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在半导体工业中有这样一句话：“从沙滩到用户”，其中一种工艺流程示意图如下：
（1）焦炭的作用是 ．
（2）已知反应器中的生成物有SiCl4、SiH2Cl2、SiH3Cl等，其中主产物的氯元素的质量百分含量为78.6%．则反应器中主要发生的化学反应方程式为 ，每生成 0.5molX，转移的电子物质的量为 mol．
（3）流程中可供循环使用的物质有 等（填化学式），它们也可以由 工业提供．
（4）以石英砂和 、 等为原料还可以制普通玻璃．
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在半导体工业中有这样一句话：“从沙滩到用户”，其中由粗硅制纯硅的常用方法为：Si（粗）+2Cl2=SiCl4 SiCl4+2H2=Si（纯）+4HCl。若在25℃101KPa条件下反应生成HCl气体49L（注：25℃101KPa条件下气体摩尔体积为24.5L/mol）则：
（1）反应生成HCl气体的质量为__________，转移电子的个数为_____________。
（2）反应生成的HCl气体溶于127mL水中，得到密度为1.20g/mL的盐酸，此盐酸的物质的量浓度为 。
（3）“从沙滩到用户”涉及到多个反应，其中制取粗硅的反应方程式为 ，纯净的石英砂与烧碱反应可以制得水玻璃，反应的离子方程式为 。
（4）普通玻璃若以氧化物形式表示其组成为（质量分数）：Na2O 13％，CaO 11.7％，SiO2 75.3％。现以石灰石、纯碱和石英为原料生产这种玻璃10t，石灰石的利用率为80％，纯碱和石英的利用率为95％，至少需要上述原料的质量是 t（保留两位小数）。
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在半导体工业中有这样一句话：“从沙滩到用户”，其中由粗硅制纯硅的常用方法为：Si（粗）+2Cl2=SiCl4SiCl4+2H2=Si（纯）+4HCl。
若在25℃、101kPa条件下反应生成HCl气体49L，(注：25℃、101kPa条件下气体摩尔体积为24.5L•mol-1)则：
（1）反应生成HCl气体的质量为__，转移电子的总数为___。
（2）反应生成的HCl气体溶于127mL水中，得到密度为1.20g•mL-1的盐酸，此盐酸的物质的量浓度为___。
（3）“从沙滩到用户”涉及多个反应，其中制取粗硅的反应方程式为___。纯净的石英与烧碱反应可以制得水玻璃，反应的离子方程式为__。
（4）普通玻璃若以氧化物形式表示其组成为(质量分数)：Na2O13%，CaO11.7%，SiO275.3%。现以石灰石、纯碱和石英为原料生产这种玻璃10t，石灰石的利用率为80%，纯碱和石英的利用率为95%，至少需耍上述原料的质量是___t。(保留两位小数)
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半导体工业中，有一句行话：“从沙滩到用户”，即由SiO2制Si。制取过程中不涉及到的化学反应是（ ）
A. SiO2+2C
Si+2CO↑B. SiO2+2NaOH＝Na2SiO3+H2O
C. Si+2Cl2
SiCl4D. SiCl4+2H2
Si+4HCl高一化学单选题中等难度题查看答案及解析
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半导体工业中，有一句行话：“从沙滩到用户”，即由SiO2制取Si。制取过程中不涉及的化学反应是( )
A.2C＋SiO2
Si＋2CO↑ B.SiO2＋2NaOH=Na2SiO3＋H2OC.Si＋2Cl2
SiCl4 D.SiCl4＋2H2Si＋4HCl高一化学单选题简单题查看答案及解析
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半导体行业中有一句话：“从沙滩到用户”，计算机芯片的材料是硅，下列有关硅及其化合物叙述正确的是（ ）
A. 水玻璃可做防火材料 B. 光导纤维的主要成分是高纯硅
C. 可用石英坩埚加热熔融氢氧化钠固体 D. 二氧化硅不和任何酸反应
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半导体行业中有一句话：“从沙滩到用户”，计算机芯片的材料是硅，下列有关硅及其化合物叙述正确的是（ ）
