聚乙烯醇肉桂酸酯G可用于光刻工艺中作抗腐蚀涂层。下面是一种合成该有机物的路线(部分反应条件及产物已省略):
已知以下信息:
I.;
Ⅱ.D能使酸性KMnO4溶液褪色;
Ⅲ.同温同压下,实验测定B气体的密度与气态己烷的密度相同,B中含有一个酯基和一个甲基。
请回答下列问题:
(I)A的化学名称是_________。
(2)由C生成D的过程中可能生成多种副产物,其中与D互为同分异构体的有机物的结构简式为______。
(3)B的分子式为__________。
(4)由D和F生成G的化学方程式为_____________。
(5)满足下列条件的C的同分异构体有________种(不考虑立体异构)。
①该有机物是一种二元弱酸,并能使FeC13溶液显色;
②苯环上有三个取代基,并能发生银镜反应。
(6)由D经如下步骤可合成K:
①H中官能团的名称为 _______________。
②I的结构简式为__________________。
高二化学综合题困难题
聚乙烯醇肉桂酸酯G可用于光刻工艺中作抗腐蚀涂层。下面是一种合成该有机物的路线(部分反应条件及产物已省略):
已知以下信息:
I.;
Ⅱ.D能使酸性KMnO4溶液褪色;
Ⅲ.同温同压下,实验测定B气体的密度与气态己烷的密度相同,B中含有一个酯基和一个甲基。
请回答下列问题:
(I)A的化学名称是_________。
(2)由C生成D的过程中可能生成多种副产物,其中与D互为同分异构体的有机物的结构简式为______。
(3)B的分子式为__________。
(4)由D和F生成G的化学方程式为_____________。
(5)满足下列条件的C的同分异构体有________种(不考虑立体异构)。
①该有机物是一种二元弱酸,并能使FeC13溶液显色;
②苯环上有三个取代基,并能发生银镜反应。
(6)由D经如下步骤可合成K:
①H中官能团的名称为 _______________。
②I的结构简式为__________________。
高二化学综合题困难题查看答案及解析
聚乙烯醇肉桂酸酯(A)可用于光刻工艺中做抗腐蚀涂层.下面是一种合成该有机物的路线:
已知: RCHO+R′CH2COOH
请回答:
(1)CH3COOH的电离方程式是 。
(2)反应①的反应类型是__________ ,B中所含官能团的名称为 。
(3)反应②的化学方程式是 。
(4)E的分子式为C7H8O,符合下列条件的E的同分异构体的结构简式是 。
① 能与浓溴水反应产生白色沉淀 ② 核磁共振氢谱有4种峰
(5)F的化学名称是________________,并写出它与银氨溶液反应的离子方程式 。
(6)A的结构简式是 。
高二化学推断题困难题查看答案及解析
聚乙烯醇肉桂酸酯(A)可用于光刻工艺中做抗腐蚀涂层.下面是一种合成该有机物的路线:
已知:RCHO+R′CH2COOH
请回答:
(1)CH3COOH的电离方程式是__________;
(2)反应①的类型是__________,B中所含官能团的名称是__________;
(3)反应②的化学方程式是__________;
(4)E的分子式为C7H8O,符合下列条件的E的同分异构体的结构简式是__________
①能与浓溴水反应产生白色沉淀
②核磁共振氢谱有4种峰
(5)F的化学名称是__________,并写出它与银氨溶液反应的离子方程式__________;
(6)A的结构简式是__________。
高二化学实验题简单题查看答案及解析
聚乙烯醇肉桂酸酯(M)可用作光刻工艺中的抗腐蚀涂层,其合成路线如下:
已知:①R1、R2均为烃基
② 合成路线中A→B是原子利用率为100%的反应
回答下列问题:
(1)A的名称是_______________;F→G的反应类型为_____________。
(2)C→D的化学反应方程式为_____________________________。
(3)E的结构简式为_____________;H的顺式结构简式为_______________。
(4)写出同时满足下列条件的G的同分异构体结构简式_________________。
①属于芳香族化合物;②能与NaOH溶液发生反应;③核磁共振氢谱有4种吸收峰
(5)参照上述合成路线和相关信息,以乙烯和乙醛为原料(无机试剂任选)合成有机物,设计合成路线为:________________________。
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聚乙烯醇肉桂酸酯(M)可用作光刻工艺中的抗腐蚀涂层,其合成路线如图:
已知:R1—CHO+R2—CH2CHO。
请回答:
(1)C的化学名称为__;M中含氧官能团的名称为__。
(2)F→G的反应类型为__。
(3)C→D的化学反应方程式为___。
