[化学-选修5:有机化学基础]光刻胶的一种合成路线如图:已知:I. Ⅱ. Ⅲ.RCOOH+...

[化学-选修5:有机化学基础]光刻胶的一种合成路线如图:

已知:

I.

Ⅱ.

Ⅲ.RCOOH+CH≡CH→RCOOCH=CH2

Ⅳ.羧基和酯基不能与氢气发生加成反应。

回答下列问题:

(1)A的名称是_____，C 中所含官能团的名称是__________。

(2)由C生成D、乙炔生成E的反应类型分别为_____ 、_____ 。

(3)E的结构简式为_____ 。

(4)D+G→光刻胶的化学方程式为__________。

(5)T是C的同分异构体,T 具有下列性质或特征: ①能发生水解反应和银镜反应；②能使溴水褪色；③属于芳香族化合物。其中核磁共振氢谱为5组峰,且峰面积比为1:1:2:2:2的结构简式为_____________。

(6)写出用乙醛和丙炔为原料制备化合物CH3CH2CH2COOCH2CH2CH3的合成路线__________________(其他试剂任选)。

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【化学—选修5：有机化学基础】

光刻胶是一种应用广泛的光敏材料，其合成路线如下（部分试剂和产物略去）：

已知Ⅰ．（R，R′为烃基或氢）

Ⅱ． （R，R′为烃基）

（1）写出A的结构简式　　　　　　　　　　

（2）B分子中所含官能团名称为　　　　　　　　　　　 。

（3）乙炔和羧酸X加成生成E，E的核磁共振氢谱为三组峰，且峰面积比为3:2:1，E能发生水解反应，则E→F的化学方程式为　　　　　　　　　　　　 。

（4）由B到C的反应类型为　　　　　　　　　 。由F到G的反应类型为　　　　　　　　　　

（5）D和G反应生成光刻胶的化学方程式为　　　　　　　　　　　　　　　　　 。

（6）C的一种同分异构体满足下列条件：

①能发生银镜反应，其水解产物之一能与FeCl3溶液发生显色反应；

②苯环上的一氯取代产物只有两种。写出该同分异构体的结构简式：　　　　　　　　　　　　　　 。

（7）根据已有知识并结合相关信息，写出以CH3CHO为原料制备CH3COCOCOOH的合成路线流程图（无机试剂任用）。合成路线流程图示例如下：

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【化学一一选修修5:有机化学基础】光刻胶是一种应用广泛的光敏材料,它的一种合成路线如下(部分试剂和产物略去):

已知：
I.
II.
回答下列问题

(1)C中所含官能团的名称是________，G的化学名称为_______________。

(2)乙快和羧酸X加成生成E,E的核磁共振氢谱为三组峰,且峰面积比为3:2:1,E能发生水解反应,则E的结构简式为_________,E→F的反应类型是___________。

(3)B与Ag(NH3)2OH反应的化学方程式为_________________。

(4)D+G→光刻胶的化学方程式_________________________________。

(5)某芳香族有机物H是C的同系物,相对分子质量比C大14,则该有机物H的苯环上只含有两条侧链的同分异构体有______________种。(不考虑立体异构)

(6)根据已有知识并结合相关信息,写出以CH2CH2OH为原料制备CH2CH2CH2COOH的合成路线流程图(无机试剂任用) ______________________。合成路线流程图示例如下:

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[化学——选修5：有机化学基础

有机物Ⅰ广泛应用在航空、激光等领城，Ⅰ的一种合成路线如下：

已知：①有机物A的质谱图与核磁共振氢谱图如下：

①2RCOOH+H2O

②

回答下列问题：

(1)A的化学名称是________，C中含氧官能团的名称是________。

(2)②的反应类型为_________，Ⅰ的分子式为_________。

(3)①的反应方程式为_______________________________________。

(4)F的结构简式是______________。

(5)同时满足下列条件的G的同分异构体共有________种(不含立体结构)，写出其中的一种结构式 ：__________。

①能发生银镜反应

②能发生水解反应，其水解产物之一能与FeCl3溶液发生显色反应

③1mol该物质最多能与8molNaOH反应

(6)写出用间二甲苯和甲醇为原料制备的合成路线：________________(其他试剂任选)。

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[化学一选修5：有机化学基础]

聚乙烯醇肉桂酸酯(M)可用作光刻工艺中的抗腐蚀涂层，其合成路线如下：

-

请回答：

（1）C的化学名称为____；M中含氧官能团的名称为____。

（2）F-G的反应类型为____　　　 ；检验产物G中新生成官能团的实验方法为_____________________________________________

（3）C-D的化学反应方程式为 ____。

（4）E的结构简式为____；H的顺式结构简式为____。

（5）同时满足下列条件的F的同分异构体有____种（不考虑立体异构）；

①属于芳香族化合物　 ②能发生水解反应和银镜反应。其中核磁共振氢谱有4种吸收峰的物质的结构简式为 　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　 （任写一种）。

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光刻胶的一种合成路线如下：

已知：

I.

