ________________(2分)。

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工业上电解饱和食盐水能制取多种化工原料，其中部分原料可用于制备多晶硅。
(1)上图是离子交换膜法电解饱和食盐水示意图，电解槽阳极产生的气体是______；NaOH溶液的出口为________(填字母)；精制饱和食盐水的进口为________(填字母)；干燥塔中应使用的液体是________。
(2)多晶硅主要采用SiHCl₃还原工艺生产，其副产物SiCl₄的综合利用受到广泛关注。
①SiCl₄可制气相白炭黑(与光导纤维主要原料相同)，方法为高温下SiCl₄与H₂和O₂反应，产物有两种，化学方程式为______________________________________________________。
②SiCl₄可转化为SiHCl₃而循环使用，一定条件下，在20 L恒容密闭容器中的反应：
3SiCl₄(g)＋2H₂(g)＋Si(s)4SiHCl₃(g)
达平衡后，H₂和SiHCl₃物质的量浓度分别为0.140 mol/L和0.020 mol/L，若H₂全部来源于离子交换膜法的电解产物，理论上需消耗纯NaCl的质量为______kg。
(3)采用无膜电解槽电解饱和食盐水，可制取氯酸钠，同时生成氢气，现制得氯酸钠213.0 kg，则生成氢气________m³(标准状况)。

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工业上电解饱和食盐水能制取多种化工原料，其中部分原料可用于制备多晶硅。
(1)如图是离子交换膜法电解饱和食盐水示意图，电解槽阳极产生的气体是________；NaOH溶液的出口为________(填字母)；精制饱和食盐水的进口为________(填字母)；干燥塔中应使用的液体是________。
(2)多晶硅主要采用SiHCl₃还原工艺生产，其副产物SiCl₄的综合利用受到广泛关注。
①SiCl₄可制气相白炭黑(与光导纤维主要原料相同)，方法为高温下SiCl₄与H₂和O₂反应，产物有两种，化学方程式为______________________。
②SiCl₄可转化为SiHCl₃而循环使用。一定条件下，在20L恒容密闭容器中的反应：
3SiCl₄(g)＋2H₂(g)＋Si(g)4SiHCl₃(g)
达平衡后，H₂与SiHCl₃物质的量浓度分别为0.140mol/L和0.020mol/L，若H₂全部来源于离子交换膜法的电解产物，理论上需消耗纯NaCl的质量为________kg。
(3)采用无膜电解槽电解饱和食盐水，可制取氯酸钠，同时生成氢气，现制得氯酸钠213.0kg，则生成氢气________m³(标准状况)。

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工业上电解饱和食盐能制取多种化工原料，其中部分原料可用于制备多晶硅．
（1）图是离子交换膜法电解饱和食盐水示意图，电解槽阳极产生的气体是______；NaOH溶液的出口为______（填字母）；精制饱和食盐水的进口为______（填字母）；干燥塔中应使用的液体是______．

（2）多晶硅主要采用SiHCl₃还原工艺生产，其副产物SiCl₄的综合利用收到广泛关注．
①SiCl₄可制气相白炭黑（与光导纤维主要原料相同），方法为高温下SiCl₄与H₂和O₂反应，产物有两种，化学方程式为______ SiO₂+4HCl

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工业上电解饱和食盐能制取多种化工原料，其中部分原料可用于制备多晶硅．
（1）图是离子交换膜法电解饱和食盐水示意图，电解槽阳极产生的气体是______；NaOH溶液的出口为______（填字母）；精制饱和食盐水的进口为______（填字母）；干燥塔中应使用的液体是______．

（2）多晶硅主要采用SiHCl₃还原工艺生产，其副产物SiCl₄的综合利用收到广泛关注．
①SiCl₄可制气相白炭黑（与光导纤维主要原料相同），方法为高温下SiCl₄与H₂和O₂反应，产物有两种，化学方程式为______ SiO₂+4HCl

