( 16分)Heck反应是合成C-C键的有效方法之一,如反应①:
I Ⅱ Ⅲ
化合物Ⅱ可由以下合成路线获得:
(1) 化合物Ⅲ的分子式为________,1 mol化合物Ⅲ完全燃烧最少需要消耗______mol O2。
(2)化合物IV分子结构中不含甲基,写出化合物IV的结构简式:______________,并写出由化合物IV反应生成化合物V的化学方程式___________________________。
(3)有关化合物Ⅱ说法正确的是_______________。
A.1 mol 化合物Ⅱ最多可与2 mol H2发生加成反应
B.化合物Ⅱ能使酸性高锰酸钾溶液褪色
C.化合物Ⅱ难溶于水
D.化合物Ⅱ分子间聚合,反应生成的高聚物结构为
(4) 化合物Ⅲ的一种同分异构体VI,苯环上的一氯取代物只有一种,VI能发生银镜反应,其核磁共振氢谱共有三组峰,峰面积之比为1:2:2,VI的结构简式为_____________。
(5) 和也可以发生类似反应①的反应,有机产物的结构简式_______________,①的反应类型为_____________。
高三化学填空题极难题
( 16分)Heck反应是合成C-C键的有效方法之一,如反应①:
I Ⅱ Ⅲ
化合物Ⅱ可由以下合成路线获得:
(1) 化合物Ⅲ的分子式为________,1 mol化合物Ⅲ完全燃烧最少需要消耗______mol O2。
(2)化合物IV分子结构中不含甲基,写出化合物IV的结构简式:______________,并写出由化合物IV反应生成化合物V的化学方程式___________________________。
(3)有关化合物Ⅱ说法正确的是_______________。
A.1 mol 化合物Ⅱ最多可与2 mol H2发生加成反应
B.化合物Ⅱ能使酸性高锰酸钾溶液褪色
C.化合物Ⅱ难溶于水
D.化合物Ⅱ分子间聚合,反应生成的高聚物结构为
(4) 化合物Ⅲ的一种同分异构体VI,苯环上的一氯取代物只有一种,VI能发生银镜反应,其核磁共振氢谱共有三组峰,峰面积之比为1:2:2,VI的结构简式为_____________。
(5) 和也可以发生类似反应①的反应,有机产物的结构简式_______________,①的反应类型为_____________。
高三化学填空题极难题查看答案及解析
Heck反应是合成C-C键的有效方法之一,如反应①:
I Ⅱ Ⅲ
化合物Ⅱ可由以下合成路线获得:
(1) 化合物Ⅲ的分子式为________,1 mol化合物Ⅲ最多可与______mol H2发生加成反应。
(2)化合物IV分子结构中有甲基,写出由化合物IV反应生成化合物V的化学方程式________________________________________________________________。
(3)有关化合物Ⅱ说法正确的是____________
A.1 mol 化合物Ⅱ完全燃烧消耗5 mol O2
B.化合物Ⅱ能使酸性高锰酸钾溶液褪色
C.化合物Ⅱ难溶于水
D.化合物Ⅱ分子间聚合,反应生成的高聚物结构为
(4)化合物Ⅲ的一种同分异构体VI,苯环上的一氯取代物有两种,VI能与NaHCO3溶液反应生成无色气体,除苯环上的氢外核磁共振氢谱还有四组峰,峰面积之比为1:1:1:3,V的结构简式为________________。
(5) 和也可以发生类似反应①的反应,有机产物的结构简式为_______________。
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Heck反应是合成C—C键的有效方法之一,如反应①:
化合物Ⅱ可由以下合成路线获得:
Ⅳ(分子式C3H6O3)Ⅴ Ⅱ
(1) 化合物Ⅲ的分子式为__________,1 mol化合物Ⅲ最多可与__________mol H2发生加成反应。
(2)化合物Ⅳ分子结构中有甲基,写出由化合物Ⅳ反应生成化合物Ⅴ的化学方程式
________________________________________________________________________
________________________________________________________________________。
(3)有关化合物Ⅱ说法正确的是( )
A.1 mol 化合物Ⅱ完全燃烧消耗5 mol O2
B.化合物Ⅱ能使酸性高锰酸钾溶液褪色