II.

III.RCOOH+CHCHRCOOCH=CH2

回答下列问题

(1)A的名称是______。C中所含氧官能团的名称是_______。C→D的反应类型是________。

(2)B和银氨溶液反应的离子方程式为_______________。

(3)D+G→光刻胶的化学方程式为_________________。

(4)T是C的同分异构体，T具有下列性质或特征：①能发生水解反应和银镜反应；②能使溴的四氯化碳褪色；③属于芳香族化合物。则T的结构有____种。其中核磁共振氢谱为5组峰，且峰面积比为1∶1∶2∶2∶2的结构简式为_______。

(5)根据已有知识并结合相关信息，写出以CH3CH2OH为原料制备CH3CH2CH2COOH的合成路线流程图_______(无机试剂任用)。

（合成路线流程图示例如下：CH2=CH2CH3CH2BrCH3CH2OH）

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光刻胶的一种合成路线如下：

已知：

I.

II.

III.RCOOH+CHCHRCOOCH=CH2

回答下列问题

（1）A的名称是______。C中含氧官能团的结构简式是______。C→D的反应类型是_______。

（2）B和银氨溶液反应的离子方程式为__________________________。

（3）D+G→光刻胶的化学方程式为_______________________________________。

（4）T是C的同分异构体，T具有下列性质或特征：①能发生水解反应和银镜反应；②能使溴的四氯化碳溶液褪色；③属于芳香族化合物。则T的结构有____种。其中核磁共振氢谱为5组峰，且峰面积比为1∶1∶2∶2∶2的结构简式为_______(任写一种)。

（5）根据已有知识并结合相关信息，写出以CH3CH2OH为原料制备CH3CH2CH2COOH的合成路线流程图(无机试剂任用)。（合成路线流程图示例如下：CH2=CH2CH3CH2BrCH3CH2OH）___________

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光刻胶的一种合成路线如下：

已知：

I.

II.

III.RCOOH+CHCHRCOOCH=CH2

回答下列问题

（1）A的名称是______。C中含氧官能团的结构简式是______。C→D的反应类型是_______。

（2）B和银氨溶液反应的离子方程式为__________________________。

（3）D+G→光刻胶的化学方程式为_______________________________________。

（4）T是C的同分异构体，T具有下列性质或特征：①能发生水解反应和银镜反应；②能使溴的四氯化碳溶液褪色；③属于芳香族化合物。则T的结构有____种。其中核磁共振氢谱为5组峰，且峰面积比为1∶1∶2∶2∶2的结构简式为_______(任写一种)。

（5）根据已有知识并结合相关信息，写出以CH3CH2OH为原料制备CH3CH2CH2COOH的合成路线流程图(无机试剂任用)。（合成路线流程图示例如下：CH2=CH2CH3CH2BrCH3CH2OH）___________

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【化学选修5:有机化学基础】芳香族化合物A是一种降血脂药物，A不能与Na反应。其合成路线如下:

已知：

I.

II.RCH==CH2RCH2CH2Br

III.烃C的核磁共振氢谱只有两组峰，它的质谱图如图所示:

IV.K的结构具有对称性:I能发生银镜反应且1molI能与2molH2发生加成反应。试回答下列问题:

(1)烃C的化学名称为_______________________。

(2)H分子中含有的官能团名称为_____________；反应的条件为____________________。

(3)写出J与新制银氨溶液发生反应的化学方程式:______________________________________。

(4)反应④的化学方程式为:____________________________________________。

(5)符合下列3个条件的H的同分异构体有____种，其中氢原子共有五种不同环境的是(写结构简式)__________________________________________。

①能与FeCl溶液显色；②苯环上只有2个取代基；③1mol该物质最多可消耗1molNaHCO3。

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[化学——选修5：有机化学基础]

H是一种新型香料的主要成分之一，其合成路线如下所示(部分产物和部分反应条件略去)：

已知：①RCH=CH2＋CH2===CHR′CH2===CH2＋RCH===CHR′；

②B中核磁共振氢谱图显示分子中有6种不同环境的氢原子。

请回答下列问题：

(1)(CH3)2CCH2的同分异构体中存在顺反异构的有机物的名称为____。

(2)A的核磁共振氢谱除苯环上的H外，还显示____组峰，峰面积比为___。

(3)D分子含有的含氧官能团的名称是___，E的结构简式为____。

(4)CH2===CH2发生加聚反应的化学方程式为____；D和G反应生成H的化学方程式为____。

(5)G的同分异构体中，同时满足下列条件的有____种(不包括立体异构)。

①苯的二取代物　②与FeCl3溶液发生显色反应　③含“—COO—”结构

(6)参照上述合成路线，以丙烯为原料(无机试剂任选)，设计制备2，3－丁二醇的合成路线。_________________

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