硅单质及其化合物应用范围很广。（1）制备硅半导体材料必须先得到高纯硅，工业上可以按如下步骤...

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硅单质及其化合物应用范围很广。

（1）制备硅半导体材料必须先得到高纯硅，工业上可以按如下步骤制备纯硅：

Ⅰ.高温下用碳还原二氧化硅制得粗硅

Ⅱ.粗硅与干燥的氯气在450 ℃～500 ℃ 反应制得SiCl₄

Ⅲ. SiCl₄液体经精馏提纯后与过量H₂在1100 ℃～1200 ℃ 反应制得纯硅

已知SiCl₄沸点为57.6 ℃，能与H₂O强烈反应。1 mol H₂与SiCl₄气体完全反应吸收的热量为120.2 kJ。请回答下列问题：

① 第Ⅰ步制备粗硅的化学反应方程式为________，第Ⅲ步反应的热化学方程式是________。

②整个制备纯硅过程必须严格控制无水无氧。SiCl₄在潮湿的空气中因水解而产生白色烟雾，其生成物是________；H₂还原SiCl₄过程中若混O₂，可能引起的后果是________。

（2）二氧化硅大量用于生产玻璃。工业上用SiO₂、Na₂CO₃和CaCO₃共283 kg在高温下完全反应时放出CO₂ 44 kg，生产出的玻璃可用化学式Na₂SiO₃·CaSiO₃·xSiO₂表示，则其中x＝。

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硅单质及其化合物应用范围很广。
（1）制备硅半导体材料必须先得到高纯硅，工业上可以按如下步骤制备纯硅：
Ⅰ.高温下用碳还原二氧化硅制得粗硅
Ⅱ.粗硅与干燥的氯气在450 ℃～500 ℃ 反应制得SiCl₄
Ⅲ. SiCl₄液体经精馏提纯后与过量H₂在1100 ℃～1200 ℃ 反应制得纯硅
已知SiCl₄沸点为57.6 ℃，能与H₂O强烈反应。1 mol H₂与SiCl₄气体完全反应吸收的热量为120.2 kJ。请回答下列问题：
① 第Ⅰ步制备粗硅的化学反应方程式为________，第Ⅲ步反应的热化学方程式是________。
②整个制备纯硅过程必须严格控制无水无氧。SiCl₄在潮湿的空气中因水解而产生白色烟雾，其生成物是________；H₂还原SiCl₄过程中若混O₂，可能引起的后果是________。
（2）二氧化硅大量用于生产玻璃。工业上用SiO₂、Na₂CO₃和CaCO₃共283 kg在高温下完全反应时放出CO₂ 44 kg，生产出的玻璃可用化学式Na₂SiO₃·CaSiO₃·xSiO₂表示，则其中x＝。

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硅及其化合物是重要的材料，应用范围很广。请回答下列问题：
(1)制备硅半导体材料必须先得到高纯硅，三氯甲硅烷(SiHCl3)还原法是当前制备高纯硅的主要方法，生产过程示意图如下：
①用石英砂和焦炭高温加热时有碳化硅生成，该反应的化学方程式为______________。
②写出由纯SiHCl3制备高纯硅的化学反应方程式：________________。
③SiHCl3遇水剧烈反应生成H2SiO3、HCl和另一种物质，写出并配平该化学反应方程式：________________。
(2)水泥属于硅酸盐工业产品，是重要的建筑材料。水泥熟料的主要成分为CaO、SiO2，并含有一定量的铁、铝和镁等金属的氧化物。实验室测定水泥样品中钙含量的过程如图所示：
回答下列问题：
①在分解水泥样品过程中，以盐酸为溶剂，氯化铵为助溶剂，还需加入几滴硝酸。加入硝酸的目的是_______________，还可使用_________代替硝酸。
②沉淀A的主要成分是__________，其不溶于强酸但可与一种弱酸反应，该反应的化学方程式为________。
③加氨水过程中加热的目的是_______。沉淀B的主要成分为________、_______(写化学式)。

