半导体工业中，有一句行话：“从沙滩到用户”，即由SiO2制Si。制取过程中不涉及到的化学反...

半导体工业中，有一句行话：“从沙滩到用户”，即由SiO2制取Si。制取过程中不涉及的化学反应是(　　)

A.2C＋SiO2Si＋2CO↑ B.SiO2＋2NaOH=Na2SiO3＋H2O

C.Si＋2Cl2SiCl4 D.SiCl4＋2H2Si＋4HCl

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半导体工业中，有一句行话：“从沙滩到用户”，即由SiO2制Si。制取过程中不涉及到的化学反应是（　　）

A. SiO2+2CSi+2CO↑

B. SiO2+2NaOH＝Na2SiO3+H2O

C. Si+2Cl2SiCl4

D. SiCl4+2H2Si+4HCl

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在半导体工业中有这样一句话：“从沙滩到用户”，其中由粗硅制纯硅的常用方法为：Si（粗）+2Cl2=SiCl4　　 SiCl4+2H2=Si（纯）+4HCl。若在25℃101KPa条件下反应生成HCl气体49L（注：25℃101KPa条件下气体摩尔体积为24.5L/mol）则：

（1）反应生成HCl气体的质量为__________，转移电子的个数为_____________。

（2）反应生成的HCl气体溶于127mL水中，得到密度为1.20g/mL的盐酸，此盐酸的物质的量浓度为　　　　　　 。

（3）“从沙滩到用户”涉及到多个反应，其中制取粗硅的反应方程式为　　　　　　　　 ，纯净的石英砂与烧碱反应可以制得水玻璃，反应的离子方程式为　　　　　　　　　　　　　 。

（4）普通玻璃若以氧化物形式表示其组成为（质量分数）：Na2O 13％，CaO 11.7％，SiO2 75.3％。现以石灰石、纯碱和石英为原料生产这种玻璃10t，石灰石的利用率为80％，纯碱和石英的利用率为95％，至少需要上述原料的质量是　　　　 t（保留两位小数）。

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在半导体工业中有这样一句话：“从沙滩到用户”，其中由粗硅制纯硅的常用方法为：Si（粗）+2Cl2=SiCl4SiCl4+2H2=Si（纯）+4HCl。

若在25℃、101kPa条件下反应生成HCl气体49L，(注：25℃、101kPa条件下气体摩尔体积为24.5L•mol-1)则：

（1）反应生成HCl气体的质量为__，转移电子的总数为___。

（2）反应生成的HCl气体溶于127mL水中，得到密度为1.20g•mL-1的盐酸，此盐酸的物质的量浓度为___。

（3）“从沙滩到用户”涉及多个反应，其中制取粗硅的反应方程式为___。纯净的石英与烧碱反应可以制得水玻璃，反应的离子方程式为__。

（4）普通玻璃若以氧化物形式表示其组成为(质量分数)：Na2O13%，CaO11.7%，SiO275.3%。现以石灰石、纯碱和石英为原料生产这种玻璃10t，石灰石的利用率为80%，纯碱和石英的利用率为95%，至少需耍上述原料的质量是___t。(保留两位小数)

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在半导体工业中有这样一句话：“从沙滩到用户”，其中一种工艺流程示意图如下：

（1）焦炭的作用是　　 　　　　　　 　 ．

（2）已知反应器中的生成物有SiCl4、SiH2Cl2、SiH3Cl等，其中主产物的氯元素的质量百分含量为78.6%．则反应器中主要发生的化学反应方程式为　　　　　　　　　　　　　　 ，每生成 0.5molX，转移的电子物质的量为　　　　 mol．

（3）流程中可供循环使用的物质有　　 　　 　　 等（填化学式），它们也可以由　 　　 　　 工业提供．

（4）以石英砂和 　　 　　　 、　 　　 　　 等为原料还可以制普通玻璃．

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下列说法不正确的是(  　　　 )

A. Si是常用的半导体材料，可以制作光电池

B. 用SiO2制取硅酸，应先使二氧化硅与氢氧化钠溶液反应，然后通足量的CO2

C. 二氧化硅不与任何酸反应，可用石英制造耐酸容器

D. 不能用石英坩埚加热熔化氢氧化钠固体

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半导体工业用石英砂作原料通过三个重要反应生产单质硅。

①SiO2(s)（石英砂）+2C(s)═Si(s)（粗硅）+2CO(g) △H=+682.44kJ•mol-1

②Si(s)（粗硅）+2Cl2(g)═SiCl4(l)　　　 △H2=-657.01kJ•mol-1

③SiCl4(l) +2Mg(s)═2MgCl2(s)+Si(s)（纯硅）△H3=-625.63kJ•mol-1

生产1.00kg纯硅放出的热量为

A. 24372.86 kJ　　 B. 21.44 kJ　　 C. 600.20 kJ　　 D. 21435.71 kJ

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半导体工业用石英砂作原料通过三个重要反应生产单质硅。

①SiO2(s)（石英砂）+2C(s)═Si(s)（粗硅）+2CO(g) △H=+682.44kJ•mol-1

②Si(s)（粗硅）+2Cl2(g)═SiCl4(l) △H2=-657.01kJ•mol-1

③SiCl4(l)+2Mg(s)═2MgCl2(s)+Si(s)（纯硅）△H3=-625.63kJ•mol-1

生产1.00kg纯硅放出的热量为

A. 24372.86 kJ　　 B. 21.44 kJ　　 C. 600.20 kJ　　 D. 21435.71 kJ

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工业上利用硅的氧化物制取硅单质，主要反应为：SiO2 + 2C Si + 2CO↑。该反应中，还原剂是　　　　 （填化学式），被还原的物质是　　　　 （填化学式）；若反应中消耗了2 mol C，则生成　　 _____mol Si，转移电子的物质的量为　　　　 mol。

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硅是重要的无机非金属材料，工业上从硅的氧化物制取硅单质的主要反应为SiO2＋2C=Si＋2CO↑。其中，其中硅元素的化合价_______(填“升高”或“降低”)，氧化剂是_____(填化学式)，被氧化的物质是____(填化学式)；若反应中消耗了2molC，则生成_____molSi。

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