C.化合物Ⅱ难溶于水
D.化合物Ⅱ分子间聚合,反应生成的高聚物结构为
(4)化合物Ⅲ的一种同分异构体Ⅵ,苯环上的一氯取代物有两种,Ⅵ能与NaHCO3溶液反应生成无色气体,除苯环上的氢外核磁共振氢谱还有四组峰,峰面积之比为1∶1∶1∶3,Ⅵ的结构简式为________________________________________________________________________。
(5)CH3Ⅰ和O也可以发生类似反应①的反应,有机产物的结构简式为__________________________________。
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(18分)Heck反应是合成C--C键的有效方法之一,如反应
化合物II可由以F合成路线获得:
(1) Heck反应的反应类型是____反应;V→II的反应类型是_________反应
(2)化合物III的分子式为___________,1 mol化合物III最多可与_______mol H2发生加成反应。
(3)若化合物IV分子结构中有甲基,写出由化合物IV反应生成化合物V的化学方程式 ________________________________________________________.
(4)有关化合物II说法正确的是________________
A.l mol化合物II完全燃烧消耗5 mol O2
B.化合物II能使酸性高锰酸钾溶液褪色
C.化合物II难溶于水
D.化合物II分子间聚合,反应生成的高聚物结构为
(5)化合物III的一种同分异构体VI,苯环上的一氯取代物有两种,VI能与NaHCO3溶液反应生成无色气体,除苯环上的氢外核磁共振氢谱还有四组峰,峰面积之比为1:1:1:3,VI的结构简式为_______________________________.
(6) 也可以发生类似反应①的反应,反应后有机产物的
结构简式为_________________________________.
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氧化白藜芦醇W具有抗病毒等作用。下面是利用Heck反应合成W的一种方法:
回答下列问题:
(1)A的化学名称为___________。
(2)中的官能团名称是___________。
(3)反应③的类型为___________,W的分子式为___________。
(4)不同条件对反应④产率的影响见下表:
实验 | 碱 | 溶剂 | 催化剂 | 产率/% |
1 | KOH | DMF | Pd(OAc)2 | 22.3 |
2 | K2CO3 | DMF | Pd(OAc)2 | 10.5 |
3 | Et3N | DMF | Pd(OAc)2 | 12.4 |
4 | 六氢吡啶 | DMF | Pd(OAc)2 | 31.2 |
5 | 六氢吡啶 | DMA | Pd(OAc)2 | 38.6 |
6 | 六氢吡啶 | NMP | Pd(OAc)2 | 24.5 |
上述实验探究了________和________对反应产率的影响。此外,还可以进一步探究________等对反应产率的影响。
(5)X为D的同分异构体,写出满足如下条件的X的结构简式________________。
①含有苯环;②有三种不同化学环境的氢,个数比为6∶2∶1;③1 mol的X与足量金属Na反应可生成2 g H2。
(6)利用Heck反应,由苯和溴乙烷为原料制备,写出合成路线________________。(无机试剂任选)
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氧化白藜芦醇W具有抗病毒等作用。下面是利用Heck反应合成W的一种方法:
回答下列问题:
的化学名称为___________。
中的官能团名称是___________。
反应③的类型为___________,W的分子式为___________。
不同条件对反应④产率的影响见下表:
实验 | 碱 | 溶剂 | 催化剂 | 产率 |
1 | KOH | DMF | ||
2 | DMF | |||
3 | DMF | |||
4 | 六氢吡啶 | DMF | ||
5 | 六氢吡啶 | DMA | ||
6 | 六氢吡啶 | NMP |
