有机物W用作调香剂、高分子材料合成的中间体等，制备W的一种合成路线如图．已知：请回答下列...

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有机物W用作调香剂、高分子材料合成的中间体等，制备W的一种合成路线如图．

已知：

请回答下列问题：

的化学名称是______，的反应类型是______

中含有的官能团是_______写名称，D聚合生成高分子化合物的结构简式为______

反应的化学方程式是______

芳香化合物N是A的同分异构体，其中核磁共振氢谱为三组峰的结构简式为______

参照有机物W的上述合成路线，设计以M为起始原料制备F的合成路线无机试剂任选示例：CH3CH2OHCH2=CH2BrCH2CH2Br]______

高三化学推断题困难题

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试题答案

试题解析

相关试题

有机物W用作调香剂、高分子材料合成的中间体等，制备W的一种合成路线如下。
已知：+CH3Cl+HCl
请回答下列问题：
（1）F的化学名称是__，②的反应类型是___。
（2）D中含有的官能团是__（写名称），D聚合生成高分子化合物的结构简式为___。
（3）反应③的化学方程式是___。
（4）反应⑥的化学方程式是___。
（5）芳香化合物N是A的同分异构体，其中核磁共振氢谱为三组峰的结构简式为___。
（6）参照有机物W的上述合成路线，设计以M为起始原料制备F的合成路线(无机试剂任选)___。
[示例：CH3CH2OHCH2=CH2BrCH2CH2Br]

高三化学计算题困难题查看答案及解析
有机物W用作调香剂、高分子材料合成的中间体等，制备W的一种合成路线如下。
已知：
请回答下列问题：
（1）F的化学名称是_________，②的反应类型是_________。
（2）D中含有的官能团是________________（写名称），D聚合生成高分子化合物的结构简式为_____________。
（3）反应③的化学方程式是______________________。
（4）反应⑥的化学方程式是______________________。
（5）芳香化合物N是A的同分异构体，其中核磁共振氢谱为三组峰的结构简式为
_______________。
（6）参照有机物W的上述合成路线，设计以M为起始原料制备F的合成路线(无机试剂任选)。[示例：]
____________________

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有机物W用作调香剂、高分子材料合成的中间体等，制备W的一种合成路线如下。
请回答下列问题：
（1）F的化学名称是________，⑤的反应类型是________。
（2）E中含有的官能团是________（写名称），D聚合生成高分子化合物的结构简式为________。
（3）将反应③得到的产物与O2在催化剂、加热的条件下反应可得D，写出反应④的化学方程式________。
（4）④、⑤两步能否颠倒？________（填“能”或“否”）理由是________。
（5）与A具有含有相同官能团的芳香化合物的同分异构体还有________种（不含立体异构），其中核磁共振氢谱为六组峰，且峰面积之比为1：1：2：2：2：2的结构简式为________。
（6）参照有机物W的上述合成路线，以M和CH3Cl为原料制备F的合成路线（无机试剂任选）________。

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有机物W用作调香剂、高分子材料合成的中间体等，制备W的一种合成路线如下。
已知：
请回答下列问题：
（1）F的化学名称是___________，⑤的反应类型是___________。
（2）E中含氧官能团是___________（写名称），D聚合生成高分子化合物的结构简式为___________。
（3）反应⑥的化学方程式是__________________________。
（4）反应③的化学方程式是__________________________。
（5）芳香化合物N是A的同分异构体，其中核磁共振氢谱为三组峰的结构简式为__________。
（6）参照有机物W的上述合成路线，设计以M为起始原料制备F的合成路线(无机试剂任选)。[示例：CH3CH2OH CH2=CH2 BrCH2CH2Br]___________________。

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有机物W（C16H14O2）用作调香剂、高分子材料合成的中间体等，制备W的一种合成路线如下：
已知：
请回答下列问题：
（1）F的化学名称是_______，⑤的反应类型是_______。
（2）E中含有的官能团是_______（写名称），E在一定条件下聚合生成高分子化合物，该高分子化合物的结构简式为_______。
（3）E + F→W反应的化学方程式为_______。
（4）与A含有相同官能团且含有苯环的同分异构体还有_______种（不含立体异构），其中核磁共振氢谱为六组峰，且峰面积之比为1∶1∶2∶2∶2∶2的结构简式为____。
（5）参照有机物W的上述合成路线，写出以M和CH3Cl为原料制备F的合成路线（无机试剂任选）_______。

