G是功能高分子材料。以甲苯为原料合成G的一种流程如下(部分条件和产物略去)。
回答下列问题:
(1)W中官能团名称是_______；反应II的试剂和条件是___________。
(2)反应I的类型是______；Z的名称是_______。
(3)写出F→G的化学方程式:_______________________。
(4)T是E的同分异构体，T的苯环上有3个互不相同的取代基，T的结构有___种。
(5)W分子中最多有__个原子共平面。
(6)以乙醇为原料，经过三步合成正丁醇。参照上述流程图设计合成路线___________。
高三化学推断题中等难度题
G是功能高分子材料。以甲苯为原料合成G的一种流程如下(部分条件和产物略去)。
回答下列问题:
(1)W中官能团名称是_______；反应II的试剂和条件是___________。
(2)反应I的类型是______；Z的名称是_______。
(3)写出F→G的化学方程式:_______________________。
(4)T是E的同分异构体，T的苯环上有3个互不相同的取代基，T的结构有___种。
(5)W分子中最多有__个原子共平面。
(6)以乙醇为原料，经过三步合成正丁醇。参照上述流程图设计合成路线___________。
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以含有某种官能团的芳香烃C8H8为主要原料合成药物E的流程（部分反应条件及产物略去）如下：
已知：
请根据流程图中转化关系回答下列问题：
（1）芳香烃C8HS的结构简式为_____________，名称为_________________。
（2）反应②的反应类型为_________________。
（3）B中所含官能团的名称为____________________________。
（4）D转化为E的化学方程式为_________________________________，该反应的反应类型为 _________________________________。
（5）同时满足下列条件的C的同分异构体有_______________种。
①遇FeCl3溶液发生显色反应；
②既能发生水解反应也能发生银镜反应；
③苯环上只有两个取代基。
写出其中核磁共振氢谱峰面积之比为1∶1∶2∶2∶2∶2的有机物结构简式∶__________________。
（6）参照上述流程，写出用CH3CH2OH为原料（其它无机试剂任选）制备化合物CH2=CHCOOCH2CH3 的合成路线__________________________________________________。
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苯是工业上常用的化工原料，可以用于合成安息香酸苄酯和高分子化合物G （部分反应条件略去），流程如下所示，请回答下列问题：
（1）A的化学名称是________，B中的官能团名称是________。
（2）E分子中最多可能有_____个碳原子共平面；G的结构简式为_________；
（3）C生成D的反应类型为___________。
（4）A生成E的化学方程式为_________________。
（5）H是D的同分异构体，分子中含有酯基，有两个苯环且不直接相连，符合上述条件的结构有_______种，其中核磁共振氢谱有6组峰，且面积比为3:2:2:2:2:1的同分异构体的结构简式为_______（写出一种即可）。
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苯是工业上常用的化工原料，可以用于合成安息香酸苄酯和高分化合物G （部分反应条件略去），流程如下所示，请回答下列问题:
（1）C的化学名称是____________，B中的官能团名称是____________。
（2）E分子中最多有____________个原子共平面；G的结构简式为____________；
（3）C生成D的反应类型为____________。
（4）A生成E的化学方程式为_____________________________________。
（5）H是D的同分异构体，分子中含有酯基，有两个苯环且不直接相连，符合上述条件的结构有____________种，其中核磁共振氢谱图有6组峰，且面积比为3∶2∶2∶2∶2∶1的同分异构体的结构简式为 ____________（写出一种即可）。
（6）参照上述合成路线，以2-氯丙烷为原料，其它无机试剂和有机溶剂任选，设计2-甲基-2-丙醇的合成路线____________。
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苯是工业上常用的化工原料，可以用于合成安息香酸苄酯和高分化合物G （部分反应条件略去），流程如下所示，请回答下列问题:
（1）C的化学名称是____________，B中的官能团名称是____________。
（2）E分子中最多有____________个原子共平面；G的结构简式为____________；
（3）C生成D的反应类型为____________。
（4）A生成E的化学方程式为_____________________________________。
