（17分）聚乙烯醇肉桂酸酯（A）可用于光刻工艺中做抗腐蚀涂层。下面是一种合成该有机物的路线：
已知：
请回答：
（1）反应①是加聚反应，B的结构简式是 。B中的官能团的名称为
（2）反应②的反应方程式是 ；反应类型是 。
（3）E的分子式为C7H8O，E的名称是 ，其中符合下列条件的E的同分异构体的结构简式是 。
① 能与浓溴水反应产生白色沉淀 ②核磁共振氢谱有4种峰
（4）
能发生银镜反应，该反应的化学方程式是 。
（5）A的结构简式是 ，关于A的性质下列说法正确的是 （填字母）。
a．存在顺反异构
b．是通过加聚反应生成
c．能使KMnO4（H+）溶液和Br2（CCl4）溶液褪色
d．能发生取代反应、氧化反应、还原反应、加成反应
高三化学推断题中等难度题
（17分）聚乙烯醇肉桂酸酯（A）可用于光刻工艺中做抗腐蚀涂层。下面是一种合成该有机物的路线：
已知：
请回答：
（1）反应①是加聚反应，B的结构简式是 。B中的官能团的名称为
（2）反应②的反应方程式是 ；反应类型是 。
（3）E的分子式为C7H8O，E的名称是 ，其中符合下列条件的E的同分异构体的结构简式是 。
① 能与浓溴水反应产生白色沉淀 ②核磁共振氢谱有4种峰
（4）能发生银镜反应，该反应的化学方程式是 。
（5）A的结构简式是 ，关于A的性质下列说法正确的是 （填字母）。
a．存在顺反异构
b．是通过加聚反应生成
c．能使KMnO4（H+）溶液和Br2（CCl4）溶液褪色
d．能发生取代反应、氧化反应、还原反应、加成反应
高三化学推断题中等难度题查看答案及解析
聚乙烯醇肉桂酸酯（A）可用于光刻工艺中做抗腐蚀涂层。下面是一种合成该有机物的路线：
已知：
请回答：
（1）CH3COOH中的含氧官能团的名称为 ；其电离方程式是______。
（2）反应①是加聚反应，B的结构简式是 。
（3）反应②的反应类型是 。
（4）E的分子式为C7H8O，符合下列条件的E的同分异构体的结构简式是 。
① 能与浓溴水反应产生白色沉淀 ②核磁共振氢谱有4种峰
（5） 
能与新制的Cu(OH)2反应，该反应的化学方程式是 。
（6）关于D的性质下列说法正确的是 （填字母）。
a．存在顺反异构
b．溶液呈酸性，能与Na和NaOH溶液反应
c．能使KMnO4（H+）溶液和Br2（CCl4）溶液褪色
d．能发生银镜反应、酯化反应、加成反应和消去反应
（7）反应③的化学方程式是 。
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（19分）聚乙烯醇肉桂酸酯（A）可用于光刻工艺中做抗腐蚀涂层。下面是一种合成该有机物的路线：
请回答：
（1）反应①是加聚反应，B的结构简式是 ，B中官能团的名称为 。
（2）反应②的反应方程式是 ；反应类型是 。
（3）E的分子式为C7H8O，E的名称是 ，其中符合下列条件的E的同分异构体的结构简式是 。
①能与浓溴水反应产生白色沉淀
②核磁共振氢谱有4种峰
（4）
能发生银镜反应，该反应的化学方程式是 。
（5）A的结构简式是 ，关于A的性质下列说法正确的是 （填字母）。
a．存在顺反异构
b．是通过加聚反应生成
c．能使KMnO4（H+）溶液和Br2（CCl4）溶液褪色
d．能发生取代反应、氧化反应、还原反应、加成反应
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[化学一选修5：有机化学基础]
聚乙烯醇肉桂酸酯(M)可用作光刻工艺中的抗腐蚀涂层，其合成路线如下：
-
请回答：
（1）C的化学名称为____；M中含氧官能团的名称为____。
（2）F-G的反应类型为____ ；检验产物G中新生成官能团的实验方法为_____________________________________________
（3）C-D的化学反应方程式为 ____。
（4）E的结构简式为____；H的顺式结构简式为____。
（5）同时满足下列条件的F的同分异构体有____种（不考虑立体异构）；
①属于芳香族化合物 ②能发生水解反应和银镜反应。其中核磁共振氢谱有4种吸收峰的物质的结构简式为 （任写一种）。
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聚乙烯醇肉桂酸酯(M)可用作光刻工艺中的抗腐蚀涂层，其合成路线如下：
已知:
请回答：
(1)B的化学名称为_______________；M中含氧官能团的名称为_______________；F→G的反应类型为____________________。
(2)C→D的化学反应方程式为_________________________________________。
(3)E的结构简式为_______________；H的顺式结构简式为___________________。
(4)同时满足下列条件的F的同分异构体有_________种(不考虑立体异构)：①属于芳香族化合物；②能发生水解反应和银镜反应。写出其中一种核磁共振氢谱有4种吸收峰，其峰面积之比为6:2:1:1的物质的结构简式_________。
(5)参照上述合成路线和相关信息，以乙烯和乙醛为原料(无机试剂任选)合成有机物
， 设计合成路线_____________。
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聚乙烯醇肉桂酸酯(M)可用作光刻工艺中的抗腐蚀涂层，其合成路线如下：
