高聚物 H 可用于光刻工艺中,作抗腐蚀涂层。下列是高聚物 H 的一种合成路线:
已知:①D 属于高分子化合物;
请回答下列问题:
(1)A 的化学名称为 ____。
(2)B 中含氧官能团的名称是 ____。
(3)由 A 生成 B 和 Y 生成 E 的反应类型分别为_________ 。
(4)由 F 生成 G 的化学方程式为_____ 。
(5)H 的结构简式为_____。
(6)只有一种官能团的芳香化合物 W 是 G 的同分异构体,W 能发生银镜反应,其中核磁共振氢谱为四组峰,峰面积 比为 3∶2∶2∶1 的结构简式为_____。
(7)参照上述合成路线,设计由对二甲苯和乙酸为原料制备 的合成路线(无机 试剂任选) ____。
高三化学综合题困难题
高聚物 H 可用于光刻工艺中,作抗腐蚀涂层。下列是高聚物 H 的一种合成路线:
已知:①D 属于高分子化合物;
请回答下列问题:
(1)A 的化学名称为 ____。
(2)B 中含氧官能团的名称是 ____。
(3)由 A 生成 B 和 Y 生成 E 的反应类型分别为_________ 。
(4)由 F 生成 G 的化学方程式为_____ 。
(5)H 的结构简式为_____。
(6)只有一种官能团的芳香化合物 W 是 G 的同分异构体,W 能发生银镜反应,其中核磁共振氢谱为四组峰,峰面积 比为 3∶2∶2∶1 的结构简式为_____。
(7)参照上述合成路线,设计由对二甲苯和乙酸为原料制备 的合成路线(无机 试剂任选) ____。
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高聚物H可用于光刻工艺中,作抗腐蚀涂层。下面是高聚物H的合成路线:
Ⅱ.反应③属于加聚反应 Ⅲ.D属于高分子化合物,
请回答下列问题:
(1)反应⑤的条件是_______________;E的分子式为__________________;
(2)C中含有的官能团的名称是________________ ;
(3)芳香烃M与A的实验式相同,经测定M的核磁共振氢谱有5组峰且峰面积比为1:1:2:2:2,则M的结构简式为_____________ ;推测M可能发生的反应类型是___________;(写出一种即可)
(4)反应⑦的化学方程式为___________________________________________________ ;
(5)D和G反应生成H的化学方程式为___________________________________________ ;
(6)G的同分异构体中,与G具有相同官能团的芳香族化合物还有__________种(不考虑立体异构)。
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(17分)聚乙烯醇肉桂酸酯(A)可用于光刻工艺中做抗腐蚀涂层。下面是一种合成该有机物的路线:
已知:
请回答:
(1)反应①是加聚反应,B的结构简式是 。B中的官能团的名称为
(2)反应②的反应方程式是 ;反应类型是 。
(3)E的分子式为C7H8O,E的名称是 ,其中符合下列条件的E的同分异构体的结构简式是 。
① 能与浓溴水反应产生白色沉淀 ②核磁共振氢谱有4种峰
(4)能发生银镜反应,该反应的化学方程式是 。
(5)A的结构简式是 ,关于A的性质下列说法正确的是 (填字母)。
a.存在顺反异构
b.是通过加聚反应生成
c.能使KMnO4(H+)溶液和Br2(CCl4)溶液褪色
d.能发生取代反应、氧化反应、还原反应、加成反应
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聚乙烯醇肉桂酸酯(A)可用于光刻工艺中做抗腐蚀涂层。下面是一种合成该有机物的路线:
已知:
请回答:
(1)CH3COOH中的含氧官能团的名称为 ;其电离方程式是______。
(2)反应①是加聚反应,B的结构简式是 。
(3)反应②的反应类型是 。
(4)E的分子式为C7H8O,符合下列条件的E的同分异构体的结构简式是 。
① 能与浓溴水反应产生白色沉淀 ②核磁共振氢谱有4种峰
(5) 能与新制的Cu(OH)2反应,该反应的化学方程式是 。
(6)关于D的性质下列说法正确的是 (填字母)。
a.存在顺反异构
b.溶液呈酸性,能与Na和NaOH溶液反应
c.能使KMnO4(H+)溶液和Br2(CCl4)溶液褪色
d.能发生银镜反应、酯化反应、加成反应和消去反应
(7)反应③的化学方程式是 。
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聚乙烯醇肉桂酯(M)可用作光刻工艺中的抗腐蚀涂层,其合成路线如下:
已知:
请回答:
(1)化合物A的质谱图如下图所示,则A的化学名称为________。
(2)高分子化合物D的单体是_______;M中含氧官能团的名称为____________。
(3)F→G的化学反应类型为__________;检验产物G中新生成官能团的实验方法为___________________。
(4)C→D的化学方程式为___________________________。
(5)E的结构简式为________;H的顺式结构简式为___________。
(6)同时满足下列条件的F的同分异构体有________种(不考虑立体异构);
①属于芳香族化合物②能发生水解反应和银镜反应。其中核磁共振氢谱有4种吸收峰的物质的结构简式为_________(任写一种)。
