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三氟化氮(NF3)是微电子工业中优良的刻蚀气体,它在潮湿的环境中能发生反应:

3 NF3 + 5 H2O = 2 NO + HNO3 + 9 HF。下列有关该反应的说法正确的是

A. NF3在潮湿的空气中泄漏时容易被发现

B. NF3是氧化剂,H2O是还原剂

C. 氧化产物与还原产物的物质的量之比为2:1

D. 若转移0.2mol电子时,生成NO气体4.48L

高三化学选择题中等难度题

少年,再来一题如何?
试题答案
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