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高聚物 H 可用于光刻工艺中,作抗腐蚀涂层。下列是高聚物 H 的一种合成路线:

已知:①D 属于高分子化合物;

请回答下列问题:

(1)A 的化学名称为 ____。

(2)B 中含氧官能团的名称是 ____。

(3)由 A 生成 B 和 Y 生成 E 的反应类型分别为_________ 。

(4)由 F 生成 G 的化学方程式为_____   。

(5)H 的结构简式为_____。

(6)只有一种官能团的芳香化合物 W 是 G 的同分异构体,W 能发生银镜反应,其中核磁共振氢谱为四组峰,峰面积 比为 3∶2∶2∶1 的结构简式为_____。

(7)参照上述合成路线,设计由对二甲苯和乙酸为原料制备 的合成路线(无机 试剂任选) ____。

高三化学综合题困难题

少年,再来一题如何?
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