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硅单质及其化合物应用范围很广。请回答下列问题：
（1）制备硅半导体材料必须先得到高纯硅。三氯甲硅烷(SiHCl3)还原法是当前制备高纯硅的主要方法，生产过程示意图如下：
①写出由纯SiHCl3制备高纯硅的化学反应方程式：_____________。
②整个制备过程必须严格控制无水无氧。SiHCl3遇水剧烈反应生成H2SiO3、HCl和另一种物质，写出配平的化学反应方程式：____________________。
（2）化学研究性学习小组在探究硅的制取方法时，从资料查阅到下列信息：①Mg在高温条件下可与SiO2反应；②金属硅化物与稀H2SO4反应生成硫酸盐和SiH4；③SiH4在空气中自燃。
他们根据信息进行实验，当用足量稀H2SO4溶解第①步实验获得的固体产物时，发现有爆鸣声和火花；然后过滤、洗涤、干燥；最后称量、计算，测得其产率只有预期值的63%左右。
①第①步实验发生反应的化学方程式是　　　　　　　　；______　　 ____。
②用稀H2SO4溶解第①步实验获得固体产物时，产生爆鸣声和火花的原因是(用化学方程式表示)_________________，　　　　　　　　　　　。

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硅单质及其化合物应用范围很广。请回答下列问题：
(1)制备硅半导体材料必须先得到高纯硅。三氯甲硅烷(SiHCl3)还原法是当前
制备高纯硅的主要方法，生产过程示意图如下：
写出由纯SiHCl3制备高纯硅的化学反应方程式_______________________________。整个制备过程必须严格控制无水无氧。SiHCl3遇水剧烈反应生成H2SiO3、HCl和另一种物质，写出配平的化学反应方程式______________________________________________。H2还原SiHCl3过程中若混入O2，可能引起的后果是____________________________________________。
(2)下列有关硅材料的说法正确的是________(填字母)。
A．碳化硅化学性质稳定，可用于生产耐高温水泥
B．氮化硅硬度大、熔点高，可用于制作高温陶瓷和轴承
C．高纯度的二氧化硅可用于制造高性能通讯材料——光导纤维
D．普通玻璃是由纯碱、石灰石和石英砂制成的，其熔点很高
E．盐酸可以与硅反应，故采用盐酸为抛光液抛光单晶硅
(3)硅酸钠水溶液俗称水玻璃。取少量硅酸钠溶液于试管中，逐滴加入饱和氯化铵溶液，振荡。写出实验现象并给予解释。____________________________________________。

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（16分）硅单质及其化合物应用范围很广。请回答下列问题：
制备硅半导体材料必须先得到高纯硅。三氯甲硅烷（SiHCl₃）还原法是当前制备高纯硅的主要方法，生产过程示意图如下：
（1）在制粗硅的反应中，焦炭的作用是________。
（2）整个制备过程必须严格控制无水、无氧。
①SiHCl₃遇水剧烈反应生成H₂SiO₃、HCl和另一种物质，写出配平的化学反应方程式　　　；②H₂还原SiHCl₃过程中若混O₂，可能引起的后果是。
(3)硅酸钠水溶液俗称水玻璃。取少量硅酸钠溶液于试管中，逐滴加入饱和氯化铵溶液，振荡。写出实验现象并给予解释　　________　。

