下图是以C7H8为原料合成某聚酰胺类物质(C7H5NO)n的流程图.
回答下列问题:
(1)聚酰胺类物质所具有的结构特征是________.(用结构简式表示)
(2)反应①通常应控制的温度为30℃左右,在实际生产过程中应给反应体系加热还是降温?为什么?____________________________________________________.若该反应在100℃条件下进行,则其化学反应方程式为_________________________________.
(3)反应②和反应③从氧化还原反应的角度看是________基团被氧化为________基团,________基团被还原为________基团.从反应的顺序看,应先发生氧化反应还是还原反应?为什么?_______________________________________________________________
_______________________.
高三化学填空题中等难度题
[选修五——基础有机化学](15分)
下图是以C7H8为原料合成某聚酰胺类物质(C7H5NO)n的流程图.
已知:Ⅰ.当苯环上已经有了一个取代基时,新引进的取代基因受原取代基的影响而取代其邻、对、间位的氢原子,使新取代基进入它的邻、对位的取代基有-CH3、-NH2等.使新取代基进入它的间位的取代基有-COOH、-NO2等.
Ⅱ.R-CH=CH-R′R-CHO+R′-CHO;
Ⅲ.氨基(-NH2)易被氧化;硝基(-NO2)可被Fe和盐酸还原成氨基(-NH2).
回答下列问题:
(1)X、Y各是下列选项中的某一项,其中X是________.(填序号)
A.Fe和盐酸 B.酸性KMnO4溶液 C.NaOH溶液
(2)已知B和F互为同分异构体,写出物质F的结构简式:______________________________.
(3)分别写出D、E中的含氧官能团的名称__________________;______________________.
(4)对物质C的下列说法中,正确的是________(填写序号).
A.能发生酯化反应
B.能与溴水发生加成反应
C.只能和碱反应,不能和酸反应
(5)写出反应③、⑦的化学方程式,并注明反应类型
________________________________________________________;__________________.
________________________________________________________;__________________.
高三化学填空题极难题查看答案及解析
下图是以C7H8为原料合成某聚酰胺类物质(C7H5NO)n的流程图。
已知:①当苯环上已经有了一个取代基时,新引进的取代基因受原取代基的影响而取代其邻、对位或间位的氢原子.使新取代基进入它的邻、对位的取代基有-CH3、-NH2等;使新取代基进入它的间位的取代基有-COOH、-NO2等;
②R-CH =CH-R′R-CHO+R′-CHO;
(III)氨基(-NH2)易被氧化,硝基(-NO2)可被Fe和盐酸还原成氨基(-NH2)。
回答下列问题:
(1)X、Y各是下列选项中的某一物质,其中X是____________(填写序号)。
A.Fe和盐酸 B.KMnO4酸性溶液 C.NaOH溶液
(2)C的结构简式是____________。
(3)已知B和F互为同分异构体,写出物质F的结构简式_______________。
(4)对物质C的下列说法中,正确的是_________(填写序号)。
A.能发生酯化反应
B.能与溴水发生加成反应
C.只能和碱反应不能和酸反应
(5)写出反应④⑦⑧的化学方程式,并注明反应类型:
反应④_________________________________________、
反应⑦_________________________________________、
反应⑧_________________________________________。
高三化学推断题困难题查看答案及解析
如图是以C7H8为原料合成某聚酰胺类物质(C7H5NO)n的流程图。
已知:Ⅰ.当苯环上已经有了一个取代基时,新引进的取代基因受原取代基的影响而取代其邻、对或间位的氢原子。使新取代基进入它的邻、对位的取代基有—CH3、—NH2等;使新取代基进入它的间位的取代基有—COOH、—NO2等;
Ⅱ.RCHCHR′ RCHO+R′—CHO;
Ⅲ.氨基(—NH2)易被氧化;硝基(—NO2)可被Fe和盐酸还原成氨基(—NH2)。
回答下列问题:
(1)X、Y各是下列选项中的某一项,其中X为________(填序号)。
A.Fe和盐酸 B.酸性KMnO4溶液
C.NaOH溶液
(2)已知B和F互为同分异构体,写出物质F的结构简式__________________。
(3)分别写出D、E中的含氧官能团的名称________、________。
(4)对物质C的下列说法中,正确的是________(填序号)。
A.能发生酯化反应 B.能与溴水发生加成反应
C.只能和碱反应,不能和酸反应
(5)写出反应⑦的化学方程式,并注明反应类型。
________________________________________________。
高三化学填空题极难题查看答案及解析
苯乙烯是一种重要的化工合成原料。现由苯乙烯合成聚三溴代苯乙烯和另外一种高聚物M的工艺如下:
已知:苯环上的取代反应有如下定位规律:当苯环上已经有了一个取代基时,新引进的取代基因受原取代基的影响而取代其邻、对位或间位的氢原子。使新取代基进入它的邻、对位的取代基有—R(烷基)、—NH2等;使新取代基进入间位的取代基有—COOH、—NO2等;
(1)D是高分子化合物,写出D的结构简式______________。
(2)①②③④⑤反应中属于取代反应的是________ ;
反应⑧的类型为________ 。
(3)设计反应①、③的目的是_______
(4)写出下列反应的化学方程式
反应③:________
反应⑦:________
(5)G有多种同分异构体,写出任意一个符合下列条件的同分异构体的结构简式________ 。
①能发生银镜反应; ②能与FeCl3溶液发生显色反应;
③核磁共振谱氢图中出现6组吸收峰。
高三化学填空题中等难度题查看答案及解析
下图是以C7H8为原料合成某聚酰胺类物质(C7H5NO)n的流程图.
