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氨气是一种重要的基础化工原料,用途广泛.
在微电子工业中,氨水可作刻蚀剂H2O2 的清除剂,产物不污染环境.该反应的化学方程式为2NH3+3H2O2=______+6H2O
工业中常用以下反应合成氨:N2+3H2⇌2NH3△H<0.某实验室在三个不同条件的密闭容器中,分别加入浓度均为C(N2)=0.100mol/L,C(H2)=0.300mol/L进行反应时,N2的浓度随时间的变化如下图①、②、③曲线所示.

(1)该反应平衡常数的数学表达式______;实验②平衡时H2的转化率为______
(2)据图所示,②、③两装置中各有一个条件与①不同.请指出,并说明判断的理由.
②条件:______理由:______
③条件:______理由:______.

高二化学解答题中等难度题

少年,再来一题如何?
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