（2015秋•桃源县校级月考）电子工业中用过量的FeCl3溶液溶解电路板中的铜箔时，会产生大量废液．由该废液回收铜并得到净水剂（FeCl3•6H2O）的步骤如下：
I．在废液中加入过量铁粉，过滤；
II．向I的滤渣中加入过量试剂A，充分反应后，过滤，得到铜；
III．合并I和II中的滤液，不断通入氯气至完全反应；
IV． ，得到FeCl3•6H2O晶体．
（1）用FeCl3溶液腐蚀铜箔的离子方程式是 ．
（2）试剂A是 ．
（3）步骤III反应过程中既有Fe2+又有Fe3+，如果要验证滤液中铁元素的存在形式，可另取反应过程中的两份滤液分别进行实验，实验方法、现象与结论如下表，请将其补充完整．可供选择的试剂：
a．酸性KMnO4 b．NaOH溶液 c．KSCN溶液 d．氯水
| 实验方法 | 实验现象 | 结论 |
| 步骤1：在滤液中加入 （填字母） | 滤液中有Fe3+ | |
| 步骤2：在滤液中加入 （填字母） | 滤液中有Fe2+ |
（4）完成步骤IV需要用到的实验装置是 （填字母）．
高一化学实验题极难题
（2015秋•桃源县校级月考）电子工业中用过量的FeCl3溶液溶解电路板中的铜箔时，会产生大量废液．由该废液回收铜并得到净水剂（FeCl3•6H2O）的步骤如下：
I．在废液中加入过量铁粉，过滤；
II．向I的滤渣中加入过量试剂A，充分反应后，过滤，得到铜；
III．合并I和II中的滤液，不断通入氯气至完全反应；
IV． ，得到FeCl3•6H2O晶体．
（1）用FeCl3溶液腐蚀铜箔的离子方程式是 ．
（2）试剂A是 ．
（3）步骤III反应过程中既有Fe2+又有Fe3+，如果要验证滤液中铁元素的存在形式，可另取反应过程中的两份滤液分别进行实验，实验方法、现象与结论如下表，请将其补充完整．可供选择的试剂：
a．酸性KMnO4 b．NaOH溶液 c．KSCN溶液 d．氯水
| 实验方法 | 实验现象 | 结论 |
| 步骤1：在滤液中加入 （填字母） | 滤液中有Fe3+ | |
| 步骤2：在滤液中加入 （填字母） | 滤液中有Fe2+ |
（4）完成步骤IV需要用到的实验装置是 （填字母）．
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电子工业中用过量的FeCl3溶液溶解电路板中的铜箔时，会产生大量废液。由该废液回收铜并得到净水剂（FeCl3•6H2O）的步骤如下：
(2)I中加入过量Fe粉 ，然后过滤，滤渣中有Cu、Fe，为了得到纯净铜，不产生新的杂质，试剂A应是HCl。.在废液中加入过量铁粉，过滤；
II.向I的滤渣中加入过量试剂A，充分反应后，过滤，得到铜；
III.合并I和II中的滤液，通入足量氯气；
IV.……，得到FeCl3•6H2O晶体。
（1）用FeCl3溶液腐蚀铜箔的离子方程式是 。
（2）试剂A是 。
（3）取少量步骤III所得的溶液于试管中，能够证明通入氯气足量的是 。
a.检验Cl2的存在 b检验Fe3+的存在 c.检验Fe2+的不存在
（4）完成步骤IV需要用到的实验装置是 （填字母）。
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电子工业中用过量的FeCl3溶液溶解电路板中的铜箔时，会产生大量废液。由该废液回收铜并得到净水剂（FeCl3•6H2O）的步骤如下：
I.在废液中加入过量铁粉，过滤；
II.向I的滤渣中加入过量试剂A，充分反应后，过滤，得到铜；
III.合并I和II中的滤液，通入足量氯气；
IV.……，得到FeCl3•6H2O晶体。
（1）用FeCl3溶液腐蚀铜箔的离子方程式是_____________；
（2）试剂A是______；
（3）取少量步骤III所得的溶液于试管中，能够证明通入氯气足量的是______；
a. 检验Cl2的存在 b. 检验Fe3+的存在 c. 检验Fe2+的不存在
（4）完成步骤IV需要用到的实验装置是______（填字母）。
a
b
c
d
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电子工业中用过量的FeCl3溶液溶解电路板中的铜箔时，会产生大量废液。由该废液回收铜并得到净水剂（FeCl3•6H2O）的步骤如下：
I.在废液中加入过量铁粉，过滤；
II.向I的滤渣中加入过量试剂A，充分反应后，过滤，得到铜；
III.合并I和II中的滤液，通入足量氯气；
IV.……，得到FeCl3•6H2O晶体。
（1）用FeCl3溶液腐蚀铜箔的离子方程式是_____________；
（2）试剂A是______；
（3）取少量步骤III所得的溶液于试管中，能够证明通入氯气足量的是______；
a. 检验Cl2的存在 b. 检验Fe3+的存在 c. 检验Fe2+的不存在
（4）完成步骤IV需要用到的实验装置是______（填字母）。
