半导体工业用石英砂作原料通过三个重要反应生产单质硅。①SiO2(s)（石英砂）+2C(s)...

半导体工业用石英砂作原料通过三个重要反应生产单质硅。

①SiO2(s)（石英砂）+2C(s)═Si(s)（粗硅）+2CO(g) △H=+682.44kJ•mol-1

②Si(s)（粗硅）+2Cl2(g)═SiCl4(l)　　　 △H2=-657.01kJ•mol-1

③SiCl4(l) +2Mg(s)═2MgCl2(s)+Si(s)（纯硅）△H3=-625.63kJ•mol-1

生产1.00kg纯硅放出的热量为

A. 24372.86 kJ　　 B. 21.44 kJ　　 C. 600.20 kJ　　 D. 21435.71 kJ

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半导体工业用石英砂作原料通过三个重要反应生产单质硅。

①SiO2(s)（石英砂）+2C(s)═Si(s)（粗硅）+2CO(g) △H=+682.44kJ•mol-1

②Si(s)（粗硅）+2Cl2(g)═SiCl4(l) △H2=-657.01kJ•mol-1

③SiCl4(l)+2Mg(s)═2MgCl2(s)+Si(s)（纯硅）△H3=-625.63kJ•mol-1

生产1.00kg纯硅放出的热量为

A. 24372.86 kJ　　 B. 21.44 kJ　　 C. 600.20 kJ　　 D. 21435.71 kJ

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芯片是电脑、“智能”加点的核心部件，它是用高纯度硅制成的。下面是生产单质硅过程中的一个重要反应：SiO2 + 2C＝Si +2CO↑，该反应的基本类型是

A.化合反应 B.分解反应 C.置换反应 D.复分解反应

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芯片是电脑、“智能”加点的核心部件，它是用高纯度硅制成的。下面是生产单质硅过程中的一个重要反应：SiO2 + 2C＝Si +2CO↑，该反应的基本类型是

A.化合反应 B.分解反应 C.置换反应 D.复分解反应

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芯片是电脑、“智能”加点的核心部件，它是用高纯度硅制成的。下面是生产单质硅过程中的一个重要反应：SiO2 + 2C＝Si +2CO↑，该反应的基本类型是

A.化合反应 B.分解反应 C.置换反应 D.复分解反应

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芯片是电脑、“智能”加点的核心部件，它是用高纯度硅制成的。下面是生产单质硅过程中的一个重要反应：SiO2 + 2C＝Si +2CO↑，该反应的基本类型是

A.化合反应 B.分解反应 C.置换反应 D.复分解反应

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硅是重要的无机非金属材料，工业上从硅的氧化物制取硅单质的主要反应为SiO2＋2C=Si＋2CO↑。其中，其中硅元素的化合价_______(填“升高”或“降低”)，氧化剂是_____(填化学式)，被氧化的物质是____(填化学式)；若反应中消耗了2molC，则生成_____molSi。

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半导体工业中，有一句行话：“从沙滩到用户”，即由SiO2制取Si。制取过程中不涉及的化学反应是(　　)

A.2C＋SiO2Si＋2CO↑ B.SiO2＋2NaOH=Na2SiO3＋H2O

C.Si＋2Cl2SiCl4 D.SiCl4＋2H2Si＋4HCl

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半导体工业中，有一句行话：“从沙滩到用户”，即由SiO2制Si。制取过程中不涉及到的化学反应是（　　）

A. SiO2+2CSi+2CO↑

B. SiO2+2NaOH＝Na2SiO3+H2O

C. Si+2Cl2SiCl4

D. SiCl4+2H2Si+4HCl

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制备单质硅的主要化学反应如下：①SiO₂+2C Si + 2CO↑

②Si+2Cl₂ SiCl₄  ③SiCl₄+2H₂ Si + 4HCl

下列对上述三个反应的叙述中不正确的是（    ）

A．①③为置换反应           B．①②③均为氧化还原反应

C．③中SiCl₄是氧化剂         D. 三个反应的反应物中的硅元素均被还原

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