光刻胶（I）是半导体制造的一种重要材料，其中一种合成路线如下，完成下列填空。
已知：
（1）A的电子式_____________，E的结构简式_____________；
（2）C→D反应的试剂和条件为_____________，F→G的反应类型_____________；
（3）D+H→I的化学反应方程式___________________________________________；
（4）H的芳香类同分异构体中，可以发生水解反应和银镜反应的有_________种；
（5）
是重要的工业加工助剂，写出以乙烯和乙醛为原料制备
的合成路线。（其它无机试剂任选），（合成路线常用的表达方式为：A
B
目标产物）___________________
高三化学推断题中等难度题
光刻胶（I）是半导体制造的一种重要材料，其中一种合成路线如下，完成下列填空。
已知：
（1）A的电子式_____________，E的结构简式_____________；
（2）C→D反应的试剂和条件为_____________，F→G的反应类型_____________；
（3）D+H→I的化学反应方程式___________________________________________；
（4）H的芳香类同分异构体中，可以发生水解反应和银镜反应的有_________种；
（5）是重要的工业加工助剂，写出以乙烯和乙醛为原料制备的合成路线。（其它无机试剂任选），（合成路线常用的表达方式为：AB目标产物）___________________
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尼龙66广泛用于制造机械、汽车、化学与电气装置的零件，亦可制成薄膜用作包装材料，其合成路线如下图所示(中间产物E给出了两条合成路线)．
已知：R—Cl
R—CN
R—CH2NH2
完成下列填空：
(1)写出反应类型：反应②________________________；反应③______________________.
(2)写出化合物D的结构简式：____________________________________________.
(3)写出一种与C互为同分异构体，且能发生银镜反应的化合物的结构简式：
________________________________________________________________________
________________________________________________________________________.
(4)写出反应①的化学方程式：
________________________________________________________________________.
(5)下列化合物中能与E发生化学反应的是______．
a．NaOH b．Na2CO3
c．NaCl d．HCl
(6)用化学方程式表示化合物B的另一种制备方法(原料任选)：________________
________________________________________________________________________.
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R-CN
R-CH2NH2
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光刻胶是大规模集成电路、印刷电路版和激光制版技术中的关键材料，某一光刻胶M的合成路线如下： (部分试剂、反应条件和产物已略去)
已知：
Ⅰ．
(R1，R2为烃基或氢)
Ⅱ．
(R1，R2为烃基)
（1）写出A的结构简式______，B分子中的含氧官能团的名称为_______________。
（2）写出B与银氨溶液发生反应的化学方程式____________________________________。
（3）下列有关光刻胶M的说法正确的是______________________（填字母序号）。
a．可稳定存在于碱性溶液中
b．化学式为C11H10O2
c．可发生氧化反应、还原反应、取代反应
d. 1mol该物质与足量H2发生加成反应时可消耗4mol H2
（4）乙炔和羧酸X发生加成反应生成E，E的核磁共振氢谱有三组峰，且峰面积比为3:2:1， E能使溴水褪色且能发生水解反应，则F的结构简式为________________________。
（5）与C具有相同官能团且含有苯环的同分异构体还有______种（不考虑立体异构）；C的另一种同分异构体满足下列条件:①能发生银镜反应和水解反应，其水解产物之一能与FeCl3溶液发生显色反应②苯环上的一氯取代产物只有两种,写出该同分异构体的结构简式:_________。
（6）根据已有知识并结合相关信息，写出以CH3CHO为原料制备CH3CH2CH2COOH的合成路线流程图_______________________(无机试剂任意选用)，合成路线流程图示例如下： CH3CH2Br
CH3CH2OH
CH3COOCH2CH3
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【化学一一选修修5:有机化学基础】光刻胶是一种应用广泛的光敏材料,它的一种合成路线如下(部分试剂和产物略去):
已知：
I.
II.