回答下列问题:
(1)聚酰胺类物质所具有的结构特征是________.(用结构简式表示)
(2)反应①通常应控制的温度为30℃左右,在实际生产过程中应给反应体系加热还是降温?为什么?____________________________________________________.若该反应在100℃条件下进行,则其化学反应方程式为_________________________________.
(3)反应②和反应③从氧化还原反应的角度看是________基团被氧化为________基团,________基团被还原为________基团.从反应的顺序看,应先发生氧化反应还是还原反应?为什么?_______________________________________________________________
_______________________.
高三化学填空题中等难度题查看答案及解析
已知:(Ⅰ)当苯环上已经有了一个取代基时,新引进的取代基因受原取代基的影响而取代其邻、对位或间位的氢原子。使新取代基进入它的邻、对位的取代基有—CH3、—NH2等;使新取代基进入它的间位的取代基有—COOH、—NO2等;
(Ⅱ)R—CH=CH—R′R—CHO+R′—CHO
(Ⅲ)氨基(—NH2)易被氧化;硝基(—NO2)可被Fe和盐酸还原成氨基(—NH2)
下图是以C7H8为原料合成某聚酰胺类物质(C7H5NO)n的流程图。
回答下列问题:
(1)写出反应类型。反应①________,反应④________。
(2)X、Y是下列试剂中的一种,其中X是____,Y是_____。(填序号)
a.Fe和盐酸 b.酸性KMnO4溶液 c.NaOH溶液
(3)已知B和F互为同分异构体,写出F的结构简式_____。A~E中互为同分异构体的还有____和____。(填结构简式)
(4)反应①在温度较高时,还可能发生的化学方程式________。
(5)写出C与盐酸反应的化学方程式________。
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已知:(Ⅰ)当苯环上已经有了一个取代基时,新引进的取代基因受原取代基的影响而取代其邻、对位或间位的氢原子。使新取代基进入它的邻、对位的取代基有—CH3、—NH2等;使新取代基进入它的间位的取代基有—COOH、—NO2等;
(Ⅱ)R—CH=CH—R′R—CHO+R′—CHO
(Ⅲ)氨基(—NH2)易被氧化;硝基(—NO2)可被Fe和盐酸还原成氨基(—NH2)
下图是以C7H8为原料合成某聚酰胺类物质(C7H5NO)n的流程图。
回答下列问题:
40.写出反应类型。反应① ,反应④ 。
41.X、Y是下列试剂中的一种,其中X是 ,Y是 。(填序号)
a.Fe和盐酸 b.酸性KMnO4溶液 c.NaOH溶液
42.已知B和F互为同分异构体,写出F的结构简式 。A~E中互为同分异构体的还有 和 。(填结构简式)
43.反应①在温度较高时,还可能发生的化学方程式 。
44.写出C与盐酸反应的化学方程式 。
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某芳香烃A是有机合成中重要的原料,通过质谱法测得其相对分子质量为118,其核磁共振氢谱有5组峰,峰面积之比为1:2:2:2:3,其苯环上只有一个取代基。以下是以A为原料合成高聚物F和高聚物I的路线图。试回答下列问题:
(1)D所含官能团名称: ;反应②的反应类型: 。
(2)A的结构简式为: ;E在一定条件下能形成3个六元环的物质,该物质的结构简式为: 。
(3)G分子中最多有 个原子共平面。
(4)I的结构简式为: 。
(5)写出反应⑤的化学方程式: 。
(6)J是E的同分异构体,同时具有以下特征的J的结构有 种。
①能发生银镜反应和水解反应;②遇氯化铁溶液发生显色反应;③含氧官能团处于苯环对位。其中核磁共振氢谱只有4组峰的结构简式为(写一种即可) 。
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有机物H是药物常山酮的合成中间体,合成H的流程图如下:
已知:① 苯环上原有取代基对新导入苯环上的取代基位置有一定影响,其规律如下:
-OH、-CH3、-Br等取代基使新导入的取代基主要进入原取代基邻位和对位;
-NO2、-SO3H、-CHO等取代基使新导入的取代基主要进入原取代基间位。
②(-NH2易被氧化)
③ 甲苯可被酸性高锰酸钾氧化为苯甲酸
回答下列问题:
(1)D中的官能团名称为_________。
(2)E→F的反应类型为__________。
(3)B→C的化学反应方程式为___________。
(4)G在一定条件下能发生缩聚反应,该反应方程式为__________。
(5)W与B是同系物,W与B的最大质荷比相差14,同时满足下列条件的W的同分异构体有_______种。
① 能与NaOH溶液反应 ② 苯环上有两个取代基 ③ 遇氯化铁溶液不显色
其中核磁共振氢谱显示为4组峰,且峰面积比为1:2:2:2的所有物质的结构简式是______。
(6)写出以甲苯为原料合成的流程图(无机试剂任用)_______
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(13分)【化学——有机化学基础】
A是衡量石油化工发展水平的标志物质,F的化学式为C7H8O,K是一种常用的药用有机物,合成路线如图所示:
①有机物F和I都能与FeCl3发生显色反应,且苯环上的取代基处于邻位;
②有机物K只含碳、氢、氧三种元素且式量小于200,氧元素的质量分数为35.6%。请回答:
(1)写出A、F的结构简式:A________,F________。
(2)反应①~⑧中,属于加成反应的有________(填序号),反应⑤作用________。
(3)写出两种I的同分异构体(要求互不同类)________,________。
(4)写出反应⑧的化学方程式________。
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