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半导体工业会产生含氨氟酸的废水。完成下列填空:

(1)为了测定某含氢氟酸的废水中HF浓度,量取25.00 mL废水,滴入2~3滴酚酞试液,用0.0100 mol/L标准NaOH溶液滴定,用去26.00 mL。滴定终点的判断方法是_______________________。废水中的c(HF) =_________mol/L。 (精确到 0.0001)

(2)工业上用石灰乳处理含氢氟酸的废水,处理时要控制反应池中呈碱性,目的是_______。

(3)用石灰乳处理含氢氟酸的废水时,会得到含氟底泥(主要含CaF2、CaCO3、CaSO4),含氟底泥可用于制取氟化钙,其生产流程如下:

已知:氟化钙难溶于水,微溶于无机酸。

①“沉淀转化”的目的是将CaSO4转化为CaCO3,试从平衡移动的角度分析,沉淀能够转化的原理。____________________________________________________________。

②酸洗是为了除去CaCO3,酸洗时发生反应的离子方程式为______________________。

③最终得到的产品质量比底泥中CaF2的质量__________ (填“多"、“少”或“相等”),理由是____________________________________________________________。

高三化学工业流程中等难度题

少年,再来一题如何?
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