(14分)高分子材料M在光聚合物和金属涂料方面有重要用途,M的结构简式为:
工业上合成M的过程可表示如下:
已知:A完全燃烧只生成CO2和H2O,其蒸气密度是相同状况下氢气密度的43倍,分子中H、O原子个数比为3:1。它与Na或Na2CO3都能反应产生无色气体。
(1)A中含有的官能团的名称是________。
(2)下列说法正确的是________(填序号字母)。
a.工业上,B主要通过石油分馏获得
b.C的同分异构体有2种(不包括C)
c.D在水中的溶解性很大,遇新制Cu(OH)2悬浊液, 溶液呈绛蓝色
d.E→M的反应是缩聚反应
(3)写出A+D+H3PO4→E反应的化学方程式:________,该反应类型是________反应。
(4)F是A 的一种同分异构体,F的核磁共振氢谱显示分子中有两种不同的氢原子。存在下列转化关系:
写出F、N的结构简式F:________ N:________。
写出反应①的化学方程式________。
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(14分)高分子材料M在光聚合物和金属涂料方面有重要用途,M的结构简式为:
工业上合成M的过程可表示如下:
已知:A完全燃烧只生成CO2和H2O,其蒸气密度是相同状况下氢气密度的43倍,分子中H、O原子个数比为3:1。它与Na或Na2CO3都能反应产生无色气体。
(1)A中含有的官能团的名称是________。
(2)下列说法正确的是________(填序号字母)。
a.工业上,B主要通过石油分馏获得
b.C的同分异构体有2种(不包括C)
c.D在水中的溶解性很大,遇新制Cu(OH)2悬浊液, 溶液呈绛蓝色
d.E→M的反应是缩聚反应
(3)写出A+D+H3PO4→E反应的化学方程式:________,该反应类型是________反应。
(4)F是A 的一种同分异构体,F的核磁共振氢谱显示分子中有两种不同的氢原子。存在下列转化关系:
写出F、N的结构简式F:________ N:________。
写出反应①的化学方程式________。
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(14分)高分子材料M在光聚合物和金属涂料方面有重要用途,M的结构简式为:
已知:A完全燃烧只生成CO2和H2O,其蒸气密度是相同状况下氢气密度的43倍,分子中H、0原子个数比为3:1。它与Na或Na2CO3都能反应产生无色气体。
(1)A中含有的官能团的名称是________。
(2)下列说法正确的是________(填序号字母)。
a.工业上,B主要通过石油分馏获得
b.C的同分异构体有2种(不包括C)
c.D在水中的溶解性很大,遇新制Cu(OH)2悬浊液,溶液呈绛蓝色
d.E—M的反应是缩聚反应
(3)写出A+D+H3PO4--E反应的化学方程式:________,该反应类型是________。
(4)F是A的一种同分异构体,F的核磁共振氢谱显示分子中有两种不同的氢原子。存在下列转化关系:
写出F、N的结构简式为:F:________N:________
写出反应①的化学方程式____
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(14分)高分子材料M在光聚合物和金属涂料方面有重要用途,M的结构简式为:
已知:A完全燃烧只生成CO2和H2O,其蒸气密度是相同状况下氢气密度的43倍,分子中H、0原子个数比为3:1。它与Na或Na2CO3都能反应产生无色气体。
(1)A中含有的官能团的名称是________。
(2)下列说法正确的是________(填序号字母)。
a.工业上,B主要通过石油分馏获得
b.C的同分异构体有2种(不包括C)
c.D在水中的溶解性很大,遇新制Cu(OH)2悬浊液,溶液呈绛蓝色
d.E—M的反应是缩聚反应
(3)写出A+D+H3PO4--E反应的化学方程式:________,该反应类型是________。
(4)F是A的一种同分异构体,F的核磁共振氢谱显示分子中有两种不同的氢原子。存在下列转化关系:
写出F、N的结构简式为:F:________N:________
写出反应①的化学方程式____
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(14分)高分子材料M在光聚合物和金属涂料方面有重要用途,M的结构简式为:
已知:A完全燃烧只生成CO2和H2O,其蒸气密度是相同状况下氢气密度的43倍,分子中H、0原子个数比为3:1。它与Na或Na2CO3都能反应产生无色气体。
(1)A中含有的官能团的名称是________。
(2)下列说法正确的是________(填序号字母)。
a.工业上,B主要通过石油分馏获得
b.C的同分异构体有2种(不包括C)
c.D在水中的溶解性很大,遇新制Cu(OH)2悬浊液,溶液呈绛蓝色
d.E—M的反应是缩聚反应
(3)写出A+D+H3PO4--E反应的化学方程式:________,该反应类型是________。
(4)F是A的一种同分异构体,F的核磁共振氢谱显示分子中有两种不同的氢原子。存在下列转化关系:
写出F、N的结构简式为:F:________N:________
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(10分)高分子材料M在光聚合物和金属涂料方面有重要用途,M的结构简式为:
已知:A完全燃烧只生成CO2和H2O,其蒸气密度是相同状况下氢气密度的43倍,分子中H、0原子个数比为3:1。它与Na或Na2CO3都能反应产生无色气体。
(1)A中含有的官能团的名称是________。
(2)下列说法正确的是________(填序号字母)。
a.工业上,B主要通过石油分馏获得
b.C的同分异构体有2种(不包括C)
c.D在水中的溶解性很大,遇新制Cu(OH)2悬浊液,溶液呈绛蓝色
d.E—M的反应是缩聚反应
(3)写出A+D+H3PO4--E反应的化学方程式:________,该反应类型是________。
(4)F是A的一种同分异构体,F的核磁共振氢谱显示分子中有两种不同的氢原子。存在下列转化关系:
写出F、N的结构简式为:F:________N:________
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(12分)高分子材料M在光聚合物和金属涂料方面有重要用途,M的结构简式为:
已知:A完全燃烧只生成CO2和H2O,其蒸气密度是相同状况下氢气密度的43倍,分子中H、0原子个数比为3:1。它与Na或Na2CO3都能反应产生无色气体。
(1)A中含有的官能团的名称是________。
(2)下列说法正确的是________(填序号字母)。
a.工业上,B主要通过石油分馏获得
b.C的同分异构体有2种(不包括C)
c.D在水中的溶解性很大,遇新制Cu(OH)2悬浊液,溶液呈绛蓝色
d.E—M的反应是缩聚反应
(3)写出A+D+H3PO4--E反应的化学方程式:________,该反应类型是________。
(4)F是A的一种同分异构体,F的核磁共振氢谱显示分子中有两种不同的氢原子。存在下列转化关系:
写出F、N的结构简式为:F:________N:________
写出反应①的化学方程式____________
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(10分)高分子材料M在光聚合物和金属涂料方面有重要用途,M的结构简式为:
已知:A完全燃烧只生成CO2和H2O,其蒸气密度是相同状况下氢气密度的43倍,分子中H、0原子个数比为3:1。它与Na或Na2CO3都能反应产生无色气体。
(1)A中含有的官能团的名称是________。
(2)下列说法正确的是________(填序号字母)。
a.工业上,B主要通过石油分馏获得
b.C的同分异构体有2种(不包括C)
c.D在水中的溶解性很大,遇新制Cu(OH)2悬浊液,溶液呈绛蓝色
d.E—M的反应是缩聚反应
(3)写出A+D+H3PO4--E反应的化学方程式:________,该反应类型是________。
(4)F是A的一种同分异构体,F的核磁共振氢谱显示分子中有两种不同的氢原子。存在下列转化关系:
写出F、N的结构简式为:F:________N:________
写出反应①的化学方程式____________
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高分子材料M在光聚合物和金属涂料方面有重要用途。
已知:
M可以用丙烯为原料,通过如下图所示的路线合成:
(1)A中两种官能团的名称是________和________。
(2)注明反应类型。C→甲基丙烯酸:________,E→M:________。
(3)写出下列反应的化学方程式:
① D→C3H8O2:________。② 生成E:________。
(4)A→B的反应中还可能生成一种有机副产物,该副产物的结构简式为________。
(5)写出与甲基丙烯酸具有相同官能团的所有同分异构体(包括顺反异构)的结构简式________。
(6)请用合成路线流程图表示A→丙烯酸(CH2=CHCOOH)的合成线路,并注明反应条件。
提示:① 氧化羟基的条件足以氧化有机分子中的碳碳双键;
② 合成过程中无机试剂任选;
③ 合成路线流程图示例如下:
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(16分)席夫碱类化合物在催化、药物等方面用途广泛。某种席夫碱的合成路线①如下:
(1)Ⅰ的分子式为________.1 mol Ⅴ完全燃烧至少需要消耗________mol O2。
(2)Ⅲ与NaOH水溶液共热反应,化学方程式为________。
(3)Ⅳ发生聚合反应生成的高分子化合物的结构简式为________。
(4)Ⅰ的一种同分异构体Ⅵ在酸性条件下发生水解,生成物之一遇FeCl3溶液显紫色,Ⅵ的核磁共振氢谱除苯环峰外还有两组峰,峰面积之比为3︰2,Ⅵ的结构简式为________(写出一种)。
(5)结合合成路线①,分析以下合成路线②:
X的结构简式为________,Z的结构简式为________。
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