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聚乙烯醇肉桂酸酯(M)可用作光刻工艺中的抗腐蚀涂层,其合成路线如下:

已知:R1—CHO+R2—CH2CHOCHOHR1CHCHOR2

请回答:

(1)C的化学名称为______________;M中含氧官能团的名称为____________。

(2)F→G的反应类型为__________;

检验产物G中新生成官能团的实验方法为______________________________。

(3)C→D的化学方程式为________________________________________。

(4)E的结构简式为_______________________;

H的顺式结构简式为_____________________________。

(5)同时满足下列条件的F的同分异构体有________种(不考虑立体异构);

①属于芳香族化合物 ②能发生水解反应和银镜反应

其中核磁共振氢谱有4种吸收峰的物质的结构简式为_________________(任写一种)。

高三化学推断题困难题

少年,再来一题如何?
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