已知：R1—CHO＋R2—CH2CHO
CHOHR1CHCHOR2
请回答：
(1)C的化学名称为______________；M中含氧官能团的名称为____________。
(2)F→G的反应类型为__________；
检验产物G中新生成官能团的实验方法为______________________________。
(3)C→D的化学方程式为________________________________________。
(4)E的结构简式为_______________________；
H的顺式结构简式为_____________________________。
(5)同时满足下列条件的F的同分异构体有________种(不考虑立体异构)；
①属于芳香族化合物 ②能发生水解反应和银镜反应
其中核磁共振氢谱有4种吸收峰的物质的结构简式为_________________(任写一种)。
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聚乙烯醇肉桂酸酯(M)可用作光刻工艺中的抗腐蚀涂层，其合成路线如下：
已知：R1-CHO+R2-CH2CHO
请回答：
(1)B的化学名称为__________；M中含氧官能团的名称为__________；F→G的反应类型为_____________________________________。
(2)C→D的化学反应方程式为__________________________。
(3)H的顺式结构简式为__________________。
(4)同时满足下列条件的F的同分异构体有________种(不考虑立体异构)：①属于芳香族化合物；②能发生水解反应和银镜反应。写出其中一种核磁共振氢谱有4种吸收峰，且峰面积之比为6∶2∶1∶1的物质的结构简式________________________。
(5)参照上述合成路线和相关信息，以乙烯和乙醛为原料(无机试剂任选)合成有机物如图所示，设计合成路线__________________________
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聚乙烯醇肉桂酯(M)可用作光刻工艺中的抗腐蚀涂层，其合成路线如下：
已知：
请回答：
(1)化合物A的质谱图如下图所示，则A的化学名称为________。
(2)高分子化合物D的单体是_______；M中含氧官能团的名称为____________。
(3)F→G的化学反应类型为__________；检验产物G中新生成官能团的实验方法为___________________。
(4)C→D的化学方程式为___________________________。
(5)E的结构简式为________；H的顺式结构简式为___________。
(6)同时满足下列条件的F的同分异构体有________种(不考虑立体异构)；
①属于芳香族化合物②能发生水解反应和银镜反应。其中核磁共振氢谱有4种吸收峰的物质的结构简式为_________(任写一种)。
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高聚物H可用于光刻工艺中，作抗腐蚀涂层。下面是高聚物H的合成路线：
Ⅱ.反应③属于加聚反应 Ⅲ.D属于高分子化合物，
请回答下列问题：
(1)反应⑤的条件是_______________；E的分子式为__________________；
(2)C中含有的官能团的名称是________________ ；
(3)芳香烃M与A的实验式相同，经测定M的核磁共振氢谱有5组峰且峰面积比为1:1:2:2:2,则M的结构简式为_____________ ；推测M可能发生的反应类型是___________；(写出一种即可)
(4)反应⑦的化学方程式为___________________________________________________ ；
(5)D和G反应生成H的化学方程式为___________________________________________ ；
(6)G的同分异构体中，与G具有相同官能团的芳香族化合物还有__________种(不考虑立体异构)。
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高聚物 H 可用于光刻工艺中，作抗腐蚀涂层。下列是高聚物 H 的一种合成路线：
已知：①D 属于高分子化合物；
请回答下列问题：
(1)A 的化学名称为 ____。
(2)B 中含氧官能团的名称是 ____。
(3)由 A 生成 B 和 Y 生成 E 的反应类型分别为_________ 。
(4)由 F 生成 G 的化学方程式为_____ 。
(5)H 的结构简式为_____。
(6)只有一种官能团的芳香化合物 W 是 G 的同分异构体，W 能发生银镜反应，其中核磁共振氢谱为四组峰，峰面积 比为 3∶2∶2∶1 的结构简式为_____。
(7)参照上述合成路线，设计由对二甲苯和乙酸为原料制备 
的合成路线(无机 试剂任选) ____。
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