a
b
c
d
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铁是人类比较早使用的金属之一。完成下列问题：
Ⅰ．电子工业中用30%的FeCl3 溶液蚀刻铜箔制造电路板的工艺中，废液处理和资源回收的过程如图所示。
（1）FeCl3 溶液蚀刻铜箔反应的离子方程式为：___________________________；
（2）滤液中存在较多的阳离子是____________________；
（3）以下试剂也可以替代氯气完成转化，最好选用的是________（填序号）。
a．酸性KMnO4溶液 b．溴水 c．H2O2 溶液
Ⅱ．某氯化铁样品中含有少量FeCl2杂质，现要测定其中铁元素的质量分数，实验步骤如下：
（4）操作Ⅰ所用到的玻璃仪器除烧杯、玻璃棒外，还必须有_________________________（填仪器名称）。
（5）写出②加入过量氨水的离子方程式：_____________________。
（6）样品中铁元素的质量分数为________________。
（7）若沉淀灼烧不充分，对最终测量结果的影响：________________（填“偏大”“偏小”或“无影响”）。
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电子工业常用30%的FeCl3溶液腐蚀敷在绝缘板上的铜箔，制造印刷电路板．得到的废液中含有Fe2+、Cu2+、Fe3+和Cl﹣．为回收铜并得到纯净的FeCl3溶液，下面是综合利用的主要流程：
（1）FeCl3溶液和铜反应的离子方程式为__。
（2）上述方框内物质A和X的化学式：A__，X__。上述流程中有关Fe2+和Fe3+相互转化的离子方程式是__、__。
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电子工业常用30%的FeCl3溶液腐蚀敷在绝缘板上的铜箔，制造印刷电路板。得到的废液中含有Fe2+、Cu2+ 、Fe3+和Cl-。为回收铜并得到纯净的FeCl3溶液，下面是综合利用的主要流程：
（1）FeCl3溶液和铜反应的离子方程式为________________________________________。
（2）上述方框内物质A和X的化学式：A______________，X______________。上述流程中有关Fe2+和Fe3+相互转化的离子方程式是______________、________________。
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电子工业中，常用FeCl3溶液腐蚀绝缘板上的铜箔，制造印刷电路板。某同学为了从腐蚀废液中回收铜，并重新获得FeCl3溶液，设计如下流程图
请回答下列问题：
（1）FeCl3溶液腐蚀铜箔反应的离子方程式为___________。
（2）固体A的成分是_______，气体C的化学式为____________。
（3）设计实验方案证明FeCl3溶液中的金属阳离子_____________。
（4）反应消耗铁粉11．2g，则废液中Fe3＋的物质的量浓度是____________。
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电子工业常用FeCl3溶液腐蚀绝缘板上的铜箔，制造印刷电路板。从腐蚀废液(主要含FeCl3、FeCl2、CuCl2 )中回收铜，并重新获得FeCl3溶液。废液处理流程如下：
(1)步骤(Ⅰ)中分离溶液和沉淀的操作名称是____________________；
(2)沉淀B中主要含有铁和__________，气体D是_________________；
(3)写出步骤(Ⅲ)中生成FeCl3的化学方程式_____________；
(4)取少量最终所得溶液滴加___________，溶液呈红色，证明有Fe3+存在。
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电子工业常用FeCl3溶液腐蚀绝缘板上的铜箔，制造印刷电路板。从腐蚀废液(主要含FeCl3、FeCl2、CuCl2 )中回收铜，并重新获得FeCl3溶液。废液处理流程如下：
（1）步骤(Ⅰ)中分离操作名称 是____________。
（2）沉淀B中主要含有_________，气体D是______________；
（3）写出步骤(Ⅲ)中生成FeCl3的化学方程式____________________；
（4）步骤(Ⅲ)中，将氯气换成H2O2也能达到同样的目的，写出H2O2将Fe2+氧化为Fe3+的离子方程式:_______________________。
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