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有机物W用作调香剂、高分子材料合成的中间体等，制备W的一种合成路线如下。
请回答下列问题：
（1）F的化学名称是________，⑤的反应类型是________。
（2）E中含有的官能团是________（写名称），D聚合生成高分子化合物的结构简式为________。
（3）将反应③得到的产物与O2在催化剂、加热的条件下反应可得D，写出反应④的化学方程式________。
（4）④、⑤两步能否颠倒？________（填“能”或“否”）理由是________。
（5）与A具有含有相同官能团的芳香化合物的同分异构体还有________种（不含立体异构），其中核磁共振氢谱为六组峰，且峰面积之比为1：1：2：2：2：2的结构简式为________。
（6）参照有机物W的上述合成路线，以M和CH3Cl为原料制备F的合成路线（无机试剂任选）________。

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有机物W用作调香剂、高分子材料合成的中间体等，制备W的一种合成路线如下。
请回答下列问题：
（1）F的化学名称是________，⑤的反应类型是________。
（2）E中含有的官能团是________（写名称），D聚合生成高分子化合物的结构简式为________。
（3）将反应③得到的产物与O2在催化剂、加热的条件下反应可得D，写出反应④的化学方程式________。
（4）④、⑤两步能否颠倒？________（填“能”或“否”）理由是________。
（5）与A具有含有相同官能团的芳香化合物的同分异构体还有________种（不含立体异构），其中核磁共振氢谱为六组峰，且峰面积之比为1：1：2：2：2：2的结构简式为________。
（6）参照有机物W的上述合成路线，以M和CH3Cl为原料制备F的合成路线（无机试剂任选）________。

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有机物W用作调香剂、高分子材料合成的中间体等，制备W的一种合成路线如下。
请回答下列问题：
（1）F的化学名称是________，⑤的反应类型是________。
（2）E中含有的官能团是________（写名称），D聚合生成高分子化合物的结构简式为________。
（3）将反应③得到的产物与O2在催化剂、加热的条件下反应可得D，写出反应④的化学方程式________。
（4）④、⑤两步能否颠倒？________（填“能”或“否”）理由是________。
（5）与A具有含有相同官能团的芳香化合物的同分异构体还有________种（不含立体异构），其中核磁共振氢谱为六组峰，且峰面积之比为1：1：2：2：2：2的结构简式为________。
（6）参照有机物W的上述合成路线，以N（分子式为C8H8且属于A的同系物）为原料制备的合成路线（无机试剂任选）_________。

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有机物W用作调香剂、高分子材料合成的中间体等，制备W的一种合成路线如下。
请回答下列问题：
（1）F的化学名称是________，⑤的反应类型是________。
（2）E中含有的官能团是________（写名称），D聚合生成高分子化合物的结构简式为________。
（3）将反应③得到的产物与O2在催化剂、加热的条件下反应可得D，写出反应④的化学方程式________。
（4）④、⑤两步能否颠倒？________（填“能”或“否”）理由是________。
（5）与A具有含有相同官能团的芳香化合物的同分异构体还有________种（不含立体异构），其中核磁共振氢谱为六组峰，且峰面积之比为1：1：2：2：2：2的结构简式为________。
（6）参照有机物W的上述合成路线，以N（分子式为C8H8且属于A的同系物）为原料制备的合成路线（无机试剂任选）_________。

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有机物W用作调香剂、高分子材料合成的中间体等，制备W的一种合成路线如下。
请回答下列问题：
（1）F的化学名称是_______________，①的反应类型是_______________。
（2）B中含有的官能团是_______________（写名称），
（3）D聚合生成高分子化合物的化学方程式为________________。
（4）反应③的化学方程式是___________________。
（5）芳香化合物N是A的同分异构体，其中核磁共振氢谱为三组峰的结构简式为_________________。
（6）分子式C9H10O2的有机物，其结构中含有苯环且可以与饱和NaHCO3溶液反应放出气体的同分异构体有__________________种(不考虑立体异构)。
（7）参照有机物W的上述合成路线，设计以M为起始原料制备F的合成路线(无机试剂任选)。____________

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