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氢氟酸可用于半导体工业，也常用来蚀刻玻璃，其刻蚀反应原理如下：6HF+Na2SiO3→2NaF+SiF4↑+3H2O
完成下列填空：
（1）根据HF的___（选填编号）大于H2O，可推断氟元素的非金属性强于氧元素。
a．酸性 b．熔沸点 c．稳定性 d．键的极性
（2）SiF4与甲烷结构相似，SiF4是含___键的___分子（均选填“极性”或“非极性”）。刻蚀反应中的三种元素可组成同时含离子键和共价键的化合物，该化合物的电子式为___。
（3）Si原子核外电子有___种不同能量的电子，其中最高能量的电子处于___轨道。
（4）在相同条件下，Na2SiO3、CaSiO3分别与等浓度等体积的氢氟酸反应，两个反应原理相似，但前者的反应速率明显大于后者。原因是___。
（5）同浓度的H2SO3和HF两溶液的pH为：H2SO3___HF（选填“＞”或“＜”）。浓度均为0.01mol/L的H2SO3和HF的1L混合溶液中，通入0.02molNH3充分反应后，SO32-、HSO3-、F-、NH4+浓度从大到小的顺序为：___。
已知：H2SO3 Ki1=1.54×10-2 Ki2=1.02×10-7；HF Ki=6.8×10-4；NH3•H2O Ki=1.8×10-5。
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有关物质用途，用离子方程式解释不正确的是
A. 氢氟酸刻蚀玻璃：SiO2+4HF=SiF4↑+2H2O
B. 明矾用于净水：Al3++3H2O=Al（OH）3↓+3H+
C. 纯碱去除油污：CO32-+H2O
HCO3-+OH-D. 氯气制备“84”消毒液：Cl2+2OH-=Cl-+ClO-+H2O
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下列反应的方程式正确的是( )
A．向沸水中滴加FeCl3溶液制备Fe(OH)3胶体：
Fe3＋＋3H2O
Fe(OH)3↓＋3H＋B．用氢氟酸蚀刻玻璃：4HF＋SiO2===SiF4↑＋2H2O
C．用浓盐酸与MnO2反应制Cl2：
MnO2＋2H＋＋2Cl－
Cl2↑＋Mn2＋＋H2OD．用FeCl3溶液腐蚀印刷电路板：
Fe3＋＋Cu===Fe2＋＋Cu2＋
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下列解释原理的表达式中，不正确的是 （ ）
A．镁的冶炼：
B．用热的纯碱溶液清洗油污：
C．用Na2CO3溶液处理水垢中的CaCO4:
D．用氢氟酸刻蚀玻璃：4HF+SiO2=SiF4↑+2H2O
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下列解释原理的表达式中，不正确的是（ ）
A．镁的冶炼：
B．用热的纯碱溶液清洗油污：
C．用Na2CO3溶液处理水垢中的CaSO4:
D．用氢氟酸刻蚀玻璃：4HF+SiO2=SiF4↑+2H2O
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下列有关物质性质或应用的说法正确的是（ ）
A．钠的金属性比钾强，工业上用钠制取钾（Na+KCl
K↑+NaCl）B．利用Al2O3制作的坩埚，可用于熔融烧碱
C．氢氟酸具有强酸性，用氢氟酸蚀刻玻璃
D．制水泥和玻璃都用石灰石作原料
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下列有关物质性质或应用的说法正确的是( )
A．钠的金属性比钾强，工业上用钠制取钾(Na+KCl
K↑+NaCl)B．利用Al2O3制作的坩埚，可用于熔融烧碱
C．氢氟酸具有强酸性，用氢氟酸蚀刻玻璃
D．制水泥和玻璃都用石灰石作原料
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下列有关物质性质与用途具有对应关系的是
A. 氢氟酸呈酸性，可用于在玻璃器皿上刻蚀标记
B. CaO能与SO2反应，可作工业废气脱硫剂
C. Na的熔点很低，可用于高温下与TiCl4反应制备Ti
D. Na2S具有还原性，可作废水中Cu2+和Hg2+的沉淀剂
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下列有关物质性质与用途具有对应关系的是
A.氢氟酸呈酸性，可用于在玻璃器皿上刻蚀标记
B.CaO能与SO2反应，可作工业废气脱硫剂
C.Na的熔点很低，可用于高温下与TiCl4反应制备Ti
D.Na2S具有还原性，可作废水中Cu2+和Hg2+的沉淀剂
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下列有关物质的性质与应用不相对应的是
A．氢氟酸易与SiO2反应，可用于刻蚀玻璃
B．Al和Fe2O3能发生铝热反应，可用于焊接钢轨
C．NH3具有碱性，可用NH3与灼热的CuO作用制取少量 N2
D．Fe具有良好的导电性，可用Fe作电解食盐水的阴极材料
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HCO3-+OH-
Fe(OH)3↓＋3H＋
K↑+NaCl）
K↑+NaCl)