聚乙烯醇肉桂酸酯（M）可用作光刻工艺中的抗腐蚀涂层，其合成路线如下：
请回答：
（1）A转化成B的反应类型为 ___ _。
（2）C的化学名称为_ __
（3）C转化成D的化学反应方程式为 ___ _。
（4）M中含氧官能团的名称为__ __。
（5）E的结构简式为___ 
_
（6）H的顺式结构简式为___ _。
高二化学推断题极难题
聚乙烯醇肉桂酸酯（M）可用作光刻工艺中的抗腐蚀涂层，其合成路线如下：
请回答：
（1）A转化成B的反应类型为 ___ _。
（2）C的化学名称为_ __
（3）C转化成D的化学反应方程式为 ___ _。
（4）M中含氧官能团的名称为__ __。
（5）E的结构简式为___ _
（6）H的顺式结构简式为___ _。
高二化学推断题极难题
聚乙烯醇肉桂酸酯（M）可用作光刻工艺中的抗腐蚀涂层，其合成路线如下：
请回答：
（1）A转化成B的反应类型为 ___ _。
（2）C的化学名称为_ __
（3）C转化成D的化学反应方程式为 ___ _。
（4）M中含氧官能团的名称为__ __。
（5）E的结构简式为___ _
（6）H的顺式结构简式为___ _。
高二化学推断题极难题查看答案及解析
聚乙烯醇肉桂酸酯(M)可用作光刻工艺中的抗腐蚀涂层，其合成路线如图：
已知：R1—CHO＋R2—CH2CHO
。
请回答：
（1）C的化学名称为__；M中含氧官能团的名称为__。
（2）F→G的反应类型为__。
（3）C→D的化学反应方程式为___。
（4）E能与新制的Cu(OH)2反应，该反应的化学方程式是__。
（5）关于H的性质下列说法正确的是__（填字母）。
a.存在顺反异构
b.溶液呈酸性，能与Na和NaOH溶液反应
c.能使KMnO4（H+）溶液和Br2（CCl4）溶液褪色
d.能发生银镜反应、酯化反应、加成反应和消去反应
（6）符合下列条件的F的同分异构体有__种。
①属于芳香族化合物 ②能与NaHCO3反应放出CO2
其中核磁共振氢谱有4种吸收峰的物质的结构简式为__(任写一种)。
高二化学推断题中等难度题查看答案及解析
聚乙烯醇肉桂酸酯(M)可用作光刻工艺中的抗腐蚀涂层，其合成路线如下：
已知：①R1、R2均为烃基
② 合成路线中A→B是原子利用率为100%的反应
回答下列问题：
（1）A的名称是_______________；F→G的反应类型为_____________。
（2）C→D的化学反应方程式为_____________________________。
（3）E的结构简式为_____________；H的顺式结构简式为_______________。
（4）写出同时满足下列条件的G的同分异构体结构简式_________________。
①属于芳香族化合物；②能与NaOH溶液发生反应；③核磁共振氢谱有4种吸收峰
（5）参照上述合成路线和相关信息，以乙烯和乙醛为原料(无机试剂任选)合成有机物
,设计合成路线为：________________________。
高二化学推断题困难题查看答案及解析
聚乙烯醇肉桂酸酯(A)可用于光刻工艺中做抗腐蚀涂层．下面是一种合成该有机物的路线：
已知： RCHO+R′CH2COOH
请回答：
（1）CH3COOH的电离方程式是 。
（2）反应①的反应类型是__________ ，B中所含官能团的名称为 。
（3）反应②的化学方程式是 。
（4）E的分子式为C7H8O，符合下列条件的E的同分异构体的结构简式是 。
① 能与浓溴水反应产生白色沉淀 ② 核磁共振氢谱有4种峰
（5）F的化学名称是________________，并写出它与银氨溶液反应的离子方程式 。
（6）A的结构简式是 。
高二化学推断题困难题查看答案及解析
聚乙烯醇肉桂酸酯（A）可用于光刻工艺中做抗腐蚀涂层．下面是一种合成该有机物的路线：
已知：RCHO+R′CH2COOH
请回答：
（1）CH3COOH的电离方程式是__________；
（2）反应①的类型是__________，B中所含官能团的名称是__________；
（3）反应②的化学方程式是__________；
（4）E的分子式为C7H8O，符合下列条件的E的同分异构体的结构简式是__________
①能与浓溴水反应产生白色沉淀
②核磁共振氢谱有4种峰
（5）F的化学名称是__________，并写出它与银氨溶液反应的离子方程式__________；
（6）A的结构简式是__________。
高二化学实验题简单题查看答案及解析
聚乙烯醇肉桂酸酯G可用于光刻工艺中作抗腐蚀涂层。下面是一种合成该有机物的路线（部分反应条件及产物已省略）：
