芯片主要由单晶体硅成。下图是硅及其化合物的类价二维图，根据要求完成下列化学方程式或离子方程...

芯片主要由单晶体硅成。下图是硅及其化合物的类价二维图，根据要求完成下列化学方程式或离子方程式。

（1）利用焦炭在电炉中还原二氧化硅的化学方程式为_______________。

（2）利用氢氟酸刻蚀玻璃的化学方程式为_______________。

（3）硅酸钠转化为原硅酸的离子方程式_______________。

（4）二氧化硅与烧碱溶液反应的化学方程式_______________。

（5）石英与纯碱在玻璃熔炉里加强热发生反应的化学方程式为_______________。

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芯片主要由单晶体硅成。下图是硅及其化合物的类价二维图，根据要求完成下列化学方程式或离子方程式。

（1）利用焦炭在电炉中还原二氧化硅的化学方程式为_______________。

（2）利用氢氟酸刻蚀玻璃的化学方程式为_______________。

（3）硅酸钠转化为原硅酸的离子方程式_______________。

（4）二氧化硅与烧碱溶液反应的化学方程式_______________。

（5）石英与纯碱在玻璃熔炉里加强热发生反应的化学方程式为_______________。

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物质的类别和核心元素的化合价是研究物质性质的两个重要维度。下图为硫及其部分化合物的“价类二维图”， 根据图示回答下列问题：

（1）类比CO2的性质,学习SO2的性质,写出下列反应的离子方程式。

①少量的SO2通入澄清石灰水中:__________________。

②SO2通入Na2SO3溶液中： ________________________。　　　　　　　　　　　　　　　　　　　

（2）Y的分子式：___________________。

（3）Z的稀溶液与铁反应的离子方程式为______________________。

（4）检验CO2是否混有SO2，可以使混合气体通过盛有品红溶液的洗气瓶，这是利用了SO2的_____________性，也可以使混合气体通过盛有酸性高锰酸钾稀溶液的洗气瓶，这是利用了SO2的_____________性。

（5）大苏打（Na2S2O3）在照相、电影、纺织、化纤、造纸、皮革、农药等方面均有重要用途。现欲在实验室制备大苏打，从氧化还原角度分析，合理的是__________（填字母选项）

A．Na2S+S　　　　　 B．Na2SO3+S　　　　　 C．Na2SO3+　　 Na2SO4　　 D．SO2+Na2SO4　　

（6）将X与SO2的水溶液混合后产生淡黄色沉淀，该反应的氧化产物与还原产物的质量之比为__________________

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利用“价类二维图”研究物质的性质是化学研究的重要手段。下图是氯元素的化合价与部分物质类别的对应关系

回答下列问题：

(1)X的电离方程式为________。

(2)氯的某种氧化物(ClmOn)中氯、氧元素质量比为71：48，则m：n=______。

(3)Y可用于实验室制O2，其焰色试验为紫色，则Y含有的化学键类型为__；Y在400℃时分解只生成两种盐，其中一种是无氧酸盐，另一种盐的阴阳离子个数比为1：1，生成的两种盐的化学式分别__。

(4)NaClO2具有很强的氧化性，常用作消毒剂，其消毒效率是Z的__倍(还原产物都为Cl-，消毒效率以单位物质的量得到的电子数表示)。

(5)Cl2O可用潮湿的Z与Na2CO3反应制取，同时生成NaHCO3，反应中Z既体现氧化性，又体现还原性，该反应的化学方程式为__。

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物质的类别和核心元素的化合价是研究物质性质的两个重要维度。下图为硫及其部分化合物的“价类二维图”，根据图示回答下列问题：

（1）根据“价类二维图”，下列能与B反应的物质有_____，反应中使B表现还原性的物质是__（填序号）。

①NaOH溶液　 ②CaCl2溶液　 ③酸性KMnO4溶液　 ④H2S溶液

（2）C的钠盐放置在空气中极易变质，请设计实验方案证明其已被氧化___。

（3）请写出金属铜与D的浓溶液在一定条件下发生反应的化学方程式______。

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根据要求完成下列化学方程式或离子方程式

（1）金属铝与氢氧化钠溶液反应_______________________

（2）工业用焦炭与二氧化硅制粗硅_______________________

（3）金属铝与氧化铁的铝热反应_______________________

（4）Na2O2与水反应的离子方程式_______________________

（5）氯化亚铁溶液与氯气反应的离子方程式_______________________

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单晶硅是制作电子集成电路的基础材料。一个电脑芯片上如果集成10亿个晶体管，其功能远比我们想象的要大的多，这对硅的纯度要求很高。用化学方法可制得高纯度硅，其化学方程式为：①SiO2 + 2C Si + 2CO；②Si + 2Cl2 SiCl4；③SiCl4 +2H2 Si + 4HCl，其中，反应①和③属于

A．化合反应　　　　　 B．分解反应　　　　　 C．置换反应　　　　　 D．复分解反应

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(6分)单晶硅是制作电子集成电路的基础材料。科学家预计，到2011年一个电脑芯片上将会集成10亿个晶体管，其功能远比我们想象的要大的多，这对硅的纯度要求很高。用化学方法可制得高纯度硅，其化学方程式为：     ①SiO₂ + 2C  Si + 2CO     ②Si + 2Cl₂SiCl₄

③SiCl₄ + 2H₂Si + 4HCl。回答下列问题：

（1）上述反应中，属于氧化还原反应的是________（填序号）。

（2）反应①和③属于。

A．化合反应      B．分解反应       C．置换反应      D．复分解反应

（3）下列描述正确的是________。

A．氧化还原反应都是置换反应

B．判断一个反应是否为氧化还原反应的依据是是否有化合价的升降

C．化合反应全部都是氧化还原反应          D．复分解反应全部都是氧化还原反应

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单晶硅是制作电子集成电路的基础材料。科学家预计，到2011年一个电脑芯片上将会集成10亿个晶体管，其功能远比我们想象的要大的多，这对硅的纯度要求很高。用化学方法可制得高纯度硅，其化学方程式为 ：

①SiO₂ + 2C  Si + 2CO②Si + 2Cl₂SiCl₄       ③SiCl₄ + 2H₂Si + 4HCl，

其中反应①和③属于（     ）

A. 化合反应      B. 分解反应        C. 置换反应         D. 复分解反应

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