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硅单质及其化合物应用很广．请回答下列问题：
制备硅半导体材料必须先得到高纯硅．三氯甲硅烷还原法是当前制备高纯硅的主要方法，生产过程示意图如下：
写出由纯制备高纯硅的化学反应方程式 ______ ．
整个制备过程必须严格控制无水、无氧．遇水剧烈反应生成、HCl和另一种物质，写出配平的化学反应方程式 ______ ；
下列有关硅材料的说法正确的是 ______ ．
A.单质硅化学性质稳定，但可以被强碱溶液腐蚀
B.盐酸可以与硅反应，故采用盐酸为抛光液抛光单晶硅
C.普通玻璃是由纯碱、石灰石和石英砂制成的，其熔点很高
D.光导纤维的主要成分是
硅酸钠水溶液俗称水玻璃．取少量硅酸钠溶液于试管中，逐滴加入盐酸，振荡．写出实验现象并给予解释用化学方程式说明 ______ ．
在人体器官受到损伤时，需要使用一种新型无机非金属材料来植入体内，这种材料是 ______ 填字母．
A.高温结构陶瓷生物陶瓷导电陶瓷．

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短周期主族元素W、X、Y、Z的原子序数依次增大。工业上以金红石（主要成分是TiO2）为原料制备金属钛的步骤：①在高温下，向金红石与W的单质的混合物中通入Z的气体单质，得到化合物甲和化学式为WX的常见可燃性有毒气体乙，乙燃烧火焰呈蓝色；②在稀有气体环境和加热条件下，用Y的金属单质与甲反应可得钛，下列说法不正确的是（　　　）
A.非金属性：Z>X>W B.W与Z形成的化合物可用于工业上的重要有机溶剂
C.简单离子半径：Z>X>Y D.ZX2具有强氧化性，可用于饮用水消毒

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短周期主族元素W、X、Y、Z的原子序数依次增大。工业上以金红石（主要成分是TiO2）为原料制备金属钛的步骤：①在高温下，向金红石与W的单质的混合物中通入Z的气体单质，得到化合物甲和化学式为WX的常见可燃性气体乙；②在稀有气体环境和加热条件下，用Y的金属单质与甲反应可得钛，下列说法不正确的是
A. 非金属性：Z>X>W
B. 简单离子半径：Z>X>Y
C. W与Z形成的化合物可用于工业上的重要有机溶剂
D. ZX2具有强氧化性，可用于饮用水消毒

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下列说法不正确的是
A.工业上，在高温熔融、隔绝空气的条件下，利用钠单质和钛、钽等金属的氧化物发生置换反应，来制备钛、钽等稀有金属材料
B.铁的化合物应用十分广泛，氯化铁、硫酸亚铁是优良的净水剂
C.铜丝在氯气中燃烧，产生大量棕色的烟，实验结束后在集气瓶中加入少量水，盖上玻片后充分振荡，棕色消失，得到绿色溶液，再加水稀释，最终得到蓝色溶液
D.工业上锌可用湿法冶炼——电解 ZnSO4 溶液制备 Zn

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晶体硅是一种重要的非金属材料，制备纯硅的主要步骤如下：
①高温下用过量的碳还原二氧化硅制得粗硅，同时得到一种可燃性气体；
②粗硅与干燥的HCl气体反应制得SiHCl3(Si＋3HClSiHCl3＋H2)；
③SiHCl3与过量的H2在1 100～1 200 ℃的温度下反应制得纯硅，已知SiHCl3能与水剧烈反应，在空气中易自燃。
请回答：
(1)第一步制取粗硅的化学反应方程式为　　　　　　　　　　　　　　　　。
(2)粗硅与HCl气体反应完全后，经冷凝得到的SiHCl3(沸点33.0 ℃)中含有少量SiCl4(沸点57.6 ℃)和HCl(沸点－84.7 ℃)，提纯SiHCl3采用的方法为　　　　　　　　　　　　　　　。
(3)实验室用SiHCl3与过量的H2反应制取纯硅装置如图所示(加热和夹持装置略去)：
①装置B中的试剂是　　　　，装置C中的烧杯需要加热，目的是　　　　　　　　　　　　　　。
②反应一段时间后，装置D中观察到的现象是　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　，装置D不能采用普通玻璃管的原因是　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　，装置D中发生反应的化学方程式是　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　。
③为保证制备纯硅实验的成功，操作的关键是检查实验装置的气密性，控制好反应温度以及　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　。

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