对该“光敏性高分子”叙述正确的是（ ）高三化学选择题中等难度题
对该“光敏性高分子”叙述正确的是（ ）高三化学选择题中等难度题查看答案及解析
感光性高分子也称为“光敏性高分子”，是一种在彩电荧光屏及大规模集成电路制造中应用较广的新型高分子材料，其结构简式为
试回答下列问题：
(1)已知它是由两种单体经酯化后聚合而成的，试推断这两种单体的结构简式___________________________、______________________________；
(2)写出在(1)中由两种单体生成高聚物的化学反应方程式：___________________；
(3)对此高聚物的性质判断不正确的是________．
A．在酸性条件下可以发生水解
B．此高聚物不能使溴水褪色
C．此高聚物可以使高锰酸钾酸性溶液褪色
D．此高聚物可与溴水发生取代反应
E．此高聚物水解后可得到另一种高聚物
高三化学填空题中等难度题查看答案及解析
【化学—选修5：有机化学基础】
光刻胶是一种应用广泛的光敏材料，其合成路线如下（部分试剂和产物略去）：
已知Ⅰ．
（R，R′为烃基或氢）
Ⅱ．
（R，R′为烃基）
（1）写出A的结构简式
（2）B分子中所含官能团名称为 。
（3）乙炔和羧酸X加成生成E，E的核磁共振氢谱为三组峰，且峰面积比为3:2:1，E能发生水解反应，则E→F的化学方程式为 。
（4）由B到C的反应类型为 。由F到G的反应类型为
（5）D和G反应生成光刻胶的化学方程式为 。
（6）C的一种同分异构体满足下列条件：
①能发生银镜反应，其水解产物之一能与FeCl3溶液发生显色反应；
②苯环上的一氯取代产物只有两种。写出该同分异构体的结构简式： 。
（7）根据已有知识并结合相关信息，写出以CH3CHO为原料制备CH3COCOCOOH的合成路线流程图（无机试剂任用）。合成路线流程图示例如下：
高三化学推断题简单题查看答案及解析
光刻胶是一种应用广泛的光敏材料，其合成路线如下(部分试剂、反应条件和产物已略去):
已知：
Ⅰ．
（R，R’为烃基或氢）
Ⅱ．
（R，R’为烃基）
（1）写出A的结构简式__________。
（2）B分子中所含官能团的名称为__________。
（3）乙炔和羧酸X加成生成E，E的核磁共振氢谱为三组峰，且峰面积比为3:2:1，E能发生水解反应，则E
F的化学方程式为____________。
（4）由F到G的反应类型为__________。
（5）D和G反应生成光刻胶的化学方程式为__________。
（6）C的一种同分异构体满足下列条件:
①能发生银镜反应，其水解产物之一能与FeCl3溶液发生显色反应
②苯环上的一氧取代产物只有两种。写出该同分异构体的结构简式:_________。
（7）根据已有知识并结合相关信息，写出以CH3CHO为原料制备CH3COCOCOOH的合成路线流程图(无机试剂任用)。合成路线流程图示例如下:
_______________________
高三化学推断题困难题查看答案及解析
光刻胶是一种应用广泛的光敏材料，其合成路线如下（部分试剂和产物略去）：
已知：
Ⅰ.
（R，R’为烃基或氢）
Ⅱ.