回答下列问题
(1)C中所含官能团的名称是________，G的化学名称为_______________。
(2)乙快和羧酸X加成生成E,E的核磁共振氢谱为三组峰,且峰面积比为3:2:1,E能发生水解反应,则E的结构简式为_________,E→F的反应类型是___________。
(3)B与Ag(NH3)2OH反应的化学方程式为_________________。
(4)D+G→光刻胶的化学方程式_________________________________。
(5)某芳香族有机物H是C的同系物,相对分子质量比C大14,则该有机物H的苯环上只含有两条侧链的同分异构体有______________种。(不考虑立体异构)
(6)根据已有知识并结合相关信息,写出以CH2CH2OH为原料制备CH2CH2CH2COOH的合成路线流程图(无机试剂任用) ______________________。合成路线流程图示例如下:
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尼龙66广泛用于制造机械、汽车、化学与电气装置的零件，亦可制成薄膜用作包装材料，其合成路线如图所示(中间产物E给出了两条合成路线)。
已知：R—Cl
R—CN
R—CH2NH2
完成下列填空：
（1）写出反应类型：反应②________；反应③________。
（2）写出化合物D的结构简式：_____________________________________。
（3）写出一种与C互为同分异构体，且能发生银镜反应的化合物的结构简式：________________________。
（4）写出反应①的化学方程式：________________________________________________________________。
（5）下列化合物中能与E发生化学反应的是________。
a．NaOH B．Na2CO3
c．NaCl D．HCl
（6）用化学方程式表示化合物B的另一种制备方法(原料任选)：_________________________________________。
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【化学—选修5：有机化学基础】
光刻胶是一种应用广泛的光敏材料，其合成路线如下（部分试剂和产物略去）：
已知Ⅰ．
（R，R′为烃基或氢）
Ⅱ．
（R，R′为烃基）
（1）写出A的结构简式
（2）B分子中所含官能团名称为 。
（3）乙炔和羧酸X加成生成E，E的核磁共振氢谱为三组峰，且峰面积比为3:2:1，E能发生水解反应，则E→F的化学方程式为 。
（4）由B到C的反应类型为 。由F到G的反应类型为
（5）D和G反应生成光刻胶的化学方程式为 。
（6）C的一种同分异构体满足下列条件：
①能发生银镜反应，其水解产物之一能与FeCl3溶液发生显色反应；
②苯环上的一氯取代产物只有两种。写出该同分异构体的结构简式： 。
（7）根据已有知识并结合相关信息，写出以CH3CHO为原料制备CH3COCOCOOH的合成路线流程图（无机试剂任用）。合成路线流程图示例如下：
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光刻胶是一种应用广泛的光敏材料，其合成路线如下（部分试剂和产物略去）：
已知：
Ⅰ.
（R，R’为烃基或氢）
Ⅱ.
（R，R’为烃基）
（1）A分子中含氧官能团名称为 。
（2）C物质可发生的反应类型为 （填字母序号）。
a.加聚反应 b. 酯化反应 c. 还原反应 d.缩聚反应
（3）B与Ag(NH3)2OH反应的化学方程式为 。
（4）乙炔和羧酸X加成生成E，E的核磁共振氢谱为三组峰，且峰面积比为3:2:1，E能发生水解反应，则E的结构简式为 。
（5）与C具有相同官能团且含有苯环的同分异构体有 种，写出其中的一种同分异构体的结构简式为 。
（6）D和G反应生成光刻胶的化学方程式为 。
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光刻胶是一种应用广泛的光敏材料，其合成路线如下(部分试剂和产物略去)：
已知：
Ⅰ．
(R1、R2为烃基或氢)
Ⅱ．
(R1、R2为烃基或氢)
(1) A分子中含氧官能团名称为 。
(2) C物质可发生的反应类型为 (填字母序号)。
a．加聚反应 b． 酯化反应 c．还原反应 d．缩聚反应
(3) B与Ag(NH3)2OH反应的化学方程式为 。
(4) 与C具有相同官能团且含有苯环的同分异构体有4种，其结构简式分别为
、
、 和 。
(5) D和G反应生成光刻胶的化学方程式为 。
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光刻胶是一种应用广泛的光敏材料，其合成路线如下(部分试剂、反应条件和产物已略去):
已知：
Ⅰ．
（R，R’为烃基或氢）
Ⅱ． （R，R’为烃基）
（1）写出A的结构简式__________。
（2）B分子中所含官能团的名称为__________。
（3）乙炔和羧酸X加成生成E，E的核磁共振氢谱为三组峰，且峰面积比为3:2:1，E能发生水解反应，则E
F的化学方程式为____________。
（4）由F到G的反应类型为__________。
（5）D和G反应生成光刻胶的化学方程式为__________。
（6）C的一种同分异构体满足下列条件:
①能发生银镜反应，其水解产物之一能与FeCl3溶液发生显色反应
②苯环上的一氧取代产物只有两种。写出该同分异构体的结构简式:_________。
（7）根据已有知识并结合相关信息，写出以CH3CHO为原料制备CH3COCOCOOH的合成路线流程图(无机试剂任用)。合成路线流程图示例如下:
_______________________
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