化合物M是二苯乙炔类液晶材料的一种，最简单的二苯乙炔类化合物是
。以互为同系物的单取代芳烃A、G为原料合成M的一种路线（部分反应条件略去）如下：
回答下列问题：
（1）A的结构简式为_______。
（2）D分子中最多有_____个碳原子共平面，与D化学式相同且符合下列条件的同分异构体有__种。（①与D具有相同的官能团，②苯环上的三元取代物）
（3）①的反应类型是________。
（4）⑤的化学方程式为________。
（5）参照上述合成路线，设计一条由苯乙烯和甲苯为起始原料制备
的合成路线：______________。
高二化学综合题中等难度题
化合物M是二苯乙炔类液晶材料的一种，最简单的二苯乙炔类化合物是
。以互为同系物的单取代芳烃A、G为原料合成M的一种路线（部分反应条件略去）如图：
回答下列问题：
（1）A的结构简式为____。
（2）D中含有的官能团是____，分子中最多有___个碳原子共平面。
（3）①的反应类型是___，④的反应类型是____。
（4）⑤的化学方程式为___。
（5）参照上述合成路线，设计一条由苯乙烯和甲苯为起始原料制备
的合成路线：____。
高二化学推断题困难题查看答案及解析
化合物M是二苯乙炔类液晶材料的一种，最简单的二苯乙炔类化合物是
。以互为同系物的单取代芳烃A、G为原料合成M的一种路线（部分反应条件略去）如下：
回答下列问题：
（1）A的结构简式为________。
（2）D分子中最多有________个碳原子共平面。
（3）①的反应类型是________，④的反应类型是________。
（4）⑤的化学方程式为____________________________________________。
（5）B的同分异构体中能同时满足如下条件：①苯环上有两个取代基，②能发生银镜反应，共有________种（不考虑立体异构），其中核磁共振氢谱为5组峰，且峰面积比为6：2：2：1：1的是________（写结构简式）。
（6）参照上述合成路线，设计一条由苯乙烯和甲苯为起始原料制备
的合成路线：___________________________________。
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化合物M是二苯乙炔类液晶材料的一种，最简单的二苯乙炔类化合物是。以互为同系物的单取代芳烃A、G为原料合成M的一种路线（部分反应条件略去）如下：
回答下列问题：
（1）A的结构简式为________。
（2）D分子中最多有________个碳原子共平面。
（3）①的反应类型是________，④的反应类型是________。
（4）⑤的化学方程式为____________________________________________。
（5）B的同分异构体中能同时满足如下条件：①苯环上有两个取代基，②能发生银镜反应，共有________种（不考虑立体异构），其中核磁共振氢谱为5组峰，且峰面积比为6：2：2：1：1的是________（写结构简式）。
（6）参照上述合成路线，设计一条由苯乙烯和甲苯为起始原料制备
的合成路线：___________________________________。
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化合物M是二苯乙炔类液晶材料的一种，最简单的二苯乙炔类化合物是。以互为同系物的单取代芳烃A、G为原料合成M的一种路线（部分反应条件略去）如下：
回答下列问题：
（1）A的结构简式为_______。
（2）D分子中最多有_____个碳原子共平面，与D化学式相同且符合下列条件的同分异构体有__种。（①与D具有相同的官能团，②苯环上的三元取代物）
（3）①的反应类型是________。
（4）⑤的化学方程式为________。
（5）参照上述合成路线，设计一条由苯乙烯和甲苯为起始原料制备的合成路线：______________。
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化合物M是二苯乙炔类液晶材料的一种，最简单的二苯乙炔类化合物是。以互为同系物的单取代芳烃A、G为原料合成M的一种路线（部分反应条件略去）如下：
回答下列问题：
（1）A的结构简式为_______。
（2）D分子中最多有_____个碳原子共平面，与D化学式相同且符合下列条件的同分异构体有_______种。（①与D具有相同的官能团，②苯环上的三元取代物）
（3）⑤的化学方程式为________。
（4）参照上述合成路线，若要合成最终产物为
有机物，需要_________和_____________两种有机物通过一步反应制得。（在横线上写出有机物的结构简式）
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化合物M是二苯乙炔类液晶材料的一种，最简单的二苯乙炔类化合物是
。以互为同系物的单取代芳烃A、G为原料合成M的一种路线(部分反应条件略去)如下:
回答下列问题:
(1) A的结构简式为_________。M中含有的官能团的名称是__________。