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(19分)聚乙烯醇肉桂酸酯(A)可用于光刻工艺中做抗腐蚀涂层。下面是一种合成该有机物的路线:
请回答:
(1)反应①是加聚反应,B的结构简式是 ,B中官能团的名称为 。
(2)反应②的反应方程式是 ;反应类型是 。
(3)E的分子式为C7H8O,E的名称是 ,其中符合下列条件的E的同分异构体的结构简式是 。
①能与浓溴水反应产生白色沉淀
②核磁共振氢谱有4种峰
(4)能发生银镜反应,该反应的化学方程式是 。
(5)A的结构简式是 ,关于A的性质下列说法正确的是 (填字母)。
a.存在顺反异构
b.是通过加聚反应生成
c.能使KMnO4(H+)溶液和Br2(CCl4)溶液褪色
d.能发生取代反应、氧化反应、还原反应、加成反应
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聚乙烯醇肉桂酸酯(M)可用作光刻工艺中的抗腐蚀涂层,其合成路线如下:
已知:R1—CHO+R2—CH2CHOCHOHR1CHCHOR2
请回答:
(1)C的化学名称为______________;M中含氧官能团的名称为____________。
(2)F→G的反应类型为__________;
检验产物G中新生成官能团的实验方法为______________________________。
(3)C→D的化学方程式为________________________________________。
(4)E的结构简式为_______________________;
H的顺式结构简式为_____________________________。
(5)同时满足下列条件的F的同分异构体有________种(不考虑立体异构);
①属于芳香族化合物 ②能发生水解反应和银镜反应
其中核磁共振氢谱有4种吸收峰的物质的结构简式为_________________(任写一种)。
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聚乙烯醇肉桂酸酯(M)可用作光刻工艺中的抗腐蚀涂层,其合成路线如下:
已知:
请回答:
(1)B的化学名称为_______________;M中含氧官能团的名称为_______________;F→G的反应类型为____________________。
(2)C→D的化学反应方程式为_________________________________________。
(3)E的结构简式为_______________;H的顺式结构简式为___________________。
(4)同时满足下列条件的F的同分异构体有_________种(不考虑立体异构):①属于芳香族化合物;②能发生水解反应和银镜反应。写出其中一种核磁共振氢谱有4种吸收峰,其峰面积之比为6:2:1:1的物质的结构简式_________。
(5)参照上述合成路线和相关信息,以乙烯和乙醛为原料(无机试剂任选)合成有机物, 设计合成路线_____________。
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聚乙烯醇肉桂酸酯(M)可用作光刻工艺中的抗腐蚀涂层,其合成路线如下:
已知:R1-CHO+R2-CH2CHO
请回答:
(1)B的化学名称为__________;M中含氧官能团的名称为__________;F→G的反应类型为_____________________________________。
(2)C→D的化学反应方程式为__________________________。
(3)H的顺式结构简式为__________________。
(4)同时满足下列条件的F的同分异构体有________种(不考虑立体异构):①属于芳香族化合物;②能发生水解反应和银镜反应。写出其中一种核磁共振氢谱有4种吸收峰,且峰面积之比为6∶2∶1∶1的物质的结构简式________________________。
(5)参照上述合成路线和相关信息,以乙烯和乙醛为原料(无机试剂任选)合成有机物如图所示,设计合成路线__________________________
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[化学一选修5:有机化学基础]
聚乙烯醇肉桂酸酯(M)可用作光刻工艺中的抗腐蚀涂层,其合成路线如下:
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请回答:
(1)C的化学名称为____;M中含氧官能团的名称为____。
(2)F-G的反应类型为____ ;检验产物G中新生成官能团的实验方法为_____________________________________________
(3)C-D的化学反应方程式为 ____。
(4)E的结构简式为____;H的顺式结构简式为____。
(5)同时满足下列条件的F的同分异构体有____种(不考虑立体异构);
①属于芳香族化合物 ②能发生水解反应和银镜反应。其中核磁共振氢谱有4种吸收峰的物质的结构简式为 (任写一种)。
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