苯是工业上常用的化工原料，可以用于合成安息香酸苄酯和高分化合物G （部分反应条件略去），流...

苯是工业上常用的化工原料，可以用于合成安息香酸苄酯和高分子化合物G （部分反应条件略去），流程如下所示，请回答下列问题：

（1）A的化学名称是________，B中的官能团名称是________。

（2）E分子中最多可能有_____个碳原子共平面；G的结构简式为_________；

（3）C生成D的反应类型为___________。

（4）A生成E的化学方程式为_________________。

（5）H是D的同分异构体，分子中含有酯基，有两个苯环且不直接相连，符合上述条件的结构有_______种，其中核磁共振氢谱有6组峰，且面积比为3:2:2:2:2:1的同分异构体的结构简式为_______（写出一种即可）。

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苯是工业上常用的化工原料，可以用于合成安息香酸苄酯和高分子化合物G（部分反应条件略去），流程如下所示，请回答下列问题：

（1）C的化学名称是______，E分子中最多有______个原子共平面。

（2）C生成D的反应类型为______。

（3）A生成E的化学方程式为___________。

（4）CH2=CH-CH=CH2也可以反应生成高分子化合物，而且是合成橡胶的重要原料，下列橡胶中一定不能以其为主要初始原料获得的是_____。

①丁苯橡胶　 ②顺丁橡胶　 ③硅橡胶胶　 ④乙丙橡胶　 ⑤丁腈橡胶

（5）H是D的同分异构体，分子中含有酯基，有两个苯环且不直接相连，符合上述条件的结构有____种（不包括D)，其中核磁共振氢谱图有6组峰，且面积比为3:2:2:2:2:l的同分异构体的结构简式为________（写出一种即可）。

（6）今照上述合成路线，以2-氯丙烷为原料，设计2-甲基-2-丙醇的最佳合成路线_____。

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苯是工业上常用的化工原料，可以用于合成安息香酸苄酯和高分化合物G （部分反应条件略去），流程如下所示，请回答下列问题:

（1）C的化学名称是____________，B中的官能团名称是____________。

（2）E分子中最多有____________个原子共平面；G的结构简式为____________；

（3）C生成D的反应类型为____________。

（4）A生成E的化学方程式为_____________________________________。

（5）H是D的同分异构体，分子中含有酯基，有两个苯环且不直接相连，符合上述条件的结构有____________种，其中核磁共振氢谱图有6组峰，且面积比为3∶2∶2∶2∶2∶1的同分异构体的结构简式为 ____________（写出一种即可）。

（6）参照上述合成路线，以2-氯丙烷为原料，其它无机试剂和有机溶剂任选，设计2-甲基-2-丙醇的合成路线____________。

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苯是工业上常用的化工原料，可以用于合成安息香酸苄酯和高分化合物G （部分反应条件略去），流程如下所示，请回答下列问题:

（1）C的化学名称是____________，B中的官能团名称是____________。

（2）E分子中最多有____________个原子共平面；G的结构简式为____________；

（3）C生成D的反应类型为____________。

（4）A生成E的化学方程式为_____________________________________。

（5）H是D的同分异构体，分子中含有酯基，有两个苯环且不直接相连，符合上述条件的结构有____________种，其中核磁共振氢谱图有6组峰，且面积比为3∶2∶2∶2∶2∶1的同分异构体的结构简式为 ____________（写出一种即可）。

（6）参照上述合成路线，以2-氯丙烷为原料，其它无机试剂和有机溶剂任选，设计2-甲基-2-丙醇的合成路线____________。

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苯是工业上常用的化工原料，可以用于合成安息香酸苄酯和高分化合物G （部分反应条件略去），流程如下所示，请回答下列问题:

（1）C的化学名称是____________，B中的官能团名称是____________。

（2）E分子中最多有____________个原子共平面；G的结构简式为____________；

（3）C生成D的反应类型为____________。

（4）A生成E的化学方程式为_____________________________________。

（5）H是D的同分异构体，分子中含有酯基，有两个苯环且不直接相连，符合上述条件的结构有____________种，其中核磁共振氢谱图有6组峰，且面积比为3∶2∶2∶2∶2∶1的同分异构体的结构简式为 ____________（写出一种即可）。

（6）参照上述合成路线，以2-氯丙烷为原料，其它无机试剂和有机溶剂任选，设计2-甲基-2-丙醇的合成路线____________。

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G是功能高分子材料。以甲苯为原料合成G的一种流程如下(部分条件和产物略去)。

回答下列问题:

(1)W中官能团名称是_______；反应II的试剂和条件是___________。　　

(2)反应I的类型是______；Z的名称是_______。

(3)写出F→G的化学方程式:_______________________。

(4)T是E的同分异构体，T的苯环上有3个互不相同的取代基，T的结构有___种。

(5)W分子中最多有__个原子共平面。

(6)以乙醇为原料，经过三步合成正丁醇。参照上述流程图设计合成路线___________。

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化合物M是一种常用的液晶材料。以苯的同系物A、G为原料合成M的一种路线（部分反应条件略去）如下：

已知：+, 回答下列问题:

（1）M的结构简式为________ ，A的名称为___________。

（2）D中官能团的名称是________

（3）②的反应类型是_________，⑥的反应类型是___________。

（4）⑤的化学方程式为_______________。

（5）满足以下条件的B的同分异构体有_______________种（不考虑立体异构）。

①能与氯化铁溶液发生显色反应；②苯环上只有两个取代基；③除苯环以外没有其它环状结构

（6）参照上述合成路线，设计一条由苯乙烯和甲苯为起始原料制备的合成路线：_______________

[示例：]

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化合物M是一种常用的液晶材料。以苯的同系物A、G为原料合成M的一种路线(部分反应条件略去)如下：

已知：+H—C≡C—H→+HI

回答下列问题:

(1)M的结构简式为________ ，A的名称为___________。

(2)D中官能团的名称是________。

(3)②的反应类型是_________，⑥的反应类型是___________。

(4)⑤的化学方程式为_______________。

(5)满足以下条件的B的同分异构体有_______________种(不考虑立体异构)。

①能与氯化铁溶液发生显色反应；②苯环上只有两个取代基；③除苯环以外没有其它环状结构

(6)参照上述合成路线，设计一条由苯乙烯和甲苯为起始原料制备的合成路线：_______________[示例：CH3CH2OH CH2=CH2 BrCH2CH2Br]

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物质A是基本有机化工原料，由A制备高分子树脂(M)和苯佐卡因(一种常用的局部麻醉剂)的合成路线(部分反应条件略去)如下所示：

已知：①A是苯的同系物，在相同条件下，其蒸气相对于氢气的密度为46；B可以发生银镜反应。

②R-CHO+R’CH2CHO。

③苯环上连有甲基时，再引入其他基团主要进入甲基的邻位或对位；苯环上连有羧基时，再引入其他基团主要进入羧基的间位。

回答下列问题：

(1)C中含氧官能团的名称是____________，⑦的反应类型是___________，

A分子中最多有________个原子共平面， E的结构简式为_____________。

(2)写出反应⑥生成高分子树脂M的化学方程式_________________。

(3)在上述流程中“C→D”在M的合成过程中作用是_________________。

(4)满足下列条件的苯佐卡因的同分异构体共有______________(不考虑立体异构)种。

①苯环上只含有两个对位取代基，其中一个为—NH2；②含有酯基

(5)化合物有较好的阻燃性，请参照流程及有关信息，写出以甲苯为主要原料制备该阻燃剂的合成路线流程图______________。

提示：①无机试剂任选；②合成路线流程图示例

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