上述实验探究了________和________对反应产率的影响。此外,还可以进一步探究________等对反应产率的影响。
为D的同分异构体,写出满足如下条件的X的结构简式________________。
含有苯环;②有三种不同化学环境的氢,个数比为6:2:1;③1 mol的X与足量金属Na反应可生成2 g H2。
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氧化白藜芦醇W具有抗病毒等作用。下面是利用Heck反应合成W的一种方法:
回答下列问题:
的化学名称为___________。
中的官能团名称是___________。
反应③的类型为___________,W的分子式为___________。
不同条件对反应④产率的影响见下表:
实验 | 碱 | 溶剂 | 催化剂 | 产率 |
1 | KOH | DMF | ||
2 | DMF | |||
3 | DMF | |||
4 | 六氢吡啶 | DMF | ||
5 | 六氢吡啶 | DMA | ||
6 | 六氢吡啶 | NMP |
上述实验探究了________和________对反应产率的影响。此外,还可以进一步探究________等对反应产率的影响。
为D的同分异构体,写出满足如下条件的X的结构简式________________。
含有苯环;②有三种不同化学环境的氢,个数比为6:2:1;③1 mol的X与足量金属Na反应可生成2 g H2。
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美国化学家R.F.Heck因发现Heck反应而获得2010年诺贝尔化学奖。例如经由Heck反应合成一种防晒剂:
反应①:
化合物Ⅱ可由以下合成路线获得:
(1)化合物I核磁共振氢谱显示存在 组峰,化合物I的分子式为 。
(2)1mol化合物Ⅱ完全燃烧最少需要消耗 mol O2,其完全水解的化学方程式为 (注明条件)。
(3)化合物Ⅲ中含氧官能团的名称是 ;化合物Ⅴ与浓H2SO4共热生成化合物Ⅵ,化合物Ⅵ能使酸性KMnO4溶液褪色,化合物Ⅵ的结构简式是 。
(4)化合物Ⅰ的一种同分异构体化合物Ⅶ符合下列条件:苯环上有两个取代基且苯环上只有两种不同化学环境的氢,与FeCl3溶液作用显紫色。化合物Ⅶ与过量NaOH溶液共热,发生反应的方程式为 。
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美国化学家R.F.Heck因发现如下Heck反应而获得2010年诺贝尔化学奖。该反应原理如下:
(X为卤原子,R为取代基)
经由Heck反应合成E的路线如下:
(1)已知A 为羧酸, A→B的反应类型是________,0.1mol的A与足量的金属Na反应产生H2________L(标准状况下)。
(2)写出反应I的方程式________(注明条件)
(3)符合A分子式的羧酸类物质有两种,其中的一种经过上述反应转化成B,已知B分子的核磁共振氢谱有两种峰,B的结构简式为________。
(4)反应Ⅱ为Heck反应,则E的结构简式为________。
(5)A的一种同分异构体F,经过下列反应也能制得C:
实验室检验反应Ⅲ是否完全可用的试剂是:________。
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美国化学家R.F.Heck因发现如下Heck反应而获得2010年诺贝尔化学奖。
(X为卤原子,R为取代基)
经由Heck反应合成M(一种防晒剂)的路线如下:
回答下列问题:
(1)M可发生的反应类型是______________。
a.取代反应 b.酯化反应
c.缩聚反应 d.加成反应
(2)C与浓H2SO4共热生成F,F能使酸性KMnO4溶液褪色,F的结构简式是__________。
D在一定条件下反应生成高分子化合物G,G的结构简式是__________。
(3)在A → B的反应中,检验A是否反应完全的试剂是_______________。
(4)E的一种同分异构体K符合下列条件:苯环上有两个取代基且苯环上只有两种不同化学环境的氢,与FeCl3溶液作用显紫色。K与过量NaOH溶液共热,发生反应的方程式为__________。
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