（R，R’为烃基）
（1）A分子中含氧官能团名称为 。
（2）C物质可发生的反应类型为 （填字母序号）。
a.加聚反应 b. 酯化反应 c. 还原反应 d.缩聚反应
（3）B与Ag(NH3)2OH反应的化学方程式为 。
（4）乙炔和羧酸X加成生成E，E的核磁共振氢谱为三组峰，且峰面积比为3:2:1，E能发生水解反应，则E的结构简式为 。
（5）与C具有相同官能团且含有苯环的同分异构体有 种，写出其中的一种同分异构体的结构简式为 。
（6）D和G反应生成光刻胶的化学方程式为 。
高三化学推断题极难题查看答案及解析
光刻胶是一种应用广泛的光敏材料，其合成路线如下(部分试剂和产物略去)：
已知：
Ⅰ．
(R1、R2为烃基或氢)
Ⅱ．
(R1、R2为烃基或氢)
(1) A分子中含氧官能团名称为 。
(2) C物质可发生的反应类型为 (填字母序号)。
a．加聚反应 b． 酯化反应 c．还原反应 d．缩聚反应
(3) B与Ag(NH3)2OH反应的化学方程式为 。
(4) 与C具有相同官能团且含有苯环的同分异构体有4种，其结构简式分别为
、
、 和 。
(5) D和G反应生成光刻胶的化学方程式为 。
高三化学推断题中等难度题查看答案及解析
光刻胶是一种应用广泛的光敏材料，其合成路线如下(部分试剂、反应条件和产物已略去)：
已知：I、
II、
（1）A分子的名称为______，B分子中所含官能团的名称为_______，由C到D的反应类型为_______；
（2）乙炔和羧酸X发生加成反应生成E，E的核磁共振氢谱有三组峰，且峰面积比为3：2：1，E能发生水解反应，则E的结构简式为_______；
（3）D和G反应生成光刻胶的化学方程式为______；
（4）C的同分异构体满足下列条件：
①能发生银镜反应，其水解产物之一能与FeCl3溶液发生显色反应；
②分子中只有一个环状结构。满足上述条件的同分异构体有______种。其中苯环上的一氯取代产物只有两种的同分异构体的结构简式为：_______
（5）根据已有知识并结合本题信息，写出以 CH3CHO为原料制备CH3COCOCOOH的合成路线流程图(无机试剂任用，合成路线流程图示例见本题题干)______。
高三化学综合题中等难度题查看答案及解析
光刻胶是一种应用广泛的光敏材料，其合成路线如下（部分试剂和产物略去）：
已知Ⅰ．
（R，R′为烃基或氢）
Ⅱ. 
Ⅲ．
（R，R′为烃基）
（1）写出A的结构简式_____________、C的结构简式：_____________。
（2）由B生成C的反应试剂还可以选用_____________________。
（3）由B到C的反应类型为_____________。由F到G的反应类型为_____________。
（4）D和G反应生成光刻胶的化学方程式为_________________________________________________。
（5）写出由A生成B的化学反应方程式：___________________________________________________。
（6）C的一种同分异构体满足下列条件：
①能发生银镜反应，其水解产物之一能与FeCl3溶液发生显色反应；
②苯环上的一氯取代产物只有两种。写出该同分异构体的结构简式：_____________。
高三化学综合题困难题查看答案及解析
（15分）光刻胶是一种应用广泛的光敏材料，其合成路线如下（部分试剂和产物略去）：
已知：A是苯甲醛
Ⅰ．
（R，R′为烃基或氢）
Ⅱ．
（R，R′为烃基）
（1）C分子中所含官能团名称为 。
（2）乙炔和羧酸X加成生成E，E的核磁共振氢谱为三组峰，且峰面积比为3:2:1，E能发生水解反应，则E的结构简式为 。
（3）由C到D的反应类型为 。
（4）D和G反应生成光刻胶的化学方程式为 。
（5）C的一种同分异构体满足下列条件：
①能发生银镜反应，其水解产物之一能与FeCl3溶液发生显色反应；
②苯环上的一氯取代产物只有两种。
写出该同分异构体的结构简式： 。
高三化学填空题困难题查看答案及解析
光刻胶是一种应用广泛的光敏材料，其合成路线如下（部分试剂和产物略去）： 
已知：
Ⅰ．
（R，R’为烃基或氢）
Ⅱ．
（R，R’为烃基）
（1）A分子中含氧官能团名称为________。
（2）羧酸X的电离方程式为________。
（3）C物质可发生的反应类型为________（填字母序号）。
a．加聚反应 b． 酯化反应 c． 还原反应 d．缩聚反应
（4）B与Ag(NH3)2OH反应的化学方程式为________。
（5）乙炔和羧酸X加成生成E，E的核磁共振氢谱为三组峰，且峰面积比为3:2:1，E能发生水解反应，则E的结构简式为________。
（6）与C具有相同官能团且含有苯环的同分异构体有4种，其结构简式分别为
、
、________和________。
（7）D和G反应生成光刻胶的化学方程式为________。
高三化学填空题极难题查看答案及解析