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工业上电解饱和食盐能制取多种化工原料，其中部分原料可用于制备多晶硅。
（1）题26图是离子交换膜法电解饱和食盐水示意图，电解槽阳极产生的气体是________；NaOH溶液的出口为________（填字母）；精制饱和食盐水的进口为________（填字母）；干燥塔中应使用的液体是________。
（2）多晶硅主要采用SiHCl₃还原工艺生产，其副产物SiCl₄的综合利用收到广泛关注。
①SiCl₄可制气相白炭黑（与光导纤维主要原料相同），方法为高温下SiCl₄与H₂和O₂反应，产物有两种，化学方程式为________。
②SiCl₄可转化为SiHCl₃而循环使用。一定条件下，在20L恒容密闭容器中的反应：
3 SiCl₄（g）+2H₂（g）+Si（s）4SiHCl₃（g）
达平衡后，H₂与SiHCl₃物质的量浓度分别为0.140mol/L和0.020mol/L，若H₂全部来源于离子交换膜法的电解产物，理论上需消耗纯NaCl的质量为________kg。
（3）采用无膜电解槽电解饱和食盐水，可制取氯酸钠，同时生成氢气，现制得氯酸钠213.0kg，则生成氢气________（标准状况）。

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Ⅰ．工业上电解饱和食盐能制取多种化工原料，其中部分原料可用于制备多晶硅．
（1）原料粗盐中常含有泥沙和Ca²⁺、Mg²⁺、Fe³⁺、SO₄^2-等杂质，必须精制后才能供电解使用．精制时，粗盐溶于水过滤后，还要加入的试剂分别为①Na₂CO₃、②HCl（盐酸）③BaCl₂，这3种试剂添加的合理顺序是______（填序号）洗涤除去NaCl晶体表面附带的少量KCl，选用的试剂为______．（填序号）（①饱和Na₂CO₃溶液 ②饱和K₂CO₃溶液 ③75%乙醇 ④四氯化碳）
（2）如图是离子交换膜（允许钠离子通过，不允许氢氧根与氯离子通过）法电解饱和食盐水示意图，电解槽阳极产生的气体是______；NaOH溶液的出口为______（填字母）；精制饱和食盐水的进口为______（填字母）；干燥塔中应使用的液体是______．

Ⅱ．多晶硅主要采用SiHCl₃还原工艺生产，其副产物SiCl₄的综合利用受到广泛关注．
（1）SiCl₄可制气相白炭黑（与光导纤维主要原料相同），方法为高温下SiCl₄与H₂和O₂反应，产物有两种，化学方程式为______ SiO₂+4HCl
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工业上电解饱和食盐能制取多种化工原料，如图是离子交换膜法电解饱和食盐水示意图，下列说法中不正确的是（）

A．电解槽阳极的反应方程式为：2Cl^--2e^-═Cl₂↑
B．产品 NaOH的出口是b
C．精制饱和食盐水的进口为d
D．干燥塔中应使用的液体是浓硫酸
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工业上电解饱和食盐水可得到多种工业原料，其中氢气和氯气用途非常广泛．
（1）如图所示是离子交换膜（允许钠离子通过，不允许氢氧根与氯离子通过）法电解饱和食盐水示意图．电解过程中，A极发生的是______（填“氧化”或“还原”）反应；B极的电极反应方程式为______．若将电极材料换为铁棒，则B极的电极反应为______．
（2）以上反应得到的H₂和C1₂可直接化合制盐酸．有人设想利用原电池原理直接制备盐酸，同时获得电能．若这种设想可行，则通氢气的电极为______极；通氯气的电极反应式为______．
（3）工业制得的浓盐酸往往呈黄色，原因是输送氯气的铁管道被腐蚀所致．请写出有关反应的化学方程式______，这种腐蚀属于______．
（4）室温下，将1.000mo1•L^-1盐酸滴入20.00mL1.000mo1•L^-1氨水中，当溶液pH=7时，c（C1^-）______c（NH₄⁺）（填=、＞、＜）；当滴入20.00mL盐酸时，溶液中各离子浓度由大到小的顺序为______．

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