近年来,我国的电子工业迅速发展,造成了大量的电路板蚀刻废液的产生和排放。蚀刻液主要有酸性的(HCl-H2O2)、传统的FeCl3型(HCl-FeCl3)等方法.蚀刻废液中含有大量的Cu2+,废液的回收利用可减少铜资源的流失.几种蚀刻废液的常用处理方法如下:
(1)FeCl3型酸性废液用还原法处理是利用Fe和Cl2分别作为还原剂和氧化剂,可回收铜并使蚀刻液再生。发生的主要化学反应有:Fe+Cu2+=Fe2++Cu、Fe+2H+=Fe2++H2↑,还有_______________、__________________.(用离子方程式表示)。
(2)HCl-H2O2型蚀刻液蚀刻过程中发生的化学反应用化学方程式可表示为:__________。
(3)处理H2O2型酸性废液回收Cu2(OH)2CO3的过程中需控制反应的温度,当温度高于80℃时,产品颜色发暗,其原因可能是____________________________________。
高一化学综合题中等难度题
近年来,我国的电子工业迅速发展,造成了大量的电路板蚀刻废液的产生和排放。蚀刻液主要有酸性的(HCl-H2O2)、传统的FeCl3型(HCl-FeCl3)等方法.蚀刻废液中含有大量的Cu2+,废液的回收利用可减少铜资源的流失.几种蚀刻废液的常用处理方法如下:
(1)FeCl3型酸性废液用还原法处理是利用Fe和Cl2分别作为还原剂和氧化剂,可回收铜并使蚀刻液再生。发生的主要化学反应有:Fe+Cu2+=Fe2++Cu、Fe+2H+=Fe2++H2↑,还有_______________、__________________.(用离子方程式表示)。
(2)HCl-H2O2型蚀刻液蚀刻过程中发生的化学反应用化学方程式可表示为:__________。
(3)处理H2O2型酸性废液回收Cu2(OH)2CO3的过程中需控制反应的温度,当温度高于80℃时,产品颜色发暗,其原因可能是____________________________________。
高一化学综合题中等难度题查看答案及解析
近年来,我国的电子工业迅速发展,造成了大量的电路板蚀刻废液的产生和排放.蚀刻液主要有酸性的(HCl-H2O2)、传统的FeCl3型(HCl-FeCl3)等方法。蚀刻废液中含有大量的Cu2+,废液的回收利用可减少铜资源的流失。几种蚀刻废液的常用处理方法如下:
(1)FeCl3型酸性废液用还原法处理是利用Fe和Cl2分别作为还原剂和氧化剂,可回收铜并使蚀刻液再生。发生的主要化学反应有:Fe+Cu2+=Fe2++Cu、Fe+2H+=Fe2++H2↑,还有__________、__________(用离子方程式表示).
(2)HCl-H2O2型蚀刻液在蚀刻电路板过程中发生的化学反应用化学方程式可表示为:______________。
(3)处理H2O2型酸性废液回收Cu2(OH)2CO3的过程中需控制反应的温度,当温度高于80℃时,产品颜色发暗,其原因可能是______________.
高一化学填空题简单题查看答案及解析
(2015秋•桃源县校级月考)电子工业中用过量的FeCl3溶液溶解电路板中的铜箔时,会产生大量废液.由该废液回收铜并得到净水剂(FeCl3•6H2O)的步骤如下:
I.在废液中加入过量铁粉,过滤;
II.向I的滤渣中加入过量试剂A,充分反应后,过滤,得到铜;
III.合并I和II中的滤液,不断通入氯气至完全反应;
IV. ,得到FeCl3•6H2O晶体.
(1)用FeCl3溶液腐蚀铜箔的离子方程式是 .
(2)试剂A是 .
(3)步骤III反应过程中既有Fe2+又有Fe3+,如果要验证滤液中铁元素的存在形式,可另取反应过程中的两份滤液分别进行实验,实验方法、现象与结论如下表,请将其补充完整.可供选择的试剂:
a.酸性KMnO4 b.NaOH溶液 c.KSCN溶液 d.氯水
实验方法 | 实验现象 | 结论 |
步骤1:在滤液中加入 (填字母) | 滤液中有Fe3+ | |
步骤2:在滤液中加入 (填字母) | 滤液中有Fe2+ |
(4)完成步骤IV需要用到的实验装置是 (填字母).