(4)E能与新制的Cu(OH)2反应,该反应的化学方程式是__。
(5)关于H的性质下列说法正确的是__(填字母)。
a.存在顺反异构
b.溶液呈酸性,能与Na和NaOH溶液反应
c.能使KMnO4(H+)溶液和Br2(CCl4)溶液褪色
d.能发生银镜反应、酯化反应、加成反应和消去反应
(6)符合下列条件的F的同分异构体有__种。
①属于芳香族化合物 ②能与NaHCO3反应放出CO2
其中核磁共振氢谱有4种吸收峰的物质的结构简式为__(任写一种)。
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聚乙烯醇肉桂酸酯(M)可用作光刻工艺中的抗腐蚀涂层,其合成路线如下:
请回答:
(1)A转化成B的反应类型为 ___ _。
(2)C的化学名称为_ __
(3)C转化成D的化学反应方程式为 ___ _。
(4)M中含氧官能团的名称为__ __。
(5)E的结构简式为___ _
(6)H的顺式结构简式为___ _。
高二化学推断题极难题查看答案及解析
化合物H是重要的有机物,可由E和F在一定条件下合成:(部分反应物或产物省略,另请注意箭头的指向方向)
已知以下信息:
i.A属于芳香烃,H属于酯类化合物。
ii.I的核磁共振氢谱为二组峰,且峰的面积比为6:1。
回答下列问题:
(1)E的含氧官能团名称________,B的结构简式_____________。
(2)G → J的反应类型________________。
(3)① E + F → H的化学方程式___________________。
② I → G 的化学方程式_____________________________。
(4)H的同系物K比H相对分子质量小28,K有多种同分异构体。
①K的一种同分异构体能发生银镜反应,也能使FeCl3溶液显紫色,苯环上有两个支链,苯环上的氢的核磁共振氢谱为二组峰,且峰面积比为1:1,写出K的这种同分异构体的结构简式_________________。
②若K的同分异构体既属于芳香族化合物,又能和饱和NaHCO3溶液反应放出CO2。则满足该条件的同分异构体共有__________种(不考虑立体异构)。
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(实验)化合物H是重要的有机物,可由E和F在一定条件下合成:(部分反应物或产物省略,另请注意箭头的指向方向)
已知以下信息:
i.A属于芳香烃,H属于酯类化合物。
ii.I的核磁共振氢谱为二组峰,且峰的面积比为6:1。
回答下列问题:
(1)E的含氧官能团名称 ,B的结构简式 。
(2)B → C和G → J两步的反应类型 , 。
(3)① E + F → H的化学方程式 。
② I → G 的化学方程式 。
(4)H的同系物K比H相对分子质量小28,K有多种同分异构体。
①K的一种同分异构体能发生银镜反应,也能使FeCl3溶液显紫色,苯环上有两个支链,苯环上的氢的核磁共振氢谱为二组峰,且峰面积比为1:1,写出K的这种同分异构体的结构简式 。
②若K的同分异构体既属于芳香族化合物,又能和饱和NaHCO3溶液反应放出CO2。则满足该条件的同分异构体共有__________种(不考虑立体异构)。
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(普通)化合物H是重要的有机物,可由E和F在一定条件下合成:(部分反应物或产物省略,另请注意箭头的指向方向)
已知以下信息:
i.A属于芳香烃,H属于酯类化合物。
ii.I的核磁共振氢谱为二组峰,且峰的面积比为6:1。
回答下列问题:
(1)E的含氧官能团名称 ,B的结构简式 。
(2)B → C和G → J两步的反应类型 , 。
(3)① E + F → H的化学方程式 。
② I → G 的化学方程式 。
(4)I的同系物K比I相对分子质量大28,K有多种同分异构体。
①K的同分异构体共 种。
②若K不能发生消去反应,则K的结构简式为_________ _。
高二化学推断题简单题查看答案及解析
化合物H是重要的有机物,可由E和F在一定条件下合成(部分反应物或产物省略,另请注意箭头的指向方向):
已知以下信息:
i.A属于芳香烃,H属于酯类化合物
ii.I的核磁共振氢谱为二组峰,且峰的面积比为6:1
回答下列问题:
(1) D的含氧官能团名称_________,B的结构简式_________
(2) BC和GJ两步的反应类型________、_________
(3)E+FH的化学方程式______________
(4)IG 的化学方程式_______________
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