下列离子方程式的书写正确的是
A.用作供氧剂,遇水反应:
B.溶液吸收有毒的气体:
C.工业上常用溶液刻蚀铜电路板:
D.纯碱溶液中滴加少量的盐酸:
高二化学单选题中等难度题
下列离子方程式的书写正确的是
A.用作供氧剂,遇水反应:
B.溶液吸收有毒的气体:
C.工业上常用溶液刻蚀铜电路板:
D.纯碱溶液中滴加少量的盐酸:
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铜是人类发现最早并广泛使用的一种金属。回答下列问题:
(1)实验室可用稀硫酸和H2O2溶解铜片制取硫酸铜 ,该反应的化学方程式为_____;工业制备硫酸铜通常用空气将铜氧化为氧化铜,然后再用稀硫酸溶解,该法与铜与浓硫酸直接反应制取硫酸铜相比,明显的优点是_______。
(2)电子工业使用 FeCl3 溶液刻蚀印刷电路板铜箔,该过程发生的反应中氧化剂和还原剂的物质的量之比为_________,配制的 FeCl3 溶液应保持_______(填“酸性”“碱性”或“中性”)。
(3)将过量的铜片与一定量的浓HNO3 反应 ,反应过程中后期反应的离子方程式为______,反应终止后再滴加稀硫酸,又有气体生成,该气体为_______(填化学式)。
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下列有关物质用途的说法中,不正确的是
A. 氢氟酸可用来刻蚀玻瑞 B. 过氧化钠常用作供氧剂
C. 漂白粉可用作游泳池的消毒剂 D. 晶体硅可用于制作光导纤维
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下列指定反应的离子方程式书写正确的是( )
A.将浓FeCl3溶液加入沸水中:Fe3++3H2O=Fe(OH)3↓+3H+
B.用氨水吸收足量的SO2气体:NH3·H2O+SO2=NH+HSO
C.向NH4HSO4溶液中加入足量Ba(OH)2溶液:Ba2++OH-+H++SO=BaSO4↓+H2O
D.用稀氢碘酸溶液除去铁制品表面的铁锈:Fe2O3+6H+=2Fe3++3H2O
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下列有关物质用途的说法不正确的是( )
A. Na2O2用作呼吸面具的供氧剂
B. Al(OH)3用作治胃酸的中和剂
C. FeCl3用作铜制线路板的蚀刻剂
D. 浓硫酸用作NH3的干燥剂
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三氟化氮(NF3)是微电子工业中一种优良的等离子刻蚀气体,它在潮湿的环境中能发生反应:3NF3+5H2O===2NO+HNO3+9HF,下列有关该反应的说法正确的是
A. NF3是氧化剂,H2O是还原剂 B. HF是还原产物
C. 还原剂和氧化剂的物质的量之比是2∶1 D. NF3在潮湿的空气中泄漏会产生红棕色气体
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下列说法正确的是
A. FeCl3溶液可用于铜质印刷线路板的制作,该反应是置换反应
B. 向纯碱溶液中滴加醋酸,将生成的气体通入澄清的苯酚钠溶液中,观察是否出现沉淀,由此证明醋酸、碳酸、苯酚酸性强弱
C. 反应A(g)B(g) △H,若正反应的活化能为EakJ/mol,逆反应的活化能为EbkJ/mol,则△H=-(Ea-Eb)kJ/mol
D. 3x%的A物质的溶液与x%的A物质的溶液等体积混合后,溶液的质量分数小于2x%,则A物质可能为乙醇
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下列说法正确的是
A. FeCl3溶液可用于铜质印刷线路板的制作,该反应是置换反应
B. 向纯碱溶液中滴加醋酸,将生成的气体通入澄清的苯酚钠溶液中,观察是否出现沉淀,由此证明醋酸、碳酸、苯酚酸性强弱
C. 反应A(g)B(g) △H,若正反应的活化能为EakJ/mol,逆反应的活化能为EbkJ/mol,则△H=-(Ea-Eb)kJ/mol
D. 3x%的A物质的溶液与x%的A物质的溶液等体积混合后,溶液的质量分数小于2x%,则A物质可能为乙醇
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(4分)(2012•广东)下列应用不涉及氧化还原反应的是( )
A. Na2O2用作呼吸面具的供氧剂
B. 工业上电解熔融状态的Al2O3制备Al
C. 工业上利用合成氨实现人工固氮
D. 实验室用NH4Cl和Ca(OH)2制备NH3
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下列应用不涉及氧化还原反应的是
A. Na2O2用作呼吸面具的供氧剂 B. 工业上电解熔融状态Al2O3制备Al
C. 工业上利用合成氨实现人工固氮 D. 实验室用NH4Cl 和Ca(OH)2制备NH3
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