已知以下信息：
I．
；
Ⅱ.D能使酸性KMnO4溶液褪色；
Ⅲ．同温同压下，实验测定B气体的密度与气态己烷的密度相同，B中含有一个酯基和一个甲基。
请回答下列问题：
(I)A的化学名称是_________。
(2)由C生成D的过程中可能生成多种副产物，其中与D互为同分异构体的有机物的结构简式为______。
(3)B的分子式为__________。
(4)由D和F生成G的化学方程式为_____________。
(5)满足下列条件的C的同分异构体有________种（不考虑立体异构）。
①该有机物是一种二元弱酸，并能使FeC13溶液显色；
②苯环上有三个取代基，并能发生银镜反应。
(6)由D经如下步骤可合成K：
①H中官能团的名称为 _______________。
②I的结构简式为__________________。
高二化学综合题困难题查看答案及解析
已知：
肉桂酸(C6H5CH=CHCOOH)是一种常用的香料，可从桂皮中提取，还可用甲苯、氯气等为原料按如下路线合成：
请回答下列问题
（1）反应②的反应条件为_______________________。
（2）在反应①～⑤中，属于取代反应的有__________________（填序号）。
（3）反应③的化学方程式为________________________。
（4）有机物C的结构简式为________________________。
（5）同时满足下列条件的化合物D的同分异构体共有__________种。
I．苯环上有两个处于对位的取代基，且其中有一个是甲基；II．属于酯类。
（6）请写出以溴乙烷为原料制备CH3CH=CHCHO的合成路线流程图（无机试剂任用）。合成路线流程图示例如下：
高二化学推断题困难题查看答案及解析
合成光刻胶的一种路线如下：
Ⅲ．RCOOH+CH
CH RCOOCH=CH2
回答下列问题
（1）光刻胶中所含官能团的名称是______。
（2）D+G→光刻胶的化学方程式为______，该反应的反应类型是______。
（3）H是C的同分异构体，H具有下列性质或特征：①能发生水解反应和银镜反应；②能使溴水褪色；③属于芳香族化合物。则H的结构有______种。其中核磁共振氢谱为5组峰，且峰面积比为1∶1∶2∶2∶2的结构简式为______。
（4）根据已有知识并结合相关信息，写出以CH3CH2OH为原料制备CH3CH2CH2COOC2H5的合成路线流程图(无机试剂任选)。
（合成路线流程图示例如下：
）
______
高二化学推断题困难题查看答案及解析
合成光刻胶的一种路线如下：
Ⅲ．RCOOH+CHCH RCOOCH=CH2
回答下列问题
（1）光刻胶中所含官能团的名称是______。
（2）D+G→光刻胶的化学方程式为______，该反应的反应类型是______。
（3）H是C的同分异构体，H具有下列性质或特征：①能发生水解反应和银镜反应；②能使溴水褪色；③属于芳香族化合物。则H的结构有______种。其中核磁共振氢谱为5组峰，且峰面积比为1∶1∶2∶2∶2的结构简式为______。
（4）根据已有知识并结合相关信息，写出以CH3CH2OH为原料制备CH3CH2CH2COOC2H5的合成路线流程图(无机试剂任选)。
（合成路线流程图示例如下：
）
______
高二化学推断题困难题查看答案及解析
EPR橡胶(聚乙丙烯)和工程材料聚碳酸酯(简称PC)的一种合成路线如下：
已知：酯与含羟基的化合物可发生如下酯交换反应：RCOOR’+R”OH
RCOOR”+R’OH
请回答：
(1)D中所含的官能团是_______。
(2)EPR橡胶的结构简式_______。
(3)下列说法正确的是_______(填字母)。
a.反应③的原子利用率为100%
b.反应④为取代反应
c.1mol F与足量金属Na反应，最多可生成22.4L H2(标准状况下)
(4)反应②的化学方程式是_______。
(5)反应②生成E时会产生多种副产物，其中有一种分子式为C9H12O2的副产物M，其结构简式为_______。
(6)反应⑤的化学方程式是_______。
(7)已知：
(R1、R2、R3代表烃基)写出以D为原料合成己二酸[HOOC(CH2)4COOH]的合成路线，无机试剂任选，用结构简式表示有机物，用箭头表示转化关系，箭头上注明试剂和反应条件_______________________。
示例：CH3CH2OH
CH2=CH2
高二化学推断题中等难度题查看答案及解析