聚乙烯醇肉桂酸酯(M)可用作光刻工艺中的抗腐蚀涂层，其合成路线如下：
已知：①R1、R2均为烃基
② 合成路线中A→B是原子利用率为100%的反应
回答下列问题：
（1）A的名称是_______________；F→G的反应类型为_____________。
（2）C→D的化学反应方程式为_____________________________。
（3）E的结构简式为_____________；H的顺式结构简式为_______________。
（4）写出同时满足下列条件的G的同分异构体结构简式_________________。
①属于芳香族化合物；②能与NaOH溶液发生反应；③核磁共振氢谱有4种吸收峰
（5）参照上述合成路线和相关信息，以乙烯和乙醛为原料(无机试剂任选)合成有机物
,设计合成路线为：________________________。
高二化学推断题困难题
聚乙烯醇肉桂酸酯(M)可用作光刻工艺中的抗腐蚀涂层，其合成路线如图：
已知：R1—CHO＋R2—CH2CHO
。
请回答：
（1）C的化学名称为__；M中含氧官能团的名称为__。
（2）F→G的反应类型为__。
（3）C→D的化学反应方程式为___。
（4）E能与新制的Cu(OH)2反应，该反应的化学方程式是__。
（5）关于H的性质下列说法正确的是__（填字母）。
a.存在顺反异构
b.溶液呈酸性，能与Na和NaOH溶液反应
c.能使KMnO4（H+）溶液和Br2（CCl4）溶液褪色
d.能发生银镜反应、酯化反应、加成反应和消去反应
（6）符合下列条件的F的同分异构体有__种。
①属于芳香族化合物 ②能与NaHCO3反应放出CO2
其中核磁共振氢谱有4种吸收峰的物质的结构简式为__(任写一种)。
高二化学推断题中等难度题查看答案及解析
聚乙烯醇肉桂酸酯(M)可用作光刻工艺中的抗腐蚀涂层，其合成路线如下：
已知：①R1、R2均为烃基
② 合成路线中A→B是原子利用率为100%的反应
回答下列问题：
（1）A的名称是_______________；F→G的反应类型为_____________。
（2）C→D的化学反应方程式为_____________________________。
（3）E的结构简式为_____________；H的顺式结构简式为_______________。
（4）写出同时满足下列条件的G的同分异构体结构简式_________________。
①属于芳香族化合物；②能与NaOH溶液发生反应；③核磁共振氢谱有4种吸收峰
（5）参照上述合成路线和相关信息，以乙烯和乙醛为原料(无机试剂任选)合成有机物,设计合成路线为：________________________。
高二化学推断题困难题查看答案及解析
聚乙烯醇肉桂酸酯（M）可用作光刻工艺中的抗腐蚀涂层，其合成路线如下：
请回答：
（1）A转化成B的反应类型为 ___ _。
（2）C的化学名称为_ __
（3）C转化成D的化学反应方程式为 ___ _。
（4）M中含氧官能团的名称为__ __。
（5）E的结构简式为___ 
_
（6）H的顺式结构简式为___ _。
高二化学推断题极难题查看答案及解析
聚乙烯醇肉桂酸酯(A)可用于光刻工艺中做抗腐蚀涂层．下面是一种合成该有机物的路线：
已知： RCHO+R′CH2COOH
请回答：
（1）CH3COOH的电离方程式是 。
（2）反应①的反应类型是__________ ，B中所含官能团的名称为 。
（3）反应②的化学方程式是 。
（4）E的分子式为C7H8O，符合下列条件的E的同分异构体的结构简式是 。
① 能与浓溴水反应产生白色沉淀 ② 核磁共振氢谱有4种峰
（5）F的化学名称是________________，并写出它与银氨溶液反应的离子方程式 。
（6）A的结构简式是 。
高二化学推断题困难题查看答案及解析
聚乙烯醇肉桂酸酯（A）可用于光刻工艺中做抗腐蚀涂层．下面是一种合成该有机物的路线：
已知：RCHO+R′CH2COOH
请回答：
（1）CH3COOH的电离方程式是__________；
（2）反应①的类型是__________，B中所含官能团的名称是__________；
（3）反应②的化学方程式是__________；
（4）E的分子式为C7H8O，符合下列条件的E的同分异构体的结构简式是__________
①能与浓溴水反应产生白色沉淀
②核磁共振氢谱有4种峰
（5）F的化学名称是__________，并写出它与银氨溶液反应的离子方程式__________；
（6）A的结构简式是__________。
