有机物A是一种重要的化工原料，用A制取新型聚合物F的合成路线如图：已知：ⅰ.+R3OHⅱ....

有机物A是一种重要的化工原料，用A制取新型聚合物F的合成路线如图：

已知：

ⅰ.+R3OH

ⅱ.+R1I+HI

ⅲ.R1COOR2+R3OHR1COOR3+R2OH

回答下列问题：

（1）A中官能团的结构简式为___。

（2）试剂a的名称___。1molD与足量的氢氧化钠溶液反应所需氢氧化钠的物质的量___。

（3）C中含有一个六元环，C的结构简式为___。

（4）C→D的反应类型为___。

（5）E→F的化学方程式是___。

（6）下列说法正确的是___（填序号）。

a.A能与NaHCO3溶液反应

b.醇钠可由醇与氢氧化钠反应制得

c.用FeCl3溶液不能鉴别D和E

d.HOCH2CH2OH俗称甘油

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是一种重要的化工原料，可用于合成可降解的高聚物PES树脂以及具有抗肿瘤活性的化合物K。

已知：

Ⅰ．R1CO18OR2+R3OH R1COOR3+R218OH

Ⅱ．R1OH+

Ⅲ．R1NH2+ +H2O

(R1、R2、R3代表烃基)

(1)B分子为环状结构，核磁共振氢谱只有一组峰，B的结构简式为___________。

(2)E分子中含有两个酯基，D生成E的化学方程式是__________。

(3)反应①的化学方程式为_____________。

(4)反应②所属的反应类型为___________。

(5)试剂a的结构简式为_______________。

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有机物G是合成某种耐热聚合物的单体，其合成方法如下：

已知：R1COOR2+R3OH RCOOR3+R2OH

（1）根据系统命名法，A的名称为___ ．

（2）上述流程中的取代反应除②、③外还有___（填序号）．第⑤步反应中，可使用含有18O的F，将之与C反应，并检测产物中18O的分布情况，从而推断反应机理，这种研究方法称为___ ．

（3）化合物E的核磁共振氢谱图中共有多个吸收峰，各峰的峰面积比为___ ．

（4）按下列合成路线可得到F的同分异构体H，则可鉴别H与F的试剂是___ ．

（5）C与足量NaOH溶液反应的化学方程式为___ ．

（6）J与C互为同分异构体，其具有如下性质．符合要求的有机物有___种（不考虑立体异构）

①能与NaOH溶液反应，且1mol J完全反应消耗4mol NaOH

②能发生银镜反应，且1mol J与足量的银氨溶液反应生成4mol Ag

③分子中苯环上的一氯取代物只有一种．

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用烃A合成高分子化合物N的过程如下：

已知：Ⅰ：

Ⅱ：

Ⅲ：R1COOR2+R3OH R1COOR3+R2OH  R1、R2、R3代表烃基或氢原子

回答下列问题：

（1）烃A的相对分子质量为26，A的结构简式是____________________________ 。

（2）B中所含官能团的名称是___________________________________________ 。

（3）C和D反应生成E的化学方程式是___________________________________ 。

（4）B和F反应生成G的化学方程式是___________________________________ 。

（5）H中含有一个甲基，H的结构简式是________________________________ 。

（6）E和K反应生成M的化学方程式是___________________________________ 。

（7）N和NaOH溶液反应的化学方程式是__________________________________ 。

（8）有机物Q是M的同分异构体，与M具有相同官能团，水解可以生成D，存在顺反异构，Q的顺式结构简式是______________________________________ 。

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芳香族化合物A是重要的有机化工原料。由A制备有机化合物F的合成路线(部分反应条件略去)如图所示。

已知：

(1)A的水溶液呈__________________(填“酸性”或“碱性”)。

(2)C的结构简式为________________________

(3)写出E→F反应的化学方程式:____________________________

(4)参照上述合成路线,设计一条以氯苯、乙醇为原料制备水杨酸乙酯()的合成路线流程图(无机试剂任用),相关信息:

________________________

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有机化合物M是一种治疗心脏病药物的重要中间体，以A为原料的工业合成路线如图所示．

已知：RONa+R′XROR′+NaX

根据题意完成下列填空：

（1）化合物M的化学式为　　　　 ，1mol化合物M完全燃烧消耗　　　　 mol氧气．

（2）写出反应类型：反应①　　　　 ．

（3）写出A、E的结构简式 　　　　　　 、 　　　　　 ．

（4）与　 分子式相同，且能使氯化铁溶液显紫色的同分异构体还有　　　　 种（不考虑立体异构），其中核磁共振氢谱为4组峰，且峰的面积比为2：2：1：3的结构简式（写出其中任意两种）是 　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　 ．

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苯酚是一种重要的化工原料，利用苯酚可以合成有机物中间体X和药物Y，合成路线如下图所示：

已知：

（1）下列说法正确的是________________(填序号）；

A．苯酚生成化合物A的反应为取代反应

B．化合物B可发生的反应类型有取代、加成、消去、氧化反应等

C．化合物C的1H—NMR谱显示分子中有3种不同化学环境的氢原子,峰面积之比为4：4：9

D．化合物A生成化合物B为还原反应

（2）写出化合物A生成化合物B的化学方程式：__________________；

（3）写出化合物F中的官能团名称_____________________；

（4）写出化合物A同时符合下列条件的其中1个同分异构体的结构简式：____________。

①苯环上有3个取代基； ②能与FeCl3溶液发生显色反应；

③1molA与浓溴水发生取代反应时能消耗3molBr2。

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（题文）某新型有机酰胺化合物M在工业生产中有重要的应用，其合成路线如下：

已知以下信息：

①A的相对分子质量为58，含氧的质量分数为0.552，已知核磁共振氢谱显示为一组峰，可发生银镜反应。

②

③R—COOH R—COCl

④

⑤

请回答下列问题：

（1）A的名称为____________，B中含有官能团名称为_____________。

（2）C→D的反应类型为__________________，生成G的“条件a”指的是___________________。

（3）E的结构简式为___________________。

（4）F+H→M的化学方程式为____________________________。

（5）芳香族化合物W有三个取代基，与C互为同分异构体，当W分别与Na、NaOH充分反应时，1mol W最多可消耗的Na、NaOH分别为2 mol、1mol。试分析W共有________种同分异构体，每一种同分异构体的核磁共振氢谱中有____________组峰。

（6）参照上述合成路线，以C2H4和HOCH2CH2OH为原料（无机试剂任选），设计制备的合成路线___________________。

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光刻胶是制造芯片、集成电路的关键材料。一种新型的光刻胶(高聚物)可由芳香化合物a、化合物b(b中氢的化学环境均相同)为原料制备，其合成路线如图：

已知：a、c均能与NaHCO3反应放出CO2。

下列说法错误的是(　 )

A.b的结构简式为CH3COCH3

B.c发生消去反应时的产物只有1种

C.d、e均能发生水解反应

D.反应③为加成聚合反应

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光刻胶是制造芯片、集成电路的关键材料。一种新型的光刻胶(高聚物)可由芳香化合物a、化合物b(b中氢的化学环境均相同)为原料制备，其合成路线如图：

已知：a、c均能与NaHCO3反应放出CO2。

下列说法错误的是(　 )

A.b的结构简式为CH3COCH3

B.c发生消去反应时的产物只有1种

C.d、e均能发生水解反应

D.反应③为加成聚合反应

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