高一化学实验题极难题查看答案及解析
电子工业中用过量的FeCl3溶液溶解电路板中的铜箔时,会产生大量废液。由该废液回收铜并得到净水剂(FeCl3•6H2O)的步骤如下:
I.在废液中加入过量铁粉,过滤;
II.向I的滤渣中加入过量试剂A,充分反应后,过滤,得到铜;
III.合并I和II中的滤液,通入足量氯气;
IV.……,得到FeCl3•6H2O晶体。
(1)用FeCl3溶液腐蚀铜箔的离子方程式是_____________;
(2)试剂A是______;
(3)取少量步骤III所得的溶液于试管中,能够证明通入氯气足量的是______;
a. 检验Cl2的存在 b. 检验Fe3+的存在 c. 检验Fe2+的不存在
(4)完成步骤IV需要用到的实验装置是______(填字母)。
abcd
高一化学实验题简单题查看答案及解析
电子工业中用过量的FeCl3溶液溶解电路板中的铜箔时,会产生大量废液。由该废液回收铜并得到净水剂(FeCl3•6H2O)的步骤如下:
I.在废液中加入过量铁粉,过滤;
II.向I的滤渣中加入过量试剂A,充分反应后,过滤,得到铜;
III.合并I和II中的滤液,通入足量氯气;
IV.……,得到FeCl3•6H2O晶体。
(1)用FeCl3溶液腐蚀铜箔的离子方程式是_____________;
(2)试剂A是______;
(3)取少量步骤III所得的溶液于试管中,能够证明通入氯气足量的是______;
a. 检验Cl2的存在 b. 检验Fe3+的存在 c. 检验Fe2+的不存在
(4)完成步骤IV需要用到的实验装置是______(填字母)。
abcd
高一化学实验题简单题查看答案及解析
电子工业中用过量的FeCl3溶液溶解电路板中的铜箔时,会产生大量废液。由该废液回收铜并得到净水剂(FeCl3•6H2O)的步骤如下:
(2)I中加入过量Fe粉 ,然后过滤,滤渣中有Cu、Fe,为了得到纯净铜,不产生新的杂质,试剂A应是HCl。.在废液中加入过量铁粉,过滤;
II.向I的滤渣中加入过量试剂A,充分反应后,过滤,得到铜;
III.合并I和II中的滤液,通入足量氯气;
IV.……,得到FeCl3•6H2O晶体。
(1)用FeCl3溶液腐蚀铜箔的离子方程式是 。
(2)试剂A是 。
(3)取少量步骤III所得的溶液于试管中,能够证明通入氯气足量的是 。
a.检验Cl2的存在 b检验Fe3+的存在 c.检验Fe2+的不存在
(4)完成步骤IV需要用到的实验装置是 (填字母)。
高一化学实验题中等难度题查看答案及解析
铁是人类比较早使用的金属之一。完成下列问题:
Ⅰ.电子工业中用30%的FeCl3 溶液蚀刻铜箔制造电路板的工艺中,废液处理和资源回收的过程如图所示。
(1)FeCl3 溶液蚀刻铜箔反应的离子方程式为:___________________________;
(2)滤液中存在较多的阳离子是____________________;
(3)以下试剂也可以替代氯气完成转化,最好选用的是________(填序号)。
a.酸性KMnO4溶液 b.溴水 c.H2O2 溶液
Ⅱ.某氯化铁样品中含有少量FeCl2杂质,现要测定其中铁元素的质量分数,实验步骤如下:
(4)操作Ⅰ所用到的玻璃仪器除烧杯、玻璃棒外,还必须有_________________________(填仪器名称)。
(5)写出②加入过量氨水的离子方程式:_____________________。
(6)样品中铁元素的质量分数为________________。
(7)若沉淀灼烧不充分,对最终测量结果的影响:________________(填“偏大”“偏小”或“无影响”)。
高一化学工业流程中等难度题查看答案及解析
高一化学解答题中等难度题查看答案及解析
工业污水的任意排放是造成水质恶化的最大隐患。检测某工厂废液中含有大量Mg2+、Al3+、 Cu2+、Ag+。试分析回答下列问题:
(1)该废液中可能大量存在的—种阴离子是_______(填序号);
A. SO42- B.NO3- C.Cl- D.CO32-
(2)为检测废液中铝元素的含量需将其从废水样品中分离出来,所用的试剂是_______________;铝元素发生变化的离子方程式是______________;
高一化学填空题中等难度题查看答案及解析
下列说法不正确的是
A.CO2的大量排放会加剧温室效应
B.造成酸雨的物质只有SO2
C.大气污染物主要来自化石燃料和工业生产过程产生的废气
D.水华、赤潮等水体污染是由于含氮、磷的大量污水任意排放造成的
高一化学选择题简单题查看答案及解析