(2) D分子中最多有__________个碳原子共平面。
(3) ①的反应类型是__________，④的反应类型是__________ 。
(4) ⑤的化学方程式为______________________________。
(5) B的同分异构体中能同时满足如下条件:①苯环上有两个取代基，②能发生银镜反应，共有_____种(不考虑立体异构)，其中核磁共振氢谱为5组峰，且峰面积比为6:2:2:1:1的是________________ (写结构简式)。
(6) 参照上述合成路线，设计一条由苯乙烯和甲苯为起始原料制备
的合成路线(不考虑溶剂的合成): _______________________。
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化合物M是二苯乙炔类液晶材料的一种，最简单的二苯乙炔类化合物是
，以互为同系物的单取代芳香烃A、G为原料合成M的一种路线(部分反应条件略去)如下：
回答下列问题：
（1）A的结构简式为________________， B中的官能团名称是____________________。
（2）②的反应类型是_______________，F的名称为____________________。
（3）写出由C生成B的化学方程式______________________________________。
（4）反应⑤的化学方程式是______________________________________。
（5）B的同分异构体中满足苯环上有两个取代基且能发生银镜反应共有________种(不含立体异构)；B的另一种同分异构体中，除苯环外还有一个环，其核磁共振氢谱为4组峰，且峰面积比为2:2:1:1，该同分异构体的结构简式为__________________。
（6）参照上述合成路线，设计一条由苯乙烯和甲苯为起始原料制备
的合成___。
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席夫碱类化合物G在催化、药物、新材料等方面有广泛应用。合成G的一种路线如图：
已知以下信息：①
②1molB经上述反应可生成2molC，且C不能发生银镜反应
③D属于单取代芳烃，其相对分子质量为106
④核磁共振氢谱显示F苯环上有两种化学环境的氢
⑤RNH2+
+H2O
回答下列问题：
（1）由A生成B的化学方程式_______。
（2）由D生成E的化学方程式_______。
（3）G的结构简式______。
（4）F的同分异构体中含有苯环的还有____种（不考虑立体异构），其中核磁共振氢谱为4组峰，且面积比为6：2：2：1的是 ____（写出其中一种的结构简式）。
（5）由苯及化合物C经如下步骤：
，可合成N-异丙基苯胺：反应条件2所选用的试剂为_____。I的结构简式为____。
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席夫碱类化合物G在催化、药物、新材料等方面有广泛应用。合成G的一种路线如下：
已知以下信息：
①
②1 mol B经上述反应可生2 mol C，且C不能发生银镜反应
③D属于单取代芳烃，其相对分子质量为106
④核磁共振氢谱显示F苯环上有两种化学环境的氢
⑤
回答下列问题：
(1)由A生成B的反应类型为____________
(2)D的化学名称是____________，由D生成E的化学方程式为： ______
(3)G的结构简式为____________
(4)F的同分异构体中含有苯环的还有____种（不考虑立体异构）。其中核磁共振氢谱中有4组峰，且面积比为6：2：2：1的是_______。（写出其中的一种的结构简式）。
(5)由苯和化合物C经如下步骤可合成N-异丙基苯胺。
反应条件1所选择的试剂为__________；反应条件2所选择的试剂为________。
高二化学填空题困难题查看答案及解析
席夫碱类化合物G在催化、药物、新材料等方面有广泛应用。合成G的一种路线如下：
已知以下信息：
①
②1 mol B经上述反应可生成2 mol C,且C不能发生银镜反应
③D属于单取代芳烃,其相对分子质量为106
④核磁共振氢谱显示F苯环上有两种化学环境的氢
⑤RNH2＋
+H2O
回答下列问题:
（1）由A生成B的化学方程式为 ____________________ 。
（2）由D生成E的化学方程式为___________________ 。
（3）G的结构简式为____________________________。
（4）F的同分异构体中含有苯环的 (不考虑立体异构),其中核磁共振氢谱为4组峰,且面积比为6∶2∶2∶1的是_______________________(写出其中一种的结构简式)。
（5）由苯及化合物C经如下步骤可合成N―异丙基苯胺:
N―异丙基苯胺
I的结构简式为_____________________。
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