A. 水玻璃可做防火材料 B. 光导纤维的主要成分是高纯硅
C. 可用石英钳埚加热熔融氢氧化钠固体 D. 二氧化硅不和任何酸反应
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晶体硅是一种重要的非金属材料，有科学家认为硅是“21世纪的能源”、“未来的石油”。
(1)工业上生产纯硅的工艺流程如下：
石英砂的主要成分是SiO2，在制备粗硅时，焦炭的作用是__________(填“氧化剂”或“还原剂”)；在该反应中，若消耗了3.0 g SiO2 ，则转移电子的总数为_______________。
(2)某实验室利用SiHCl3(沸点33.0 ℃)与过量H2在1 000 ℃～1 100 ℃反应制得纯硅。已知SiHCl3能与H2O强烈反应，在空气中易自燃。装置如图所示(热源及夹持装置略去)。
①装置B中的试剂是___________。装置C中的烧瓶需要加热，其目的是_________________。
②反应一段时间后，装置D中观察到的现象是______________________；装置D中发生反应的化学方程式为___________________________________。
③为检验产品硅中是否含微量铁单质，将试样用稀盐酸溶解，取上层清液后需要加入的试剂有______(填字母)。
a.碘水 b.氯水 c.Na2SO3溶液 d.KSCN溶液
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晶体硅是一种重要的非金属材料，有科学家认为硅是“21世纪的能源”、“未来的石油”。
(1)工业上生产纯硅的工艺流程如下：
石英砂的主要成分是SiO2，在制备粗硅时，焦炭的作用是__________(填“氧化剂”或“还原剂”)；在该反应中，若消耗了3.0 g SiO2 ，则转移电子的总数为_______________。
(2)某实验室利用SiHCl3(沸点33.0 ℃)与过量H2在1 000 ℃～1 100 ℃反应制得纯硅。已知SiHCl3能与H2O强烈反应，在空气中易自燃。装置如图所示(热源及夹持装置略去)。
①装置B中的试剂是___________。装置C中的烧瓶需要加热，其目的是_________________。
②反应一段时间后，装置D中观察到的现象是______________________；装置D中发生反应的化学方程式为___________________________________。
③为检验产品硅中是否含微量铁单质，将试样用稀盐酸溶解，取上层清液后需要加入的试剂有______(填字母)。
a.碘水 b.氯水 c.Na2SO3溶液 d.KSCN溶液
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晶体硅是一种重要的非金属材料，有科学家认为硅是“21世纪的能源”、“未来的石油”。
(1)工业上生产纯硅的工艺流程如下：
石英砂的主要成分是SiO2，在制备粗硅时，焦炭的作用是__________(填“氧化剂”或“还原剂”)；在该反应中，若消耗了3.0 g SiO2 ，则转移电子的总数为_______________。
(2)某实验室利用SiHCl3(沸点33.0 ℃)与过量H2在1 000 ℃～1 100 ℃反应制得纯硅。已知SiHCl3能与H2O强烈反应，在空气中易自燃。装置如图所示(热源及夹持装置略去)。
①装置B中的试剂是___________。装置C中的烧瓶需要加热，其目的是_________________。
②反应一段时间后，装置D中观察到的现象是______________________；装置D中发生反应的化学方程式为___________________________________。
③为检验产品硅中是否含微量铁单质，将试样用稀盐酸溶解，取上层清液后需要加入的试剂有______(填字母)。
a.碘水 b.氯水 c.Na2SO3溶液 d.KSCN溶液
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Si+2CO↑
SiCl4
Si＋2CO↑ B.SiO2＋2NaOH=Na2SiO3＋H2O
SiCl4 D.SiCl4＋2H2