（5）H是D的同分异构体，分子中含有酯基，有两个苯环且不直接相连，符合上述条件的结构有____________种，其中核磁共振氢谱图有6组峰，且面积比为3∶2∶2∶2∶2∶1的同分异构体的结构简式为 ____________（写出一种即可）。
（6）参照上述合成路线，以2-氯丙烷为原料，其它无机试剂和有机溶剂任选，设计2-甲基-2-丙醇的合成路线____________。
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苯是工业上常用的化工原料，可以用于合成安息香酸苄酯和高分化合物G （部分反应条件略去），流程如下所示，请回答下列问题:
（1）C的化学名称是____________，B中的官能团名称是____________。
（2）E分子中最多有____________个原子共平面；G的结构简式为____________；
（3）C生成D的反应类型为____________。
（4）A生成E的化学方程式为_____________________________________。
（5）H是D的同分异构体，分子中含有酯基，有两个苯环且不直接相连，符合上述条件的结构有____________种，其中核磁共振氢谱图有6组峰，且面积比为3∶2∶2∶2∶2∶1的同分异构体的结构简式为 ____________（写出一种即可）。
（6）参照上述合成路线，以2-氯丙烷为原料，其它无机试剂和有机溶剂任选，设计2-甲基-2-丙醇的合成路线____________。
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用石油产品A(C3H6)为主要原料，合成具有广泛用途的有机玻璃PMMA。流程如下(部分产物和条件省略)
试回答下列问题：
（1）B的名称________； D 中官能团名称_________。
（2）E→G 的化学方程式为____，反应类型是_________。
（3）T是G的同分异构体，1molT与足量新制Cu(OH)2悬浊液反应最多生成2molCu2O沉淀，T的结构有________种(不含立体结构)。
（4）若高分子化合物PMMA 的相对分子质量为1.5×106，其聚合度为_______。
（5）参照上述流程，以
为原料合成
(其它原料自选)。设计合成路线：________________________。
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用石油产品A(C3H6)为主要原料，合成具有广泛用途的有机玻璃PMMA。流程如下(部分产物和条件省略)
试回答下列问题:
（1）B的名称________；X试剂为_______(化学式)；D中官能团名称_________。
（2）E→G的化学方程式为________________________________________，反应类型是_________。
（3）T是G的同分异构体，1molT与足量新制Cu(OH)2悬浊液反应最多生成2molCu2O沉淀，T的结构有________种(不含立体结构)。
（4）若高分子化合物PMMA的相对分子质量为1.5×106，其聚合度为_______。
（5）参照上述流程，以
为原料合成
(其它原料自选)。设计合成路线:________________________。
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用石油产品A(C3H6)为主要原料，合成具有广泛用途的有机玻璃PMMA。流程如下(部分产物和条件省略)
试回答下列问题:
（1）B的名称________；X试剂为_______(化学式)；D中官能团名称_________。
（2）E→G的化学方程式为________________________________________，反应类型是_________。
（3）T是G的同分异构体，1molT与足量新制Cu(OH)2悬浊液反应最多生成2molCu2O沉淀，T的结构有________种(不含立体结构)。
（4）若高分子化合物PMMA的相对分子质量为1.5×106，其聚合度为_______。
（5）参照上述流程，以
为原料合成
(其它原料自选)。设计合成路线:________________________。
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用石油产品A(C3H6)为主要原料，合成具有广泛用途的有机玻璃PMMA。流程如下(部分产物和条件省略)
试回答下列问题:
（1）B的名称________；X试剂为_______(化学式)；D中官能团名称_________。
（2）E→G的化学方程式为________________________________________，反应类型是_________。
（3）T是G的同分异构体，1molT与足量新制Cu(OH)2悬浊液反应最多生成2molCu2O沉淀，T的结构有________种(不含立体结构)。
（4）若高分子化合物PMMA的相对分子质量为1.5×106，其聚合度为_______。
（5）参照上述流程，以
为原料合成
(其它原料自选)。设计合成路线:________________________。
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