高二化学实验题简单题查看答案及解析
聚乙烯醇肉桂酸酯G可用于光刻工艺中作抗腐蚀涂层。下面是一种合成该有机物的路线（部分反应条件及产物已省略）：
已知以下信息：
I．
；
Ⅱ.D能使酸性KMnO4溶液褪色；
Ⅲ．同温同压下，实验测定B气体的密度与气态己烷的密度相同，B中含有一个酯基和一个甲基。
请回答下列问题：
(I)A的化学名称是_________。
(2)由C生成D的过程中可能生成多种副产物，其中与D互为同分异构体的有机物的结构简式为______。
(3)B的分子式为__________。
(4)由D和F生成G的化学方程式为_____________。
(5)满足下列条件的C的同分异构体有________种（不考虑立体异构）。
①该有机物是一种二元弱酸，并能使FeC13溶液显色；
②苯环上有三个取代基，并能发生银镜反应。
(6)由D经如下步骤可合成K：
①H中官能团的名称为 _______________。
②I的结构简式为__________________。
高二化学综合题困难题查看答案及解析
常用作风信子等香精的定香剂D以及可用作安全玻璃夹层的高分子化合物PVB的合成路线如下：
已知：Ⅰ.RCHO＋R′CH2CHO
Ⅱ.醛与二元醇(如：乙二醇)可生成环状缩醛：
(1)A的核磁共振氢谱有两种峰。A的名称是_______________________。
(2)A与
合成B的化学方程式是____________________。
(3)C为反式结构，由B还原得到。C的结构式是____________。
(4)E能使Br2的CCl4溶液褪色。N由A经反应①～③合成。
a．①的反应试剂和条件是________。
b．②的反应类型是________。
c．③的化学方程式是_____________________________________。
(5)PVAc由一种单体经加聚反应得到，该单体的结构简式是________。
(6)碱性条件下，PVAc完全水解的化学方程式是___________________。
高二化学填空题极难题查看答案及解析
化合物H是一种邮寄材料中间体。实验室由芳香烃A制备H的一种合成路线如下：
已知：①
RCHO+R´CHO
②RCHO+R´CH2CHO
+H2O
③
请回答下列问题：
（1）芳香化合物B的名称为_________，C的同系物中相对分子质量最小的结构简式为__________。
（2）由E生成F的反应类型为_________。
（3）X的结构简式为_________。
（4）写出D生成E的第①步反应的化学方程式_______________。
（5）G与乙醇发生酯化反应生成化合物Y，Y有多种同分异构体，其中符合下列条件的同分异构体有____种，写出其中任意一种的结构简式________。
①分子中含有苯环，且能与饱和碳酸氢钠溶液反应放出CO2；
②其核磁共振氢谱显示有4种不同化学键环境的氢，且峰面积之比为6：2：1：1。
（6）写出用
为原料制备化合物
的合成路线，其他无机试剂任选。________
高二化学推断题困难题查看答案及解析
以有机物A为原料合成重要精细化工中间体TMBA（
）和抗癫痫药物H（
）的路线如图（部分反应略去条件和试剂）：
已知：I．RONa+R′X→ROR′+NaX；
II．RCHO+ R′CH2CHO 
+H2O（R、R′表示烃基或氢）
（1）A的名称是 ；
C能发生银镜反应，则C分子中含氧官能团的名称 ．
（2）①和②的反应类型分别是 、 ．
（3）E的结构简式是 ，试剂a的分子式是 ．
（4）C→D的化学方程式是 ．
（5）D的同分异构体有多种，其中属于芳香族酯类化合物的共有 种．
（6）F与新制Cu（OH）2悬浊液发生反应的化学方程式是 ．
（7）已知酰胺键（
）有类似酯基水解的性质，写出抗癫痫病药物H与足量NaOH溶液发生反应的化学方程式 。
高二化学实验题简单题查看答案及解析
肉桂酸异戊酯G(
)是一种香料,一种合成路线如下:
已知以下信息:
①RCHO+R'CH2CHO
;
②C为甲醛的同系物,相同条件下其蒸气与氢气的密度比为22。
回答下列问题:
（1）A的化学名称为 。
（2）B和C反应生成D的化学方程式为 。
（3）F中含有官能团的名称为 。
（4）E和F反应生成G的化学方程式为 ,反应类型为 。
（5）F的同分异构体中不能与金属钠反应生成氢气的共有 种(不考虑立体异构),其中核磁共振氢谱只有两组峰,且峰面积比为3∶1的为 (写结构简式)。
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